模具抛光等级表

抛光尺寸与粗拙度精度等级比较表
抛光种类(金刚砂尺
AARH(μ日本粗拙度表
寸
Ra(μm)Rmax(μm)
或砂粒尺寸)in)示
60#125▽▽
180#63▽▽▽
220#48▽▽▽
250#32▽▽▽
300#16▽▽▽
350#10▽▽▽
400#8▽▽▽▽
600#4▽▽▽▽
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术均匀值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上二者间的关系大体是Rmax=4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=μin
倒三角是日本的粗拙度，一个三角是是μm，两个三角就是μm
国标新旧标准比较：
表面光洁度14级=Ra
表面光洁度13级=Ra
表面光洁度12级=Ra
表面光洁度11级=Ra 表面光洁度10级=Ra 表面光洁度9级=Ra 表面光洁度8级=Ra 表面光洁度7级=Ra 表面光洁度6级=Ra
表面光洁度5级=Ra
表面光洁度4级=Ra
表面光洁度3级=Ra25
表面光洁度2级=Ra50
表面光洁度1级=Ra100
以上表面粗拙度单位均为μm,即微米。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。

精品文档word文档可以编辑！谢谢下载！。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0。

012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0。

1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0。

4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6。

3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。

抛光尺寸与粗拙度精度品级对比表之蔡仲巾千创作
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值Rmax是在取样长度内最年夜峰高与最年夜谷深的高度差Rmax和Ra没有直接关系, 统计上两者间的关系年夜概是Rmax = 4Ra
国标新旧标准对比：
概况光洁度14级=Ra 0.012
概况光洁度13级=Ra 0.025
概况光洁度12级=Ra 0.050
概况光洁度11级=Ra 0.1
概况光洁度10级=Ra 0.2
概况光洁度9级=Ra 0.4
概况光洁度8级=Ra 0.8
概况光洁度7级=Ra 1.6
概况光洁度6级=Ra 3.2
概况光洁度5级=Ra 6.3
概况光洁度4级=Ra 12.5
概况光洁度3级=Ra 25
概况光洁度2级=Ra 50
概况光洁度1级=Ra 100
以上概况粗拙度单元均为μm,即微米.。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表之南宫帮珍创作
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
国标新旧尺度对照：
概况光洁度14级=Ra 0.012
概况光洁度13级=Ra 0.025
概况光洁度12级=Ra 0.050
概况光洁度11级=Ra 0.1
概况光洁度10级=Ra 0.2
概况光洁度9级=Ra 0.4
概况光洁度8级=Ra 0.8
概况光洁度7级=Ra 1.6
概况光洁度6级=Ra 3.2
概况光洁度5级=Ra 6.3
概况光洁度4级=Ra 12.5
概况光洁度3级=Ra 25
概况光洁度2级=Ra 50
概况光洁度1级=Ra 100
以上概况粗糙度单位均为μm,即微米。

模具抛光等级
模具抛光等级
模具抛光等级是用来衡量模具表面光洁度的技术标准，表示模具抛光的效果程度和抛
光质量的一种评价指标。

模具表面抛光等级，是通过观察磨光表面来判定磨光结果和磨光度。

模具抛光等级一共有7个等级，分别是I、II、III、IV、V、VI、VII，排列由低到高。

一级：表面较粗糙，不需要做任何抛光，通常是外型零件表面的自然状态，有明显的
斜面和划痕，可以直接到进行油漆，但是要求质量较低的表面。

二级：物理保护处理（TPP）和机械打磨处理（PMP）是最常用的抛光工艺。

其结果是，表面划痕减少，表面有一定的亮度，可以达到满足基本外观要求，但要求质量较低或中等
的表面外观。

三级：主要机械抛光，处理结果是表面光洁度有一定的改善，表面亮度有提高，划痕
状态大大减少，可以达到一般要求，但是高精度要求还未能满足。

四级：处理方式是钝化研磨处理＋气动抛光+叠加抛光，结果造型精度处于一定水平，表面光度有显著改善，表观样式美观。

五级：机械抛光、化学抛光和化学预处理处理，处理结果表面光度显著改善，质量一
般属于高品质的表面，达到一定的标准，满足一定的要求。

六级：处理方式是重磨处理、化学预处理，气动除尘＋气动抛光＋化学抛光，处理效
果是表面光洁度除去接触划痕和浮动模有显著改善，表面亮度约90%光洁，且抛光后具有
长期持久的蓝色现象。

七级：处理方式有重磨处理、气动抛光＋化学抛光、固态抛光，处理结果是表面光度
显著改善，无明显接触划痕和浮动模，表面达到所需光度95%-98%，少数表面达到极高亮度，镜面抛光效果达到原子镜水准，满足特殊要求的高精度表面处理。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Rａ是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值ﻫRｍax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差ﻫRmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmａx = ４Ｒa
μin是半导体方面的单位与1μm=39。

37μｉn
倒三角是日本的粗糙度,一个三角是是１。

6μｍ，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照:
表面光洁度１4级=Rａ0。

012
表面光洁度１3级＝Ｒａ0．02５
表面光洁度12级=Ra ０.０50
表面光洁度１1级＝Rａ0.1
表面光洁度10级=Ra 0。

2
表面光洁度９级=Ｒa 0.4
表面光洁度8级=Ra 0．8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3。

２
表面光洁度５级＝Ｒａ6。

3
表面光洁度4级=Ra12.5
表面光洁度3级＝Ｒa 25
表面光洁度2级=Ｒa5０
表面光洁度1级=Ra 1０0
以上表面粗糙度单位均为μｍ，即微米.。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1。

6μm, 两个三角就是3。

2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0。

025
表面光洁度12级=Ra 0。

050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0。

2
表面光洁度9级=Ra 0。

4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3。

2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。

第二节模具镜面抛光知识简介一、模具镜面抛光加工的标准分为四级：A0=Ra0.008µｍ; A1=Ra0.016µｍ; A2=Ra0.032µｍ; A3=Ra0.063µｍ;二、什么是模具镜面抛光？定义：在不损伤工件的形状之下，尽可能减小表面粗度的作业。

镜面抛光直接取决于光洁度的高低，直接解释为像镜面一样光洁，抛光后的表面粗糙度至少Ra0.16µｍ以下才可达镜面要求。

三、为何要进行模具镜面抛光？1)赋予产品光学性能及外观上的价值。

2)减少树脂的流动阻抗，改善填充；3)降低产品脱模摩擦，改善产品脱模（但模腔越光滑越易形成真空，软胶模腔需要有一定粗糙度，避免吸附）;4)提高工件间的接合精度，消除树脂的溢出。

5)提高模具的刚性，延长模具寿命。

金属模具不易生锈。

四、镜面抛光的方法有哪些？镜面抛光分成机械镜面抛光和化学溶液（化学分解（气体、液体、固体））镜面抛光。

还有电解、热分解、蒸发（镭射、电子束）、溅射、化学附着、电化学附着、热附着、物理附着等工艺。

化学溶液镜面抛光是使用化学溶液进行浸泡，去除表面氧化皮从而达到光亮效果。

机械镜面抛光是在金属材料上经过磨光工序(粗磨、细磨)和抛光工序(WENDT三步抛光)从而达到平整、光亮似镜面般的表面。

本节重点讲解机械镜面抛光的方法与工序：1.磨光工序：磨光的目的是为了获得平整光滑的磨面。

此时磨面上还留有极细而均匀的磨痕。

磨光分为粗磨和细磨两种。

◆粗磨：粗磨是将粗糙的表面和不规则外形修正成形。

◆细磨：经过粗磨后金属表面尚有很深的磨痕，需要在细磨中消除，为抛光做准备。

2.表面抛光工序：抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程。

多数采用抛光轮来反复磨光后的零件表面上极微小的不平，通用于镀层表面的修饰。

抛光是镀层表面或零件表面最后-道工序，其目的是要消除在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。

理想的抛光面应该是平整、光亮、无痕、无浮雕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。

抛光等级对照表
Polish Grade Comparision
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6，两个三角就是3.2
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。

抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3。

2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0。

012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0。

050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0。

4
表面光洁度8级=Ra 0。

8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3。

2
表面光洁度5级=Ra 6。

3
表面光洁度4级=Ra 12。

5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm，即微米。