硅集成工艺第01课
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硅集成电路(Silicon Integrated Circuit,简称Si IC)工艺是制造集成电路的关键技术。
下面是硅集成电路工艺的基础知识:
半导体材料:硅是最常用的半导体材料,因其丰富、稳定、可控制的电子特性而被广泛应用于集成电路制造。
显示基片:硅晶圆(Silicon Wafer)是制造硅集成电路的基础材料。
晶圆要求高纯度和平整度,并通过特定的杂质掺入工艺形成P型或N型半导体。
清洁和沉积:在制造过程中,晶圆需要经过清洁工艺以去除杂质和污染物。
然后,在晶圆上进行化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等薄膜沉积工艺,将各种功能层沉积在晶圆表面。
光刻:光刻是通过光刻胶(Photoresist)层和光刻机将设计好的图形传输到晶圆上。
光刻胶在曝光后通过显影工艺形成光刻图形,可以作为掩模来制备电路中的电子器件。
电子器件制造:通过沉积、蚀刻、掺杂等工艺步骤,在晶圆上制造各种类型的电子器件,如晶体管、电容器和电阻器等。
这些器件通常由不同的半导体材料和各种金属、氧化物和多层薄膜组成。
金属互连:通过沉积导电金属(如铜、铝等),并通过光刻、蚀刻等工艺形成金属线、连线和接触以连接各个电子器件。
金属互连提供了电子信号和电能传输的路径。
封装测试:晶圆完成器件制造后,它们被切割成单个芯片,然后通过封装工艺将芯片封装在塑料或陶瓷封装中。
最后,通过功能测试和可靠性测试来验证芯片的工作状态和性能。
这些是硅集成电路工艺的基础知识,基于这些基础,可以制造各种类型和规模的集成电路。
还有许多先进的工艺技术和制造方法,如多晶硅、离子注入、深紫外光刻等,用于制造更复杂、更高性能的集成电路。
1 SiO2的结构和性质:①分为结晶形和非结晶形(无定形),均由Si-O四面体组成:中心-硅原子,四个顶角-氧原子,形成O-Si-O 键桥,相邻四面体靠此键桥连接。
结晶形SiO2—由Si-O四面体在空间规则排列所构成。
非结晶形SiO2—依靠桥键氧把Si-O四面体无规则地连接起来,构成三维的玻璃网络体。
②热氧化制备SiO2的过程中,是氧或水汽等氧化剂穿过SiO2层,到达Si-SiO2界面,与Si反应生成SiO2,而不是Si向SiO2外表面运动、在表面与氧化剂反应生成SiO2。
2 SiO2的掩蔽作用:按杂质在网络中所处的位置可分为两类:网络形成者和网络改变者。
网络形成者(剂)--可以替代SiO2网络中硅的杂质,也就是能代替Si-O四面体中心的硅,并能与氧形成网络的杂质。
特点:离子半径与硅接近。
网络改变者(剂)--存在于SiO2网络间隙中的杂质。
一般以离子形式存在网络中。
特点:离子半径较大,以氧化物形式进入SiO2中,进入网络之后便离化,并把氧离子交给SiO2网络。
硅的热氧化的两种极限:一:当氧化剂在中的扩散系数D SiO2 很小时称为扩散控制,二当扩散系数D SiO2很大时称为反应控制。
3决定氧化常数的各种因素和影响氧化速率的因素:(1)氧化剂分压,在一定的氧化条件下,通过改变氧化剂分压课达到改变二氧化硅的生长速率的目的。
(2)氧化温度,温度对抛物型速率常数的影响是通过氧化剂在SiO2中的扩散系数产生的。
(3)硅表面晶向对氧化速率的影响。
(4)杂质对氧化速率的影响4 决定热氧化过程中的杂质在分布的因素:a杂质的分凝现象,b杂质通过二氧化硅的表面逸散,c氧化速率的快慢,d杂质在二氧化硅中的扩散速度。
5分凝系数与再分布的关系:m=杂志在硅中的平衡浓度/杂质在二氧化硅中的平衡浓度四种分凝现象:m<1,SiO2中慢扩散:B;m<1, SiO2中快扩散:H2气氛中的B;m>1, SiO2中慢扩散:P; m>1, SiO2中快扩散:Ga;6杂质扩散机构:(1)间隙式扩散——杂质在晶格间的间隙运动,(2)替位式扩散——杂质原子从一个晶格点替位位置运动到另一个替位位置。
硅集成电路工艺一、图形转换光刻:接触光刻、接近光刻、投影光刻、电子束光刻光刻的作用:将掩模版上的图形转移到硅片表面,IC制造中应用的次数最多。
光刻的材料•光源•光刻胶•掩膜版光刻胶(Photoresist)光刻胶:它是由聚合物(曝光后结构发生变化) ,光敏化合物(PAC)(控制化学反应) ,溶剂(用于旋转涂复时控制粘度) 组成。
由曝光改变显影程度分类:1)正型胶2)负型胶光刻设备(光刻机)它是一种最简单的对准机。
有接触式、接近式和投影式三种。
1)接触式光刻机的优点:相对不贵的设备制出小的特征尺寸。
由于硅片和掩模不可能完全平整,硅片与掩模间的间隙不为0。
可以提高气压来增进接触,并采用极薄的光刻胶,这种光刻机已经可以制备到1nm的特征尺寸。
缺点:涂覆光刻胶的圆片与掩模版的接触会在这两者上面同时造成缺陷。
2)接近式光刻机3)投影光刻机——最普遍商用的光刻机优点:a.有接触式的分辨率;b.不产生缺陷。
光刻的步骤:衬底准备--涂胶--前烘--对准与曝光--曝光后烘烤--显影--坚膜--显影检查光刻质量的检测与控制1)光刻质量的要求∶图形完整、尺寸准确、无玷污和无残留物2)陷的产生与控制:)空气中灰尘的玷污;b)工艺操作引入;c)材料不纯产生光刻误差的原因:1、由于光的表面反射引起线宽变化不同的薄膜,表面反射不同,所需的曝光量不同。
当薄膜形成台阶后,使不曝光的区域光刻胶曝光而使图形控制变差。
解决办法:a.改变淀积速率以控制薄膜的反射率;b.避免薄膜表面高度差,表面平坦化化处理(CMP)。
C .光刻胶下涂覆抗反射的聚合物:2、驻波效应大部分光刻胶线条的边缘存在螺纹形状。
它是由于表面驻波造成的。
由于入射光与反射光间的相长与相消形成的。
干涉的结果造成光刻胶中的光强随厚度变化,引起曝光的变化从而产生胶溶解率的变化。
解决办法:应用抗反射剂能全部消除驻波图形。
3、对准引入的误差刻蚀:干法刻蚀、湿法刻蚀刻蚀的目的和方法:1、目的∶将光刻得到的胶膜图形转移到硅片表面的薄膜上,即利用光刻胶膜的覆盖和保护作用,以化学反应或物理作用的方式去除没有胶保护的薄膜,完成图形转移的目的。
硅集成电路基本工艺流程简介硅集成电路基本工艺流程简介近年来,日新月异的硅集成电路工艺技术迅猛发展,一些新技术、新工艺也在不断地产生,然而,无论怎样,硅集成电路制造的基本工艺还是不变的。
以下是关于这些基本工艺的简单介绍。
IC制造工艺的基本原理和过程IC基本制造工艺包括:基片外延生长、掩模制造、曝光、氧化、刻蚀、扩散、离子注入及金属层形成。
一、硅片制备(切、磨、抛)1、晶体的生长(单晶硅材料的制备):1) 粗硅制备: SiO2+2H2=Si+2H2O99%经过提纯: >99.999999%2) 提拉法基本原理是将构成晶体的原料放在坩埚中加热熔化,在熔体表面接籽晶提拉熔体,在受控条件下,使籽晶和熔体的交界面上不断进行原子或分子的重新排列,随降温逐渐凝固而生长出单晶体.2、晶体切片:切成厚度约几百微米的薄片二、晶圆处理制程主要工作为在硅晶圆上制作电路与电子元件,是整个集成电路制造过程中所需技术最复杂、资金投入最多的过程。
功能设计à模块设计à电路设计à版图设计à制作光罩其工艺流程如下:1、表面清洗晶圆表面附着一层大约2um的Al2O3和甘油混合液保护之,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗。
2、初次氧化有热氧化法生成SiO2 缓冲层,用来减小后续中Si3N4对晶圆的应力氧化技术干法氧化 Si(固) + O2 à SiO2(固)湿法氧化 Si(固) +2H2O à SiO2(固) + 2H23、CVD法沉积一层Si3N4。
CVD法通常分为常压CVD、低压CVD 、热CVD、电浆增强 CVD及外延生长法(LPE)。
着重介绍外延生长法(LPE):该法可以在平面或非平面衬底上生长出十分完善的和单晶衬底的原子排列同样的单晶薄膜的结构。
在外延工艺中,可根据需要控制外延层的导电类型、电阻率、厚度,而且这些参数不依赖于衬底情况。
4、图形转换(光刻与刻蚀)光刻是将设计在掩模版上的图形转移到半导体晶片上,是整个集成电路制造流程中的关键工序,着重介绍如下:1)目的:按照平面晶体管和集成电路的设计要求,在SiO2或金属蒸发层上面刻蚀出与掩模板完全对应的几何图形,以实现选择性扩散和金属膜布线。