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半导体激光器速率方程

半导体激光器速率方程
半导体激光器速率方程

第二章 光注入半导体激光器的速率方程模型

2.1 光反馈半导体激光器

光反馈或光注入半导体激光器的速率方程是分析和模拟系统特性的理论基础,本节先推导光反馈半导体激光器的电场速率方程―Lang-Kobayashi 方程

[29]

,并分析了振荡条件。为

方便分析,将半导体激光器的参量及各参量的关系分别列入表2-1和表2-2。

表2-1 激光器参量的意义

符号 物理量 单位 电量 C 有源区体积 m 3 载流子寿命 ns 光子寿命 ps 限制因子 --- 阈值载流子密度 m -3 透明载流子密度 m -3 增益饱和系数 m 3 线宽增强因子 --- 微分增益 m 3s -1 自发辐射因子 --- 端面强度反射率 ---

波长

nm

表2-2 参量之间的关系

Table 2-2 Relationships of parameters

2.1.1 图2-1 光反馈Fabry-Perot 谐振腔示意图

图2-1为光反馈的示意图,激光谐振腔两端面的反射率分别为1R 、2R ,腔长为L ,外

部反射镜的反射率为e R 、距离为/2e L c τ=,τ为激光在外腔中环行一次的时间。E +、E

-

分别表示正向、负向传播的时变电场的复振幅。

激光的动态变化行为取决于增益,因此可以将增益作为算子。激光在腔内环行一次的增

益为

int 2())r G i kL Γg L α=-+- (2-1)

将其变为指数形式,上式可变为

int exp(2())r m G i kL Γg L αα=-+-- (2-2)

其中/k n c ω=为波数。实际上,激光器有源区内载流子密度()N t 随时间的变化将导致介质折射率和振荡频率的变化。因此将波数在无光反馈阈值点(th n ,th ω)展开

()()g th th th th th n n n n

N N c c c N c

ωωωωω?≈+-+-? (2-3) 其中,g th n

n n ω

ω

?=+?为介质的群折射率。将(2-3)式代入(2-2)中,并将r G 分解成1r G G G ω=,其中:

频率无关项

1int exp[()]exp((2/)

())m th th n

G Γg L i L c N N N

ααω?=----? (2-4) 频率相关项

22exp[()]g th th th n L

n L G i

i c c

ωωωω=--- (2-5) 由于

2th th n L c ω是2π的整数倍,并且角频率为ω的单色波电场满足关系式d

i dt

ω=,G ω可改写为算子

exp()exp()th L L

d

G i dt

ωωττ=- (2-6) 由于激光器振荡频率在阈值附近,即th ωω≈,因此对时变复电场()e

t %可引入慢变化复电场振幅()|()|exp(())E t E t i Φt =,即

()()exp()th e t E t i t ω=% (2-7)

其中

th d dt

Φ

ωω=-。 考虑z L =处的前向行波的时变复电场()e

t %,对于环形增益r G 应满足 1()[()()]ext L L L e t G G e t e t ωτττ++-

+=+++%%% (2-8)

半导体激光器的研究

半导体激光器的研究 半导体激光器是近年来应用非常广泛的一种激光器。在本实验中我们将对半导体激光器的主要发光器件——激光二极管(LD)进行全面的实验研究。 【实验内容】 1.激光二极管(LD)的伏安特性测量。 2.LD的发光强度与电流的关系曲线测量。 3*.LD发光光谱分布测量。 4*.LD发光偏振特性分析。 【实验仪器】 激光二极管,电压表,电流表,激光功率计,分光计,格兰—泰勒棱镜等

阅读材料 半导体激光器件 按照半导体器件功能的基本结构可分为:注入复合发光,即电—光转换;光引起电动势效应,即光—电变换。这里主要讨论前者。 半导体激光光源是半导体激光器发射的激光。它是以半导体材料作为激光工作物质的一类激光器,亦称激光二极管,英文缩写为LD。与其相对应的非相干发光二极管,英文缩写为LED。它具有工作电压低、体积小、效率高、寿命长、结构简单、价格便宜以及可以高速工作等一系列优点。可采用简单的电流注入方式来泵浦,其工作电压和电流与集成电路兼容,因而有可能与之单片集成;并且还可用高达吉赫(109 Hz)的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,LD在激光通信、光纤通信、光存储、光陀螺、激光打印、光盘录放、测距、制导、引信以及光雷达等方面已经获得了广泛应用,大功率LD 可用于医疗、加工和作为固体激光器的泵浦源等。 半导体激光器自1962年问世以来,发展极为迅速。特别是进入20世纪80年代,借用微电子学制作技术(称为外延技术),现已大量生产半导体激光器。以半导体LD条和LD堆为代表的高功率半导体激光器品种繁多,应有尽有。 1 概述 1)半导体激光器的分类 从半导体激光器的发射的激光看,可分为半导体结型二极管注入式激光器和垂直腔表面发射半导体激光器两种类型;而从结型看,又可分为同质结和异质结两类;从制造工艺看,又可为一般半导体激光器、分布反馈式半导体激光器和量子阱半导体激光器激光器;另外,为了提高半导体激光器的输出功率,增大有源区,将其做成列阵式,又可分为单元列阵、一维线列阵、二维面阵等。 2)半导体激光器的工作原理 半导体激光器与其它激光器没有原则区别,只是因工作物质不同,而有其自身的特点。图示给出了GaAs激光器的外形及其管芯结构,在激光器的外壳上有一个输出激光的小窗口,激光器的电极供外接电源用,外壳内是激光器管芯,管芯形状有长方形、台面形、电极条形等多种。它的核心部分是PN结。半导体激光器PN结的两个端面是按晶体的天然晶面剖切开的,称为解理面,这两个表面极为光滑,可以直接用作平行反射镜面,构成激光谐振腔。激光可以从某一侧解理面输出,也可由两侧输出。 半导体材料是一种单晶体,各原子最外层的轨道互相重叠,导致半导体能级不再是分

以原子谱线作参考的半导体激光器的频率锁定

以原子谱线作参考的半导体激光器的频率锁定3 满文庆33 杨世琪 钟旭滨 孙番典 (华南师范大学物理系,广州,510631) 摘要:研究以原子谱线作参考的半导体激光器的频率锁定系统,在精密控制半导体激光器的工作温度和工作电流的基础上,利用85Rb 的D 2线的一次微分信号对LD 的频率进行锁定。锁定后LD 的频率最大变化为10MHz/3h ,平均取样时间10s ,用Allan 方差估算LD 频率稳定度为10-9。 关键词:半导体激光器 锁频 稳定度 Frequency of LD locked to the atomic spectrum line M an Wenqi ng ,Y ang S hiqi ,Zhong X ubi n ,S un Fandian (Department of Physics ,S outh China Nornal University ,Guangzhou ,510631) Abstract :This psper described a laser diode frequence stabilization system composed of a precisely temperature control system and a operating current control system of the laser https://www.doczj.com/doc/e917135786.html,ing the first defferential signal of the resonance line ,the operating frequence of the laser diode can be locked to D 2line of 85 Rb.The measurement results show that the frequence stability evaluated by Allan variance is 10-9 order for 10seconds sampling time. K ey w ords :semiconductor laser frequency 2locking stability 引 言 从1962年第一台半导体激光器(LD )诞生以来,半导体激光器有了很大的发展,由于具有频率可调谐,能快速调制,易工作在单模以及体积小,价格便宜,可在室温工作等优点,半导体激光器广泛地应用在光纤通信,数据存储,高分辨率光谱学,等离子体的诊断以及激光测量,激光定位等许多领域。近年来,对LD 的研究及应用方面都有了很大的发展,高稳定度的LD 广泛地使用在光纤通信频分复用系统中;利用微波调制的LD 已直接观察到铷原子基态超精细能级间的相干共振[1];利用脉冲调制的LD 可观察到塞曼能级的相干共振,高稳定度的LD 还可作为全光学化的原子频标用的激光源[2]。 但是,许多很重要的应用都要求半导体激光器的频率比较稳定。比如在光纤通信的频分 复用技术中[3],频率漂移会引起“串扰” (Crosstalk )和增加系统的误码率。另外,在激光准直系统中,频率漂移将会带来大的误差。在光信息处理方面,也要求LD 的频率比较稳定,所以LD 的稳频是一个很有意义且很有应用价值的课题,国内外都开展了这方面的研究[4~6]。 可以通过控制工作温度和注入电流的稳定性来实现LD 一定程度的频率稳定。但要获得更高的稳定度,则要在此基础上,进一步采用LD 的锁定稳频技术[8],即采用一个外部参考(基准)频率,使激光器的频率锁定在这个基准频率上。比较有趣的是,几乎所有的半导体激光器都能找到一个合适的原子或者分子的吸收谱线作为参考频率来实现锁频。 3广东省高教厅科研基金资助。 33现在广州师范学院物理系任教。 第22卷 第1期 1998年2月激 光 技 术LASER TECHNOLO GY Vol.22,No.1February ,1998

半导体激光器特性测量

半导体激光器特性测量实验 摘要:激光器的三个基本组成部分是:增益介质、谐振腔、激励能源。本实验通过测量半导体激光器的输出特性、偏振度和光谱特性,进一步了解半导体激光器的发光原理,并掌握半导体激光器性能的测试方法。 关键字:半导体激光器偏振度阈值光谱特性 一、引言 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的激光器,常用工作物质有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。半导体激光器发射激光必须具备三个基本条件:(1)产生足够的粒子数反转分布;(2)合适的谐振腔起反馈作用,使受激辐射光子增生,从而产生激光震荡;(3)满足阀值条件,使光子的增益≥损耗。半导体激光器工作原理是用某种激励方式,将介质的某一对能级间形成粒子数反转分布,在自发辐射和受激辐射的作用下,将有某一频率的光波产生(用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔),在腔内传播,并被增益介质逐渐增强、放大,输出激光。 二、实验仪器 半导体激光器装置、WGD-6型光学多道分析器、电脑、光功率指示仪等。 三、实验原理 3.1半导体激光器的基本结构 半导体激光器大多数用的是GaAs或Gal-xAlxAs材料,p-n结激光器的基本结构如图1所示,p-n结通常在n型衬底上生长p型层而形成。在p区和n区都要制作欧姆接触,使激励电流能够通过,这电流使结区附近的有源区内产生粒子数反转,还需要制成两个平行的端面其镜面作用,为形成激光模提供必须的光反馈。图1中的器件是分立的激光器结构,它可以与光纤传输连成线,如果设计成更完整的多层结构,可以提供更复杂的光反馈,更适合单片集成光电路。

激光原理与技术习题一样本

《激光原理与技术》习题一 班级序号姓名等级 一、选择题 1、波数也常见作能量的单位, 波数与能量之间的换算关系为1cm-1 = eV。 ( A) 1.24×10-7 (B) 1.24×10-6 (C) 1.24×10-5 (D) 1.24×10-4 2、若掺Er光纤激光器的中心波长为波长为1.530μm, 则产生该波长的两能级之间的能量 间隔约为 cm-1。 ( A) 6000 (B) 6500 (C) 7000 (D) 10000 3、波长为λ=632.8nm的He-Ne激光器, 谱线线宽为Δν=1.7×109Hz。谐振腔长度为50cm。 假设该腔被半径为2a=3mm的圆柱面所封闭。则激光线宽内的模式数为个。 ( A) 6 (B) 100 (C) 10000 (D) 1.2×109 4、属于同一状态的光子或同一模式的光波是 . (A) 相干的 (B) 部分相干的 (C) 不相干的 (D) 非简并的 二、填空题 1、光子学是一门关于、、光子的科学。 2、光子具有自旋, 而且其自旋量子数为整数, 大量光子的集合, 服从统计分布。 3、设掺Er磷酸盐玻璃中, Er离子在激光上能级上的寿命为10ms, 则其谱线宽度 为。 三、计算与证明题 1.中心频率为5×108MHz的某光源, 相干长度为1m, 求此光源的单色性参数及线宽。

2.某光源面积为10cm 2, 波长为500nm, 求距光源0.5m 处的相干面积。 3.证明每个模式上的平均光子数为 1 )/ex p(1-kT hv 。 《激光原理与技术》习题二 班级 姓名 等级 一、 选择题 1、 在某个实验中, 光功率计测得光信号的功率为-30dBm, 等于 W 。 ( A) 1×10-6 (B) 1×10-3 (C) 30 (D) -30 2、 激光器一般工作在 状态. (A) 阈值附近 (B) 小信号 (C) 大信号 (D) 任何状态 二、 填空题 1、 如果激光器在=10μm λ输出1W 连续功率, 则每秒从激光上能级向下能级跃迁的粒子数 是 。 2、 一束光经过长度为1m 的均匀激励的工作物质。如果出射光强是入射光强的两倍, 则该物 质的增益系数为 。 三、 问答题 1、 以激光笔为例, 说明激光器的基本组成。 2、 简要说明激光的产生过程。 3、 简述谐振腔的物理思想。 4、 什么是”增益饱和现象”? 其产生机理是什么? 四、 计算与证明题 1、 设一对激光能级为2E 和1E (设g 1=g 2), 相应的频率为ν(波长为λ), 能级上的粒子数密度 分别为2n 和1n , 求 (a) 当ν=3000MHz , T=300K 时, 21/?n n =

半导体激光器系统的动态特性研究资料

山西大学 物理电子工程学院实验论文 半导体激光器稳频系统的动态特性研究 学院:物理电子工程学院 专业:光信息科学与技术 导师:王彦华 姓名:杜小娇任思宇 学号:2013274002 20132740

半导体激光器稳频系统的动态特性研究 摘要:本实验在现代社会中自动控制系统技术的启发下,考虑到目前激光技术的发展前景广阔,应用也比较广泛,决定将用类似的方法研究激光器稳频系统的动态特性。在闭环系统中通过不同干扰信号的扰动,观察整个系统的响应,最终得到传递函数,进而分析出该系统的幅频和相频特性。关键字:激光器稳频系统干扰信号传递函数幅频特性相频特性 (一)引言 提高激光器系统稳定性在激光技术、超精密加工、测量设备量子信息等诸多科技前沿领域有着举足轻重的地位。影响激光系统稳定性的因素有很多,例如激光器、气压、震动等。如果激光器系统的稳定性提高到十几个小时乃至更高,那么对于恶劣环境的干扰就可以得以消除,更有利于实验的进行。对于激光器稳定性的研究更显得尤为重要,在激光器输出功率稳定性[1-2]的系统中,都实现了激光器输出功率的长期稳定性。在山西大学[3-6]也有很多实验需要建立在稳定系统来进一步发展。二阶闭环系统稳定的研究过程中针对信号及信号处理[7-8]已经有了较为成熟的一系列体系。因此,结合自动控制理论研究激光器系统及其动态响应,以实验结果为依据,对特定环境下激光器的结构设计的优化以及环路的参数的确定和调试,进行数学建模,从而提供更科学的处理方案,并给出一些的针对性的建议是非常重要的研究工作。 (二)实验原理 2.1半导体激光器(ECDL) 激光器的种类很多,分类的依据也有很多。其中根据其增益介质的不同可分为气体激光器、固体激光器、光纤激光器、染料激光器以及半导体激光器。半导体激光器因其结构紧凑、操作简单、便于集成、价格低廉、功耗低、工作波长范围大等优点而被广泛应用于冷原子物理、量子操控等前沿研究和高分辨率光谱,高精度测量很多技术领域。因此实验中将对半导体激光器稳定性进行了研究与分析。 我们在实验中为了更好控制半导体中发光二极管发出的光经谐振腔不断放大后发射出激光的不同模式,采用了光栅反馈式选模。光栅对激光有色散的作用,进而不同波长的波可以清楚辨别,通过调节光栅的角度,进而可以实现不同频率的激光反馈回激光器中。

光纤激光器文献综述

科技文献检索与应用 ——激光技术在生物医学上的应用 激光自从问世以来,已被广泛应用于生活中,尤其是在生物医学上面。它也给我们人类带来了更大的方面和利益,使更多的不可能成为了可能。下面我将从我搜索到的五篇科技文献中举例说明激光在医学上的重大作用。第一,激光热疗。以激光进行高温治疗的激光热疗法,已成为肿瘤热疗的一种新的有效手段。用于热疗的激光主要使用可见光及近红外激光,但由于该波段激光对组织的穿透有限,因此,激光热疗法具有一定的局限性。研究报道,利用光吸收染料能够选择性地增强肿瘤部位的热损伤,提高肿瘤治疗效果。最新研究表明,一种新颖的纳米材料——碳纳米管,在近红外区域对激光能量具有强烈吸收效应,并将光能量迅速转化为热能,产生的热效应导致了细胞的立刻崩溃。由于生物组织在近红外区的光吸收很弱,因此这种新颖的纳米材料因其独特的近红外光吸收性和光稳定性,能有效地代替光吸收染料在激光热疗中的应用。在研究单壁碳纳米管增强近红外区激光热疗效果的实验中,我们可以发现,单壁碳纳米管明显增强980 nm 激光的杀伤效应,并且此杀伤效应具有光剂量和单壁碳纳米管剂量依赖性。激光治疗组虽能抑制肿瘤生长,但激光穿透能力有限,不能有效地损伤深层肿瘤组织,所以易复发。而激光+ 单壁碳纳米管治疗组相对于激光治疗组,能更加有效地损伤肿瘤及深层肿瘤组织、抑制肿瘤生长。碳纳米管的应用显著地增强了激光热疗的效果。【1】第二,激光诱导击穿光谱。激光诱导击穿光谱在生物医学这一领域中正逐步吸引越来越多的科学家的兴趣,具有重要的应用价值和发展前景。基于激光与固体、液体、气体和气溶胶相互作用的介电击穿产生的等离子体发射称为激光诱导击穿光谱(laser induced breakdown spectroscopy,LIBS)技术。用光谱仪直接收集样品表面等离子体产生的发射谱线信号,从理论上可根据发射光谱的强度进行定量分析。在激光脉冲的作用下,LIBS 发射谱线的形成过程如图1 所示。【2】这是激光诱导击穿光谱的原理所在。 LIBS 在生物医学领域已经有了很广泛的应用。例如:分析人体或头发中的矿物元素、测量人体皮肤中Zn 的含量、分析钙化物质、识别和检测生物气溶胶、检测和识别细菌和识别恶性肿瘤组织等。总之,LIBS 技术是一种先进的元素分析技术,经过40 多年的发展,LIBS 技术已经获得了长足发展和广泛应用,目前LIBS 仪器在国外已实现商业化生产。第三,激光针灸。激光针灸就是以低强度激光束直接或聚焦或扩束照射穴位的穴区表面或深部,对穴位进行有效的刺激,起到疏通经络、调节脏腑、行气活血和平衡阴阳等作用,从而达到扶正祛邪、治病保健的目的。与传统针灸相比,激光针灸既除能达到针灸治疗的效果外,,还具有无痛、无菌、安全、易控、可调等特点,因此患者更易于接受。激光的灸疗主要是基于激光生物组织的热效应。【3】由于激光照射穴除

半导体激光器研究的依据及意义-Read

半导体激光器研究的依据及意义 信息技术已成为当今全球性战略技术。以光电技术和微电子技术为基础所支持的通信和网络技术已成为高技术的核心,正在深刻影响国民经济、国建设的各个领域。其中,半导体激光器起着举足轻重的作用 半导体激光器 ,其转换效率高、体积小、重量轻、可靠性高、能直接调制以及与其它半导体器件集成的能力强等特点而成为信息技术的关键器件。在光谱技术、光外差探测、医疗、加工等领域得到愈来愈广泛的应用。目前,它已是固体激光器泵浦、光纤放大器泵浦中不可替代的重要光源。 但是,半导体激光器正常工作时,需要稳定的环境温度。环境温度的变化以及激光器运转时器件发热而导致其温度起伏,将直接影响激光器输出功率的稳定性和运行的安全可靠性,甚至造成半导体激光器的损坏。因此,半导体激光器的驱动电源温度控制问题越来越受到人们的重视。 阀值是所有激光器所具有的特性,它标志着激光器的增益与损耗的平衡点。由于半导体激光器是直接注入电流的电子—光子转换器件,因此其阀值是常用电流密度或者电流来表示的。温度是影响半导体激光器阀值特性的主要因素。温度对阈值电流密度的影响由下面公式 J th (T )=J th (T r )exp[(T-T r )/T 0] 1. (1) 给出。T 为半导体激光器的工作温度,T r 为室温,J th (T )为工作温度 下的阈值电流密度,J th (T r )为室温下的阈值电流密度,T 0是表征半导 体激光器温度稳定性的特征温度,它与激光器所使用的材料及结构有关。 温度的变化也影响半导体激光器的激光波长,λ=2nL/m 1.(2) 中,n 为折射率,m 是模数,波长λ随折射率n 和长度L 较大程度的影响。波长λ对T 微分,这里,折射率是温度和波长的函数,即: (1/λ)(d λ/dT)=(1/n)(аn/аλ)T (d λ/dT)

半导体激光器基础知识

半导体激光器的近场分布是指LD发光面上的辐射强度分布,即反映P-N结上光强的分布;而远场分布则是指远离激光器无穷远处的辐射强度分布(光强与角度的分布)。远场分布是近场分布的富氏(Fourie r)变换。半导体激光器的模式分为空间模和纵模(轴模)。前者描述围绕输出光束轴线某处光强分布,或者是空间几何位置上的光强(或者光功率)的分布,也称为远场分布;后者则表示是一种频谱,它反映所发射的激光其功率在不同频率(或者波长)分量上的分布。两者都可能是单模或者出现多个模式(多模)。边发射半导体激光器具有非圆对称的波导结构,而且在垂直于结平面方向(称横向)和平行于结平面方向(称侧向)有不同的波导结构和光场限制。横向都是由双异质结构成的折射率波导结构来限制光场;而在侧向,则可由折射率导引结构或增益导引结构,大功率半导体激光器大多采用增益波导结构。因此半导体激光器的空间模式又有横模和侧模之分。如图5-1表示了这两种空间模式。 图1 半导体激光器的横模与侧模 由于有源层厚度都很小(约为0.15μm),根据平板波导原理,在横向LD都能保证单横模输出;而在侧向,由于其宽度相对较大,因而可能出现多侧模。如果在这两个方向都能以单模(或称基模)工作,则输出为理想的TE00模,此时光强峰值在光束中心且呈“单瓣”。这种光束的发散角最小,亮度最高,能实现与单模光纤的高效率耦合,也能通过简单的光学系统聚焦到很小的斑点,这对激光器的应用是非常有利的。相反,若LD工作在多侧模下,则其发光面上的光场(即近场)在侧向表现出多光丝,好似一些并行的发光丝,而其远场分布则相当复杂。 对于发光尺寸为1×50μm 的半导体激光器,沿1μm方向称为快轴方向,沿50μm方向称为慢轴方向。在快轴方向光束横截面内光强基本上按正弦(余弦)函数形式分布。半导体激光器的发散角是光束的基本参数,其定义为远场平面上光强为峰值一半处的两点相对于发光点的夹角

半导体激光器工作原理及主要参数

半导体激光器工作原理及主要参数 OFweek激光网讯:半导体激光器又称为激光二极管(LD,Laser Diode),是采用半导体材料作为工作物质而产生受激发射的一类激光器。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦激励三种形式。半导体激光器件,一般可分为同质结、单异质结、双异质结。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。半导体激光器的优点在于体积小、重量轻、运转可靠、能耗低、效率高、寿命长、高速调制,因此半导体激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、激光医疗、激光测距、激光雷达、自动控制、检测仪器等领域得到了广泛的应用。 半导体激光器工作原理是:通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种:电注入式、电子束激励式和光泵浦激励式。电注入式半导体激光器一般是由GaAS(砷化镓)、InAS(砷化铟)、Insb(锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。电子束激励式半导体激光器一般用N型或者P型半导体单晶(PbS、CdS、ZhO等)作为工作物质,通过由外 部注入高能电子束进行激励。光泵浦激励式半导体激光器一般用N型或P型半导体单晶(GaAS、InAs、InSb等)作为工作物质,以其它激光器发出的激光作光泵激励。 目前在半导体激光器件中,性能较好、应用较广的是:具有双异质结构的电注入式GaAs 二极管半导体激光器。 半导体光电器件的工作波长与半导体材料的种类有关。半导体材料中存在着导带和价带,导带上面可以让电子自由运动,而价带下面可以让空穴自由运动,导带和价带之间隔着一条禁带,当电子吸收了光的能量从价带跳跃到导带中去时就把光的能量变成了电,而带有电能的电子从导带跳回价带,又可以把电的能量变成光,这时材料禁带的宽度就决定了光电器件的工作波长。 小功率半导体激光器(信息型激光器),主要用于信息技术领域,例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈和动态单模激光器(DFB-LD)、窄线宽可调谐激光器、用于光盘等信息处理领域的可见光波长激光器(405nm、532nm、635nm、650nm、670nm)。这些 器件的特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐、短波长、光电单片集成化等。 大功率半导体激光器(功率型激光器),主要用于泵浦源、激光加工系统、印刷行业、生物医疗等领域。 半导体激光器主要参数: 波长nm:激光器工作波长,例如405nm、532nm、635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm。 阈值电流Ith:激光二极管开始产生激光振荡的电流,对小功率激光器而言其值约在数 十毫安。

半导体激光器实验报告

半导体激光器实验报告 课程:_____光电子实验_____ 学号: 姓名: 专业:信息工程 南京大学工程管理学院

半导体激光器 一.实验目的 (1)通过实验熟悉半导体激光器的光学特性 (2)掌握半导体激光器耦合、准直等光路的调节 (3)根据半导体激光器的光学特性考察其在光电技术方面的应用 二.实验原理 1.半导体激光器的基本结构 半导体激光器大多数用的是GaAs或Gal-xAlxAs材料。P-n结通常在n 型衬底上生长p型层而形成,在p区和n区都要制作欧姆接触,使激励 电流能够通过,电流使结区附近的有源区产生粒子数反转。 2.半导体激光器的阈值条件 当半导体激光器加正向偏置并导通时,器件不会立刻出现激光震荡,小电流时发射光大都来自自发辐射,随着激励电流的增大,结区大量粒 子数反转,发射更多的光子,当电流超过阈值时,会出现从非受激发射 到受激发射的突变。这是由于激光作用过程的本身具有较高量子效率的 缘故,激光的阈值对应于:由受激发射所增加的激光模光子数(每秒) 正好等于平面散射,吸收激光器的发射所损耗的光子数(每秒)。 3.横模和偏振态 半导体激光器的共振腔具有介质波导的结构,所以在共振腔中传播光以模的形式存在。每个模都由固有的传播常数和横向电场分布,这些 模就构成了激光器中的横模。横模经端面射出后形成辐射场,辐射场的 角分布沿平行于结面方向和垂直于结面方向分别成为侧横场和正横场。 共振腔横向尺寸越小,辐射场发射角越大,由于共振腔平行于结面方向 的宽度大于垂直于结面方向的厚度,所以侧横场小于正横场的发散角。 激光器的GaAs晶面对TE模的反射率大于对TM模的反射率,因而TE模需要的阈值增益低,TE模首先产生受激发射,反过来又抑制了TM 模,另一方面形成半导体激光器共振腔的波导层一般都很薄,这一层越

半导体激光器常用参数的测定

半导体激光器常用参数的测定 一 实验目的:掌握半导体激光器常用的电学参数及其测试方法 一 实验基本原理 1、 普通光源的发光——受激吸收和自发辐射 普通常见光源的发光(如电灯、火焰、太阳等地发光)是由于物质在受到外来能量(如光能、电能、热能等)作用时,原子中的电子就会吸收外来能量而从低能级跃迁到高能级,即原子被激发。激发的过程是一个“受激吸收”过程。处在高能级(E2)的电子寿命很短(一般为10-8~10-9秒),在没有外界作用下会自发地向低能级(E1)跃迁,跃迁时将产生光(电磁波)辐射。辐射光子能量为 12E E h -=ν 这种辐射称为自发辐射。原子的自发辐射过程完全是一种随机过程,各发光原子的发光过程各自独立,互不关联,即所辐射的光在发射方向上是无规则的射向四面八方,另外未位相、偏振状态也各不相同。由于激发能级有一个宽度,所以发射光的频率也不是单一的,而有一个范围。在通常热平衡条件下,处于高能级E2上的原子数密度N2,远比处于低能级的原子数密度低,这是因为处于能级E 的原子数密度N 的大小时随能级E 的增加而指数减小,即N ∝exp(-E/kT),这是著名的波耳兹曼分布规律。于是在上、下两个能级上的原子数密度比为 ]/)(ex p[/1212kT E E N N --∝ 式中k 为波耳兹曼常量,T 为绝对温度。因为E2>E1,所以N2《N1。例如,已知氢原子基态能量为E1=-13.6eV ,第一激发态能量为E2=-3.4eV ,在20℃时,kT≈0.025eV,则 0)400ex p(/12≈-∝N N 可见,在20℃时,全部氢原子几乎都处于基态,要使原子发光,必须外界提供能量使原子到达激发态,所以普通广义的发光是包含了受激吸收和自发辐射两个过程。一般说来,这种光源所辐射光的能量是不强的,加上向四面八方发射,更使能量分散了。 2、 受激辐射和光的放大 由量子理论知识知道,一个能级对应电子的一个能量状态。电子能量由主量子数n(n=1,2,…)决定。但是实际描写原子中电子运动状态,除能量外,还有轨道角动量L 和自旋角动量s ,它们都是量子化的,由相应的量子数来描述。对轨道角动量,波尔曾给出了量子化公式Ln =nh ,但这不严格,因这个式子还是在把电子运动看作轨道运动基础上得到的。严格的能量量子化以及角动量量子化都应该有量子力学理论来推导。 量子理论告诉我们,电子从高能态向低能态跃迁时只能发生在l (角动量量子数)量子数相差±1的两个状态之间,这就是一种选择规则。如果选择规则不满足,则跃迁的几率很小,甚至接近零。在原子中可能存在这样一些能级,一旦电子被激发到这种能级上时,由于不满足跃迁的选择规则,可使它在这种能级上的寿命很长,不易发生自发跃迁到低能级上。这种能级称为亚稳态能级。但是,在外加光的诱发和刺激下可以使其迅速跃迁到低能级,并放出光子。这种过程是被“激”出来的,故称受激辐射。受激辐射的概念世爱因斯坦于1917年在推导普朗克的黑体辐射公式时,第一个提出来的。他从理论上预言了原子发生受激辐射的可能性,这是激光的基础。 受激辐射的过程大致如下:原子开始处于高能级E2,当一个外来光子所带的能量hυ正好为某一对能级之差E2-E1,则这原子可以在此外来光子的诱发下从高能级E2向低能级E1跃迁。这种受激辐射的光子有显著的特点,就是原子可发出与诱发光子全同的光子,不仅频

半导体激光器工作原理

半导体激光器工作原理 半导体激光器工作原理是:通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种:电注入式、电子束激励式和光泵浦激励式。电注入式半导体激光器一般是由GaAS(砷化镓)、InAS(砷化铟)、Insb (锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。电子束激励式半导体激光器一般用N型或者P型半导体单晶(PbS、CdS、ZhO等)作为工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励。光泵浦激励式半导体激光器一般用N型或P型半导体单晶(GaAS、InAs、InSb等)作为工作物质,以其它激光器发出的激光作光泵激励。

目前在半导体激光器件中,性能较好、应用较广的是:具有双异质结构的电注入式GaAs二极管半导体激光器。 半导体光电器件的工作波长与半导体材料的种类有关。半导体材料中存在着导带和价带,导带上面可以让电子自由运动,而价带下面可以让空穴自由运动,导带和价带之间隔着一条禁带,当电子吸收了光的能量从价带跳跃到导带中去时就把光的能量变成了电,而带有电能的电子从导带跳回价带,又可以把电的能量变成光,这时材料禁带的宽度就决定了光电器件的工作波长。 小功率半导体激光器(信息型激光器),主要用于信息技术领域,例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈和动态单模激光器(DFB-LD)、窄线宽可调谐激光器、用于光盘等信息处理领域的可见光波长激光器(405nm、532nm、635nm、650nm、670nm)。这些器件的特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐、短波长、光电单片集成化等。大功率半导体激光器(功率型激光器),主要用于泵浦源、激光加工系统、印刷行业、生物医疗等领域。 半导体激光器主要参数: 1.波长nm:激光器工作波长,例如405nm、532nm、635nm、650nm、670nm、690nm、780nm、810nm、860nm、980nm。 2.阈值电流Ith:激光二极管开始产生激光振荡的电流,对小功率激光器而言其值约在数十毫安。 3.工作电流Iop:激光二极管达到额定输出功率时的驱动电流,此

实验一-半导体激光器系列实验

实验一-半导体激光器系列实验

实验一半导体激光器系列 实验

一、实验设备介绍 2.配套仪器的使用 WGD-6光学多道分析器的使用参考WGD-6光学多道分析器的使用说明书。 3.激光器概述 光电子器件和技术是当今和未来高技术的基础,引起世界各国的极大关注。其中半导体激光器的生产和应用发展特别迅猛,它已经成功地用于光通讯和光学唱片系统;还可以作为红外高分辨率光谱仪光源,用于大气测污和同位素分离等;同时半导体激光器可以成为雷达,测距,全息照相和再现、射击模拟器、红外夜视仪、报警器等的光源。半导体激光器,调频器,放大器集成在一起的集成光路将进一步促进光通 - 1 -

讯,光计算机的发展。 激光器一般包括三个部分: (1)激光工作介质 激光的产生必须选择合适的工作介质,可以是气体、液体、固体或半导体。在这种介质中可以实现粒子数反转,以制造获得激光的必要条件。显然亚稳态能级的存在,对实现粒子数反转是非常有利的。现有工作介质近千种,可产生的激光波长包括从真空紫外到远红外,非常广泛。 (2)激励源 为了使工作介质中出现粒子数反转,必须用一定的方法去激励原子体系,使处于上能级的粒子数增加。一般可以用气体放电的办法来利用具有动能的电子去激发介质原子,称为电激励;也可用脉冲光源来照射工作介质,称为光激励;还有热激励、化学激励等。各种激励方式被形象化地称为泵浦或抽运。为了不断得到激光输出,必须不断地“泵浦”以维持处于上能级的粒子数比下能级多。 (3)谐振腔 有了合适的工作物质和激励源后,可实现粒子数反转,但这样产生的受激辐射强度很弱,无法实际应用。于是人们就想到了用光学谐振腔进行放大。所谓光学谐振腔,实际是在激光器两端,面对面装上两块反射率很高的镜。一块几乎全反射,一块大部分反射、 - 2 -

半导体激光器输出特性的影响因素

半导体激光器输出特性的影响因素

半导体激光器输出特性的影响因素 半导体激光器是一类非常重要的激光器,在光通信、光存储等很多领域都有广泛的应用。下面我将探讨半导体激光器的波长、光谱、光功率、激光束的空间分布等四个方面的输出特性,并分析影响这些输出特性的主要因素。 1. 波长 半导体激光器的发射波长是由导带的电子跃迁到价带时所释放出的能量决定的,这个能量近似等于禁带宽度Eg(eV)。 hf = Eg f (Hz)和λ(μm)分别为发射光的频率和波长 且c=3×108m/s , h=6.628×10?34 J ·s ,leV=1.60×10?19 J 得 决定半导体激光器输出光波长的主要因素是半导体材料和温度。 λ c =f ) ( )(24.1m eV Eg μλ=

不同半导体材料有不同的禁带宽度Eg ,因而有不同的发射波长λ:GaAlAs-GaAs 材料适用于0.85 μm 波段, InGaAsP-InP 材料适用于 1.3~1.55 μm 波段。 温度的升高会使半导体的禁带宽度变小,导致波长变大。 2. 光功率 半导体激光器的输出光功率 其中I 为激光器的驱动电流,P th 为激光器的阈值 功率;I th 为激光器的阈值电流;ηd 为外微分量 子效率;hf 为光子能量;e 为电子电荷。 hf 、e 为常数,Pth 很小可忽略。由此可知,输出光功率主要取决于驱动电流I 、阈值电流I th 以及外微分量子效率ηd 。驱动电流是可随意调节 的,因此这里主要讨论后两者。除此之外,温度也是影响光功率的重要因素。 1)阈值电流 半导体激光器的输出光功率通常用P-I 曲线 ) (th d th I I e hf P P -+=η

半导体激光器实验报告

实验13半导体激光器实验 【实验目的】 1.通过实验熟悉半导体激光器的电学特性、光学特性。 2.掌握半导体激光器耦合、准直等光路的调节。 3.根据半导体激光器的光学特性考察其在光电子技术方面的应用。 4.掌握WGD-6光学多道分析器的使用 【仪器用具】 半导体激光器及可调电源、WGD-6型光学多道分析器、可旋转偏振片、旋转台、多功能光学升降台、光功率指示仪 【实验原理】 1、半导体激光器的基本结构 半导体激光器的全称为半导体结型二极管激光器,也称激光二极管,激光二极管的英文名称为laser diode,缩写为LD。大多数半导体激光器用的是GaAs或GaAlAs材料。P-N结激光器的基本结构和基本原理如图13-1所示,P-N结通常在N型衬底上生长P型层而形成。在P区和N区都要制作欧姆接触,使激励电流能够通过,这电流使得附近的有源区内产生粒子数反转(载流子反转),还需要制成两个平行的端面起镜面作用,为形成激光模提供必需的光反馈。 图13-1(a)半导体激光器结构

图13-1(b ) 半导体激光器工作原理图 2、半导体激光器的阈值条件 阈值电流作为各种材料和结构参数的函数的一个表达式: )]1ln(21[8202R a D en J Q th +?=ληγπ 这里, Q η是内量子效率,0λ是发射光的真空波长,n 是折射率, γ?是自发辐射线宽, e 是电子电荷,D 是光发射层的厚度, α是行波的损耗系数,L 是腔长,R 为功率反射系数。

图13-2半导体激光器的P-I特性 图13-3 不同温度下半导体激光器的发光特性 3、伏安特性 伏安特性描述的是半导体激光器的纯电学性质,通常用V-I曲线表示。V-I曲线的变化反映了激光器结特性的优劣。与伏安特性相关联的一个参数是LD的串联电阻。对V-I曲线进行一次微商即可确定工作电流(I)处的串联电阻(dV/dI)。对LD而言总是希望存在较小的串联电阻。 图13-4典型的V-I曲线和相应的dV/dI曲线 3、横模特性 半导体激光器的共振腔具有介质波导的结构,所以在共振腔中传播光以模的形式存在。每个模都由自己的传播系数β和横向电场分布,这些模就构成了半导体激光器中的横模。横模经端面出射后形成辐射场。辐射场的角分布沿平行于结面方向和垂直结面方向分别成为正横场和侧横场。 辐射场的角分布和共振腔的几何尺寸密切相关,共振腔横向尺寸越小,辐射场发射角越大。由于共振腔平行于结面方向的宽带大于垂直于结面方向的厚度。所以侧横场小于正横场 θ=,d表示共振腔宽度。共振发射角,如图13-5所示;侧横场发射角可近似表示为:d/λ

半导体激光器

半导体激光器 摘要:由于三五族化合物工艺的发展与半导体激光器的多种优点,近几十年来,半导体激光器发展十分迅速,而且在各个领域发挥着越来越重要的作用。本文将介绍半导体激光器的基本理论原理、相关发展历程、研究现状以及其广泛的应用。 1.引言 自1962 年世界上第一台半导体激光器发明问世以来, 半导体激光器发生了巨大的变化, 极大地推动了其他科学技术的发展, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一[1], 近十几年来, 半导体激光器的发展更为迅速, 已成为世界上发展最快的一门激光技术[2]。激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子阱(单、多量子阱)等多种形式,制作方法从扩散法发展到液相外延(LPE)、气相外延(VPE)、分子束外延(MBE)、金属有机化合物气相淀积(MOCVD)、化学束外延(CBE) 以及它们的各种结合型等多种工艺[3]。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制及价格低廉等优点, 使得它目前在各个领域中应用非常广泛。 2.半导体激光器的基本理论原理 半导体激光器又称激光二极管(LD)。它的实现并不是只是一个研究工作者的或小组的功劳,事实上,半导体激光器的基本理论也是一大批科研人员共同智慧的结晶。 早在1953年,美国的冯·纽曼(John Von Neumann)在一篇未发表的手稿中第一个论述了在半导体中产生受激发射的可能性;认为可以通过向PN结中注入少数载流子来实现受激发射;计算了在两个布里渊区之间的跃迁速率。巴丁在总结了这个理论后认为,通过各种方法扰动导带电子和价带空穴的平衡浓度,致使非平衡少数载流子复合而产生光子,其辐射复合的速率可以像放大器那样,以同样频率的电磁辐射作用来提高。这应该说是激光器的最早概念。 苏联的巴索夫等对半导体激光器做出了杰出贡献,他在1958年提出了在半导体中实现粒子数反转的理论研究,并在1961年提出将载流子注入半导体PN结中实现“注入激光器”,并论证了在高度简并的PN结中实现粒子数反转的可能性,而且认为有源区周围高密度的多数载流子造成有源区边界两边的折射率有一差值,因而产生光波导效应。1961年,伯纳德和杜拉福格利用准费米能级的概念推导出了半导体有源介质中实现粒子数反转的条件,这一条件为次年半导体激光器的研制成功提供了重要理论指导。 1960年,贝尔实验室的布莱和汤姆逊提出了用半导体的平行解理面作为产生光反馈的谐振腔,为激发光提供反馈。 回顾这些理论发展历程,可以总结半导体激光器的基本理论原理:在直接带隙半导体PN结中,用注入载流子的方法实现伯纳德—杜拉福格条件所控制的粒子数反转;由高度简并的电子和空位复合所产生的受激光辐射在光学谐振腔内震荡并得到放大,最后产生相干激光输出[4]。 3.半导体激光器发展历程 在上述理论的影响下,以及1960年产生的红宝石激光器的刺激下,美国和苏

半导体激光器设计

半导体激光器设计 摘要:半导体激光器产生激光的机理,即必须建立特定激光能态间的粒子数反转,并有光学谐振腔。由于半导体材料物质结构的特异性和其中电子运动的特殊性,一方面产生激光的具体过程有许多特殊之处,另一方面所产生的激光光束也有独特的优势,使其在社会各方面广泛应用。从同质结到异质结,从信息型到功率型,激光的优越性也愈发明显,光谱范围宽,相干性增强,使半导体激光器开启了激光应用发展的新纪元。 关键词:受激辐射;光场;同质结;异质结;大功率半导体激光器 、八— 0刖言 半导体激光器是指以半导体材料为工作物质的激光器,又称半导体激光二极管(LD), 是20世纪60年代发展起来的一种激光器。半导体激光器的工作物质有几十种,例如砷化傢(GaAs),硫化镉(CdS)等,激励方式主要有电注入式,光泵式和高能电子束激励式三种。半导体激光器从最初的低温(77K)下运转发展到室温下连续工作;从同质结发展成单异质结双异质结,量子阱(单,多量子阱)等多种形式。半导体激光器因其波长的扩展,高功率激光阵列的出现以及可兼容的光纤导光和激光能量参数微机控制的出现而迅速发展.半导体激 光器的体积小,重量轻,成本低,波长可选择,其应用遍布临床,加工制造,军事,其中尤以大功率半导体激光器方面取得的进展最为突出。 1半导体激光器的工作原理 1.1激光产生原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件:(1)增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现。将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激

半导体激光器调研报告

半导体激光器调研报告 班级:电科 姓名:XXX 学号:20120xxx

半导体激光器又称激光二极管,是用半导体材料作为工作物质的激光器。由于物质结构上的差异,不同种类产生激光的具体过程比较特殊。常用工作物质有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器在室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体二极管激光器是最实用最重要的一类激光器。它体积小、寿命长,并可采用简单的注入电流的方式来泵浦其工作电压和电流与集成电路兼容,因而可与之单片集成。并且还可以用高达GHz的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,半导体二极管激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、测距以及雷达等方面以及获得了广泛的应用。 仪器简介: 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生激光的器件。.其工作原理是通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式。电注入式半导体激光器,一般是由砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。光泵式半导体激光器,一般用N型或P 型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励。在半导体激光器件中,性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器。 工作原理: 根据固体的能带理论,半导体材料中电子的能级形成能带。高能量的为导带,低能量的为价带,两带被禁带分开。引入半导体的非平衡电子-空穴对复合时,把释放的能量以发光形式辐射出去,这就是载流子的复合发光。 一般所用的半导体材料有两大类,直接带隙材料和间接带隙材料,其中直接带隙半导体材料如GaAs(砷化镓)比间接带隙半导体材料如Si有高得多的辐射跃迁几率,发光效率也高得多。 半导体复合发光达到受激发射(即产生激光)的必要条件是:①粒子数反转分布分别从P型侧和n型侧注入到有源区的载流子密度十分高时,占据导带电子态的电子数超过占据价带电子态的电子数,就形成了粒子数反转分布。②光的谐振腔在半导体激光器中,谐振腔由其两端的镜面组成,称为法布里一珀罗腔。③高增益用以补偿光损耗。谐振腔的光损耗主要是从反射面向外发射的损耗和介质的光吸收。 半导体激光器是依靠注入载流子工作的,发射激光必须具备三个基本条件: (1)要产生足够的粒子数反转分布,即高能态粒子数足够的大于处于低能态的粒子数; (2)有一个合适的谐振腔能够起到反馈作用,使受激辐射光子增生,从而产生激光震荡;

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