纳米碳酸钾脱除Fmoc保护基的新方法

fmoc保护基脱除机理一、FMOC保护基简介FMOC保护基（9-蝶酰氨基甲基）是有机合成中常用的一种保护基，其化学式为C15H11NO2。

它具有良好的稳定性和易于去除的特点，在多肽合成、药物合成等领域得到了广泛应用。

二、FMOC保护基脱除机理1.碱性条件下脱除FMOC保护基的脱除常采用碱性条件，如三氟乙酸（TFA）、丙酮/水/三氟乙酸（PKT）等。

在碱性条件下，TFA可以使FMOC与胺基发生缩合反应，生成相应的胺盐，并释放出CO2和HF。

反应机理如下：步骤1：FMOC在碱性条件下失去一个质子，生成相应的阴离子；步骤2：阴离子与胺发生缩合反应，生成相应的胺盐；步骤3：胺盐进一步水解，释放出CO2和HF，并还原为自由胺。

该反应具有高效、快速、选择性好等优点，适用于大多数含有NH2末端或侧链的化合物。

2.酸性条件下脱除除了碱性条件下，FMOC保护基还可以在酸性条件下脱除。

例如，三氯乙酸（TCA）、硫酸/丙酮/水（SAW）等。

在酸性条件下，FMOC与胺基发生缩合反应，生成相应的阴离子，并释放出CO2和HF。

反应机理如下：步骤1：FMOC在酸性条件下失去一个质子，生成相应的阴离子；步骤2：阴离子与胺发生缩合反应，生成相应的胺盐；步骤3：胺盐进一步水解，释放出CO2和HF，并还原为自由胺。

该反应具有选择性好、适用于含有羧基、磷酸二酯等化合物等优点。

3.其他脱除方法除了上述两种方法外，还有一些其他的FMOC保护基脱除方法。

例如：(1)光化学脱除法：利用紫外线或可见光照射FMOC保护基，在存在氧气的情况下进行光解反应，将其去除。

(2)微波辐射脱除法：利用微波辐射加热样品，使FMOC保护基发生热解反应，从而去除。

(3)还原脱除法：利用还原剂将FMOC保护基还原为自由胺。

三、总结FMOC保护基是有机合成中常用的一种保护基，其脱除方法多种多样。

在选择脱除方法时应根据实际情况选择合适的条件，并注意反应条件的控制和实验操作的安全。

傅克酰基化后处理方法引言：傅克酰基化（Fmoc）是一种常用的保护基化学方法，广泛应用于多肽合成和固相合成等领域。

傅克酰基化后的化合物需要进行后处理，以去除保护基，使其在后续的实验或应用中发挥作用。

本文将介绍傅克酰基化后处理的几种常见方法。

一、碱处理法碱处理法是傅克酰基化后处理的常见方法之一。

通过将傅克酰基保护基暴露在碱性条件下，使其与碱反应生成相应的盐酸盐。

常用的碱处理剂包括氢氧化钠（NaOH）、碳酸氢钠（NaHCO3）等。

处理时间和温度可以根据需要进行调整。

碱处理法的优点是操作简单，但需要注意控制反应条件，以避免对目标化合物的其他部分产生不可逆的影响。

二、酸处理法酸处理法是另一种常见的傅克酰基化后处理方法。

与碱处理法不同，酸处理法是将傅克酰基保护基在酸性条件下进行处理，使其与酸反应生成相应的酸盐。

常用的酸处理剂包括三氟乙酸（TFA）、三氯乙酸（TCA）等。

酸处理法的优点是可以在短时间内完成反应，但需要注意选择合适的酸处理剂和控制反应条件，以避免对目标化合物的其他部分产生不可逆的影响。

三、氢氟酸处理法氢氟酸（HF）处理法是傅克酰基化后处理的一种强酸性方法。

与酸处理法相比，氢氟酸处理法具有更强的脱保护能力，可以更彻底地去除傅克酰基保护基。

然而，由于氢氟酸具有强腐蚀性和剧毒性，操作时需极度小心，并采取相应的安全措施。

此外，氢氟酸处理法可能对一些化合物产生不可逆的影响，因此需要根据具体情况进行选择和优化。

四、还原处理法还原处理法是一种针对傅克酰基化合物的特殊处理方法。

在还原处理中，常用的还原剂包括三苯基膦（PPh3）和四甲基硼酸（TMB）等。

还原处理法的优点是可选择性地去除傅克酰基，同时保护其他部分的化合物。

然而，还原处理法也有一些限制，比如对一些特殊保护基的去除效果可能不理想。

五、氨解处理法氨解处理法是傅克酰基化后处理的一种选择性方法。

通过将傅克酰基保护基在氨溶液中进行处理，可以选择性地去除保护基。

fmoc脱保护条件引言：一、fmoc保护基的应用fmoc保护基是一种常用的氨基保护基。

它可以用于保护化合物中的氨基官能团，在有机合成中得到广泛应用。

fmoc保护基具有以下优点：1. 易于引入和去除：fmoc保护基可以通过简单的化学反应引入到化合物中，而且在脱保护过程中可以用一些相对温和的条件去除。

2. 反应活性较低：fmoc保护基在大多数有机反应条件下都比较稳定，不会发生副反应或降解。

3. 兼容性好：fmoc保护基可以与许多其他保护基共存，不会相互干扰。

二、fmoc脱保护条件在进行fmoc脱保护时，需要选择适当的条件和方法。

下面将介绍几种常见的fmoc脱保护条件。

1. 碱性条件碱性条件是最常用的fmoc脱保护方法之一。

在碱性条件下，可以使用碱性溶液（如碳酸钠溶液、碳酸氢钠溶液等）来去除fmoc保护基。

这种方法适用于大多数有机化合物，但对于某些特殊的化合物可能不适用。

2. 酸性条件酸性条件也可以用于fmoc脱保护。

在酸性条件下，可以使用酸性溶液（如盐酸溶液、三氟乙酸溶液等）来去除fmoc保护基。

这种方法适用于一些特殊的化合物，但需要注意选择适当的酸性条件，以避免对其他功能团的破坏。

3. 氢氟酸（HF）脱保护氢氟酸（HF）脱保护是一种高效的fmoc脱保护方法。

在氢氟酸存在下，可以迅速去除fmoc保护基。

但需要注意氢氟酸的剧毒性，使用时要采取相应的安全措施。

4. 热脱保护热脱保护是一种较为特殊的fmoc脱保护方法。

在高温下，可以将fmoc保护基分解并去除。

这种方法适用于一些特殊的化合物，但需要注意控制脱保护温度，以避免对其他功能团的破坏。

总结：fmoc脱保护条件是有机合成中常用的一种脱保护方法。

通过选择适当的脱保护条件和方法，可以高效地去除fmoc保护基，使得化合物中的氨基官能团得到暴露，从而参与后续的反应。

在具体的有机合成中，需要根据化合物的结构和性质选择合适的fmoc脱保护条件，并合理控制脱保护的条件和反应时间，以确保反应的成功进行。

fmoc脱保护条件
FMOC （9-fluorenylmethyloxycarbonyl）是一种保护基，常用于合成有机分子中保护胺基的化学反应中。

它的脱保护反应需要一定的条件。

FMOC的脱保护条件主要包括脱保护试剂、脱保护试剂的浓度、反应
时间、反应温度以及反应环境等方面，这些因素对于FMOC的脱保护
反应都有不同程度的影响。

一般来说，FMOC的脱保护试剂为二甲基胺（DMA）或丙酮溶液，其中 DMA 是常用的脱保护试剂。

此外，苯酚和氯甲基丙酮也可以作为
脱保护试剂。

脱保护试剂的浓度一般在 20% 至 50% 不等，一些文献中建议使用30% DMA。

反应时间一般在 10 到 30 分钟之间，反应温度一般在室温至50℃ 之间，反应环境一般是干燥无水的环境。

需要注意的是，FMOC的脱保护反应需要控制好反应时间和反应温度，避免过度脱保护导致产物的副反应出现，在反应过程中，可以进行
TLC监测反应的进展情况，确保反应的质量和产率。

另外，在一些特殊情况下， FMOC的脱保护反应需要特殊的条件。

比如在多肽合成中，FMOC保护的胺基需要通过酸处理来脱离。

此时，需要使用三氟乙酸（TFA）作为脱保护试剂，反应时间也会相应延长。

总之，在FMOC的脱保护过程中，需要合理控制反应条件并严格监测反应进展情况，才能得到优质的产物。

Fmoc-保护氨基步骤在有机合成中，保护基的选择和去保护操作对合成化合物的成功与否起着至关重要的作用。

Fmoc-保护氨基步骤是一种常用的保护氨基化学反应，以下将对Fmoc-保护氨基步骤进行介绍。

一、Fmoc-保护氨基步骤的原理Fmoc-保护氨基步骤是利用Fmoc保护基对氨基进行保护，在需要时去除Fmoc保护基，从而实现对氨基的保护和去保护。

Fmoc-氨基保护基通过酰氧化还原反应与氨基结合，并且在碱性条件下容易去除。

二、Fmoc-保护氨基步骤的具体操作1. 氨基的保护将含有氨基的化合物与Fmoc-无水氢氟酸酐和碱一起反应，生成Fmoc-氨基保护化合物。

2. 氨基的去保护在需要去除氨基保护基的时候，可以使用碱性条件，如二甲基甲酰胺/碱、三乙胺等，将Fmoc-氨基保护化合物去除Fmoc基，从而得到裸露的氨基化合物。

三、Fmoc-保护氨基步骤的应用Fmoc-氨基保护基适用于多肽合成中，常用于固相合成中对氨基的保护。

它具有保护效果好、去保护条件温和、去保护后易于纯化等优点，因此得到广泛应用。

四、Fmoc-保护氨基步骤的优缺点1. 优点Fmoc-氨基保护基具有保护效果好、去保护条件温和、去保护后易于纯化等优点。

2. 缺点Fmoc-氨基保护基的合成工艺较为复杂，而且去保护条件对一些特殊化合物可能会有影响。

五、Fmoc-保护氨基步骤的改进方法为了克服Fmoc-氨基保护基的缺点，一些化学研究人员提出了各种各样的改进方法，如改进合成工艺、寻找新的去保护条件等，以提高Fmoc-氨基保护基的适用性和效率。

Fmoc-保护氨基步骤作为一种常用的保护氨基化学反应，在有机合成中起着重要作用。

了解其原理、操作、应用及优缺点，对于有机化学研究人员具有重要意义。

通过不断地改进和完善Fmoc-保护氨基步骤，可以提高其在有机合成中的应用价值，推动有机合成领域的发展。

Fmoc-保护氨基步骤在有机合成中的应用非常广泛，特别是在多肽合成领域。

Fmoc保护基完整介绍在有机合成中，为了达到只在⽬标位置反应，其他位点基团不受影响的⽬的，在反应前需要先将其他基团⽤⼀定试剂保护起来，当反应完成后再除去。

这种保护基团的试剂，就叫做基团保护剂。

常见的是对羟基，氨基等基团的保护，其中Fmoc保护基就是常⽤的对氨基的保护剂。

在很多⽣物活性分⼦，多肽分⼦中都含有氨基，保护氨基在有机合成中⾮常重要。

Fmoc基团：中⽂名：9-芴甲氧羰基英⽂：Fmoc Protecting Group9-fluorenylmethyloxycarbonylFmoc保护基团的优点1.对酸性极其稳定。

2.接触还原条件易脱除。

Fmoc基团引⼊⽅法1.Fmoc-Cl在⼆氧六环 / NaHCO3溶液同氨基酸反应得到Fmoc保护的氨基酸。

2.Fmoc-OSu在⼄腈/⽔中导⼊，这种在制备氨基酸衍⽣物有优势。

Fmoc基团的脱除Fmoc基团⼀般⽤浓氨⽔，⼆氧六环/4M NaOH(30:9:1)以及⽤哌啶、⼄醇胺、环⼰胺、吗啡啉、吡咯烷酮、DBU等胺类的50%CH2Cl2的溶液脱去。

Bu4N+F-/DMF在室温的脱去效果也很好。

Fmoc保护基团的应⽤⽤于通过氨基甲酸酯形成来保护氨基常⽤语多肽固相合成中，其特征波长（301nm）可以⽤HPLC进⾏反应追踪Fmoc由于对酸性条件的稳定性，从⽽和Boc，Cbz保护基形成最常⽤的三种保护基团.常见的20种⽤Fmoc基团保护的氨基酸Fmoc-Ala-OH Fmoc-Arg(Pbf)-OHFmoc-Asn(Trt)-OH Fmoc-Asp(OtBu)-OHFmoc-Cys(Trt)-OH Fmoc-Gln(Trt)-OHFmoc-Glu(OtBu)-OH Fmoc-Gly-OHFmoc-His(Trt)-OH Fmoc-Ile-OHFmoc-Leu-OH Fmoc-Lys(Boc)-OHFmoc-Met-OH Fmoc-Phe-OHFmoc-Pro-OH Fmoc-Ser(tBu)-OHFmoc-Thr(tBu)-OH Fmoc-Trp(Boc)-OHFmoc-Tyr(tBu)-OH Fmoc-Val-OH。

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011008017.3(22)申请日 2020.09.23(71)申请人 深圳深创生物药业有限公司地址 518000 广东省深圳市南山区粤海街道大冲社区大冲商务中心（三期）4栋25D大冲国际中心25楼DE座(72)发明人 马亚平　戴政清　张凌云　王宇恩　付信　周迎春　王庆磊　(74)专利代理机构 北京市诚辉律师事务所11430代理人 范盈(51)Int.Cl.C07K 14/605(2006.01)C07K 1/04(2006.01)C07K 1/06(2006.01)C07K 1/10(2006.01)(54)发明名称一种司美格鲁肽的合成方法(57)摘要本发明涉及一种司美格鲁肽的合成方法。

其包括如下步骤：1)在固相合成树脂上偶联Fmoc保护α氨基的甘氨酸，脱除Fmoc保护基，然后按照偶联Fmoc或Boc保护α氨基的氨基酸或肽段，然后脱除Fmoc保护基的方法依次进行偶联；2)脱除Lys(X)中的X保护基团；3)偶联Fmoc ‑AEEA ‑OH，然后以脱除Fmoc保护基然后偶联的方法依次偶联Fmoc ‑AEEA ‑OH、Fmoc ‑Glu ‑OtBu和十八烷二酸单叔丁酯；4)裂解树脂和侧链保护基得到粗肽；5)纯化后得到司美格鲁肽精肽。

本发明提供的方法，具有工艺简单，成本低、收率高的优点。

权利要求书2页 说明书11页 附图1页CN 112125970 A 2020.12.25C N 112125970A1.一种司美格鲁肽的固相合成方法，其包括如下步骤：1)在固相合成树脂上偶联Fmoc保护α氨基的甘氨酸，脱除Fmoc保护基，然后按照偶联Fmoc或Boc保护α氨基的氨基酸或肽段，然后脱除Fmoc保护基的方法依次进行偶联：Fmoc或Boc保护α氨基的氨基酸或肽段的偶联顺序为：Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Arg (Pbf)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Trp(Boc)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ile-OH、Fmoc-Phe-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OH、Fmoc-Lys(X)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Gln (Trt)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Ser (tBu)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Asp(Y)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-Phe-OH；Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OH、Boc-His(Trt)-Aib-OH；或者Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Trp(Boc)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ile-OH、Fmoc-Phe-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OH、Fmoc-Lys(X)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Gln(Trt)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Glu (OtBu)-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Ser(tBu)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Asp(Y)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-Phe-OH、Boc-His(Trt)-Aib-Glu(OtBu)-Gly-OH；或者Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Arg(Pbf)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Trp(Boc)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ile-OH、Fmoc-Phe-OH、Fmoc-Glu(OtBu)-OH、Fmoc-Lys(X)-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Ala-OH、Fmoc-Gln(Trt)-OH、Fmoc-Gly-OH、Fmoc-Glu (OtBu)-OH、Fmoc-Leu-OH、Fmoc-Tyr(tBu)-OH、Fmoc-Ser(tBu)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Val-OH、Fmoc-Asp(Y)-OH、Fmoc-Ser(Trt)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-OH、Fmoc-Thr(tBu)-Phe-OH、Boc-His(Trt)-Aib-Glu(OtBu)-Gly-OSu进行偶联；2)脱除Lys(X)中的X保护基团；3)偶联Fmoc-AEEA-OH，然后以脱除Fmoc保护基然后偶联的方法依次偶联Fmoc-AEEA-OH、Fmoc-Glu-OtBu和十八烷二酸单叔丁酯；4)裂解树脂和侧链保护基得到粗肽；5)纯化后得到司美格鲁肽精肽；其中X为Lys的侧链保护基团，优选为-Dde、-ivDde、-Alloc中的一种，Y为Asp的侧链保护基团，优选为-OEpe、-OMpe。

纳米碳酸钾脱除fmoc保护基的新方法
纳米碳酸钾是一种高效的脱除fmoc保护基的试剂。

传统的纳米碳酸钾法通常涉及到使用大量的有机溶剂和长时间的反应时间。

然而，新的方法提供了简化和加速纳米碳酸钾脱除fmoc 保护基的途径。

该新方法中，使用了二氧化碳气体的特性。

首先，在室温下将纳米碳酸钾悬浊液与含有fmoc保护的化合物混合。

随后，通过直接向反应体系中通入压缩的二氧化碳气体，可以观察到明显的气泡生成。

这是由于纳米碳酸钾与二氧化碳反应生成的碳酸盐溶解度较低的缘故。

气泡生成的速度和数量可以用作脱除反应进程的指示。

通过这种方法，可以在较短的时间内以高效的方式完成纳米碳酸钾脱除fmoc保护基的反应。

此外，由于压缩的二氧化碳气体的使用，也不需要使用大量的有机溶剂，减少了环境污染和废物处理的需求。

这种新方法为合成化学领域中纳米碳酸钾的应用提供了一个更加便捷和环保的选择，有望在有机合成和药物化学领域得到广泛应用。

dde氨基酸脱保护机理
氨基酸的脱保护机理主要涉及去除保护基团的步骤。

不同的保护基团对应着不同的脱保护方法。

以下是一些常见的氨基酸脱保护方法：
1. 氨基酸保护基团的酸性脱保护：
- BOC保护基团：使用强酸（如三氟乙酸、盐酸）或氢氟酸来脱除BOC保护基团。

- FMOC保护基团：使用碱性条件（如碳酸钠或氢氧化钠溶液）来脱除FMOC保护基团。

2. 氨基酸保护基团的还原性脱保护：
- Cbz保护基团：使用催化剂（如钯/炭）和还原剂（如氢气）来脱除Cbz保护基团。

- Cbz-Cl保护基团：使用亚硝酸钠（NaNO2）和氯化亚铜（CuCl）来脱除Cbz-Cl保护基团。

3. 氨基酸保护基团的碱性脱保护：
- Fmoc保护基团：使用强碱（如二甲基胺或碳酸钠）来脱除Fmoc保护基团。

4. 其他脱保护方法：
- Trt保护基团：使用三氟乙酸或三氟甲磺酸来脱除Trt保护基团。

- Cbz-Cl和Fmoc的连续脱保护：首先使用亚硝酸钠和氯化亚铜来脱除Cbz-Cl保护基团，然后再使用碳酸钠或氢氧化钠溶液来脱除Fmoc保护基团。

需要根据具体的氨基酸和保护基团来选择相应的脱保护方法，并在实验中进行优化。

此外，还要注意对反应条件和反应时间进行控制，以确保脱保护反应的有效性和选择性。