第四章晶体缺陷
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第四部分晶体缺陷4.1- 4.2 点缺陷和位错的结构晶体缺陷(crystal defect; crystalline imperfection):通常把原子规则排列受到破坏的区域或原子排列偏离理想的点阵结构的区域称为晶体缺陷。
理想晶体结构:①原子排列完全规则、整齐;②原子在结点上静止不动。
实际晶体结构:①原子排列不可能完全规则、不完整性;②原子热运动。
★晶体缺陷产生的原因外因:①与晶体的生成条件有关如液-固②晶体中原子的热运动 T③对晶体进行的加工过程载荷、冷压、冷拉内因:多晶体,存在大量晶界实际晶体是原子的规则排列和不规则排列构成的统一体。
★研究晶体缺陷的意义对材料的性能有重要影响★晶体缺陷分类及特征:[1]点缺陷(point defect):又称零维缺陷,包括空位、间隙原子、置换原子和杂质原子。
[2]线缺陷(line defect):又称一维缺陷,如各类位错。
[3]面缺陷(planar defect):又称二维缺陷,包括表面、晶界、亚晶界、相界、孪晶界等。
★缺陷的运动随条件改变而变动,可产生、发展、运动和交互作用,并且能合并和消失。
4.1 点缺陷一、点缺陷的形成及类型离开平衡位置的原子有三个去处:(1)形成肖脱基(Schottky)空位(vacancy)——迁移到晶界、晶体表面或其它空位处(2)形成弗兰克尔(Frankely)缺陷,同时产生间隙原子——挤入晶体的间隙位置(3)跑到其它空位上点缺陷的类型:(1)空位(2)间隙原子(异类)(interstital atom):(3)自间隙原子(同类) (self- interstital atom )(4)外来杂质原子:(5)置换原子(substitutional atom) :二、点缺陷的平衡浓度∙空位形成能(vacancy formation energy):点缺陷的平衡浓度(equilibrium consistence):经热力学推导:Ce = n/N = exp[-(Ev-T△Sf)/Kt]= Aexp(-Ev/kT)Ce与T、Ev之间呈指数关系。