多晶硅工艺流程
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多晶硅生产工艺流程
《多晶硅生产工艺流程》
多晶硅是一种常见的半导体材料,广泛应用于光伏发电、集成电路和光电器件等领域。
多晶硅的生产工艺流程主要包括石英矿石提炼、气相法制备、液相法制备和晶体生长等几个主要步骤。
首先,石英矿石提炼是多晶硅生产工艺的第一步。
石英矿石是多晶硅的原料,通过石英矿石提炼可以得到高纯度的二氧化硅。
高纯度的二氧化硅是制备多晶硅的重要原料,其纯度和质量对多晶硅的品质有着重要影响。
接下来是气相法制备。
气相法制备多晶硅是目前最常用的生产工艺之一。
该工艺利用氯化硅和氢气作为原料,在高温炉中反应生成三氯化硅,再通过还原反应得到多晶硅。
在这一过程中,要控制好温度、压力和气相成分等参数,以确保多晶硅的纯度和晶体结构的良好性能。
除了气相法制备外,液相法制备也是一种常见的多晶硅生产工艺。
液相法制备多晶硅是利用高纯度的硅溶液,在特定条件下结晶成多晶硅体。
这种工艺比气相法更容易控制晶体形貌和性能,但也需要严格控制各种条件参数,以确保多晶硅的品质。
最后一步是晶体生长。
多晶硅晶体生长是制备高纯度、大尺寸多晶硅的关键步骤。
通过合理设计工艺和设备,控制晶体生长速率和结晶方向,可以获得高质量的多晶硅晶体。
总的来说,多晶硅的生产工艺流程包括石英矿石提炼、气相法制备、液相法制备和晶体生长等几个主要步骤。
通过合理控制工艺参数和采用高质量的原料,可以获得高纯度、优质的多晶硅产品,满足不同领域的应用需求。
多晶硅工艺流程
多晶硅的制备主要采用特殊的晶体生长技术,这是一种超大晶粒晶体的生长方式。
这种方式又分为准多晶体和绝对多晶体两种情况。
一般情况下,先从锆钨系金属中分离出液态锆,将其加热达到液态饱和状态,然后在合适的A/B氊气中浸渍晶体,保持恒定温度(烧结)再经过缓慢升温整体冰晶晶体(准多晶),最后利用晶体枝晶生长工艺产生绝对多晶。
多晶硅的具体工艺流程主要有如下步骤:
1.金属锆的提取:从锆钨系金属中提取出锆矿,用浓氢氧化或酸溶处理以去除其他元素后制晶成液态锆。
2.镁添加和生长液的配置:将液态锆加入Mg来形成锆-Mg复合物,再加上A/B氊气与分子添加剂、阴离子和其他添加剂,在合适的温度下形成有序液体系统。
3.烧结:将液态锆-Mg复合物烧结至恒定温度,形成准多晶,通常为1400-1450℃。
4.冰晶生长:在适当温度(1400-1550℃)下进行冰晶生长,形成绝对多晶。
5.晶体切割:切割出绝对多晶,形成多晶硅晶面。
6.经过处理:经过热处理、硅气流蚀和绝缘厚度控制等装配后,最终用来制备多晶硅片。
多晶硅工艺流程范文1.原料处理:首先,将硅矿石经过破碎、磨矿等步骤,得到粒度较小的硅矿石。
然后,进行浮选处理,将其中的杂质去除,获得较纯的硅精矿。
2.熔炼:将硅精矿与足够量的还原剂(通常为木炭)加入电炉中进行熔炼。
电炉中通入高纯度的氯化氢气体,以保持熔融硅的高纯度。
在适当的温度下,硅精矿和木炭发生反应生成三氯化硅,而不被氯化氢气氧化。
通过冷却,获得三氯化硅的固体颗粒。
3.气相法还原:将三氯化硅固体颗粒与氢气反应,还原成气态的硅和氯化氢。
此反应通过高温(约1300-1500℃)的加热来实现,通常使用电阻炉或火焰炉。
气态硅通过冷凝,得到一定纯度的多晶硅。
4.清洗和加工:通过湿法清洗去除多晶硅中的杂质。
首先,将多晶硅颗粒浸泡在酸性溶液中,以去除表面的氧化物。
然后,通过碱性溶液或氢氟酸等进行进一步的清洗,以除去残余的杂质。
最后,对多晶硅进行干燥和研磨,形成所需的晶体颗粒。
5.晶棒制备:将多晶硅颗粒加入高温石英坩埚中进行熔融。
通过引入控制的电磁场或旋转的晶棒种子,在适当的温度和冷却速率下,将熔融的硅逐渐凝固成为晶棒。
这一步骤通常在选择性区域熔凝(CZ)或浮区(FZ)炉中完成。
6. 晶圆制备:将晶棒切割成适当尺寸(通常为200-300mm直径)的晶圆。
切割晶圆的常用方法是利用钻石锯片进行切割。
在切割后,晶圆表面通常会有一层氧化物涂层。
7.控制冶炼:为了进一步减小晶圆的杂质含量,可以通过控制冶炼(CZ)技术进行处理。
在高温下,将晶圆放入特定的气氛中,通过扩散和扩散反应,进一步净化晶圆材料。
8.高纯度多晶硅的制备:对于要求特别高纯度的多晶硅,还可以使用其它方法进行进一步的洁净和纯化处理,如选区熔凝(ZMR)或高温氢气气相沉积(HDCVD)等。
综上所述,多晶硅工艺流程是一个复杂的过程,包括原料处理、熔炼、气相法还原、清洗和加工、晶棒制备、晶圆制备、控制冶炼等多个步骤。
每个步骤都需要严格的操作和控制,以保证高纯度多晶硅的制备。
多晶硅生产工艺流程1.原料准备:多晶硅的主要原料是二氧化硅(SiO2)。
二氧化硅可以通过石英砂的氧化或由硅酸盐矿石提取得到。
在这一阶段,原料经过破碎和乳磨处理,使其达到所需的颗粒度和纯度要求。
2.冶炼:原料经过冶炼处理,通常采用电弧炉。
将原料装入电弧炉中,电极产生电弧,在高温下使原料中的二氧化硅还原为Si元素。
此时,通过调节电弧能量和保护气氛,可以控制冶炼过程中硅的还原率和杂质含量。
3. 晶体生长:冶炼得到的熔体在结晶炉中逐渐冷却形成固态晶体。
晶体生长通常分为凝固和维持两个阶段。
在凝固阶段,通过从熔体中引出硅棒(seed rod)开始结晶。
维持阶段是为了确保晶体的一致性和品质,稳定恒温和恒噪声的条件。
4.修整和截切:生长得到的多晶硅棒经过修整和截切。
修整是将棒顶部和侧面修整成规定的形状和尺寸。
截切是将棒切割成整块多晶硅圆片,供下一步加工使用。
5.加工:截切得到的多晶硅圆片经过机械加工和化学加工,准备成为太阳能电池片的衬底材料。
机械加工包括剪切、研磨和抛光,以去除表面缺陷和提高光学性能。
化学加工则是通过腐蚀和蚀刻来改善表面质量和减少电阻。
6.染色:在加工完成后,多晶硅圆片表面通常会进行染色。
染色是为了增加表面的光吸收能力,提高太阳能电池的光电转换效率。
常见的染色方法有浸渍染色和蘸涂染色。
7.电池芯片制造:染色后的多晶硅圆片经过腐蚀和清洗,然后通过光刻、扩散、沟槽加工等步骤,制备成太阳能电池芯片。
光刻是指用光刻胶进行图案制作,并以光为媒介进行刻蚀或扩散。
扩散是为了向硅片中掺入杂质,形成p型和n型硅层,形成p-n结,并在结界面形成能提高光电转换效率的电场。
8.封装和测试:电池芯片完成后,进行封装和测试。
封装是将电池芯片与电路连接、封装成太阳能电池模组。
测试是通过电流-电压曲线、光谱响应和效率测量等方法,对太阳能电池进行性能评估和质量控制。
以上是多晶硅生产的基本流程。
不同工厂和生产线可能会有一些细微的差别和特殊要求。
多晶硅工艺流程
《多晶硅工艺流程》
多晶硅是一种重要的半导体材料,被广泛应用于太阳能电池、集成电路等领域。
多晶硅生产的工艺流程非常复杂,需要经过多个步骤才能得到高质量的多晶硅材料。
以下是一个常见的多晶硅工艺流程:
1. 原料准备
多晶硅的主要原料是硅石和炭素材料,通常是石英砂和木炭。
在工艺开始之前,这些原料需要经过严格的筛选和预处理,以确保它们的纯度和质量符合生产要求。
2. 熔炼
在熔炼工艺中,将预处理好的原料放入高温炉中进行加热,使其熔化成为硅铁合金。
熔融状态下的硅铁合金会流出炉中并被冷却凝固,形成多晶硅晶块。
3. 晶棒拉制
凝固后的多晶硅晶块需要进行加热和拉制,以将其变成圆柱形的晶棒。
这个过程需要非常精密的控制温度和拉力,以确保晶棒的质量和尺寸符合要求。
4. 检测和切割
晶棒拉制完成后,需要对其进行严格的检测,以确保其结构和纯度符合要求。
然后将晶棒切割成薄片,用于制造太阳能电池或集成电路。
5. 清洗和精磨
切割后的多晶硅薄片需要进行清洗和精磨,以去除表面杂质和缺陷。
这个步骤非常关键,因为薄片的表面质量直接影响了最终产品的性能和效率。
6. 最终生产
经过清洗和精磨后的多晶硅薄片可以进行最终生产,制造成太阳能电池、集成电路等产品。
这些产品经过各种加工工艺后,最终成为市场上所需的高品质多晶硅制品。
总的来说,多晶硅的工艺流程非常复杂,需要严格的控制和精密的操作。
只有经过严格的工艺流程和精心的工艺控制,才能生产出高质量的多晶硅产品。
多晶硅生产流程
多晶硅的生产流程主要包括以下几个环节:
1. 原料制备:多晶硅的主要原料是硅矿石,经过破碎、磨矿和洗选等工艺处理后,得到纯度较高的硅精矿。
然后将硅精矿与还原剂(通常为石油焦)按一定比例混合,经过球磨、混合搅拌、干燥等工艺,制备成混合料。
2. 电炉熔炼:混合料被装入电炉中,通过电阻加热进行熔炼。
3. 晶体生长:熔炼后的硅熔体经过一定时间的冷却凝固,形成晶体。
这一过程需要精确控制温度、压力等参数,以确保晶体的质量和一致性。
4. 切片和加工:形成的晶体经过切片和加工,得到多晶硅块。
这个过程可能需要进一步处理,如清洗、抛光和筛选等,以确保产品的质量和规格。
另外,还有一些特殊的方法可以用于多晶硅的生产,例如流化床法和硅烷法。
流化床法以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床内高温高压下生成三氯氢硅,将三氯氢硅再进一步歧化加氢反应生成二氯二氢硅,继而生成硅烷气。
制得的硅烷气通入加有小颗粒硅粉的流化床反应炉内进行连续热分解反应,生成粒状多晶硅产品。
而硅烷法则是将制得的硅烷气提纯后在热分解炉生产纯度较高的棒状多晶硅。
多晶硅生产工艺多晶硅是一种高纯度的硅材料,广泛应用于电子、光电和太阳能等领域。
多晶硅的制备工艺主要包括净化硅材料、化学气相沉积和熔融法等。
本文将从多晶硅生产的三个关键步骤入手,详细介绍多晶硅的生产工艺。
一、净化硅材料多晶硅的生产基础是高纯度硅材料,一般采用电石法或硅锭法生产。
在电石法中,石油焦、白炭黑等原料经高温炉处理生成硅单质,再通过进一步的加热处理和气相冷却得到高纯度的硅粉末。
硅锭法是利用单晶硅作为原料,通过高温熔化并在特殊条件下生长出大型晶体锭。
这两种方法都需要对产生的硅材料进行净化处理,以获得较高的纯度。
在净化过程中,首先需要通过化学方法除去硅杂质,例如氧化物、碳和氮等。
一般采用氢氧化钠或氢氧化铝作为碱性还原剂,使硅材料与还原剂反应生成挥发性化合物的气体,通过气体与净化剂的反应使杂质得到去除。
其次,通过热处理和气相冷却等方法去除非金属杂质,例如碳、氧、氮、铁、铝等。
最后,通过电石法或硅锭法制备出较高纯度的硅粉或硅锭,成为制备多晶硅的基础原料。
二、化学气相沉积法化学气相沉积法是多晶硅生产的主要方法之一。
其基本原理是利用硅化合物热分解生成硅单质并在沉积基底上生长晶体。
一般采用氯硅烷、氯化硅、三氯硅烷等硅化合物作为原料气体,通过加热至高温(1000-1400℃)使硅化合物分解,生成氯离子和硅单质原子。
硅单质原子进一步在沉积基底上生长成为多晶硅晶体。
在化学气相沉积法中,氯化氢和二氧化硅等气体通入反应器内,使反应器内维持一定的反应压力(约5-10kPa),并保证反应器内气氛处于还原条件下。
在材料沉积过程中,需要控制反应器的温度、反应气压和气体流量等参数,以使沉积层的粗细、取向和晶界质量达到理想状态。
三、熔融法熔融法是多晶硅生产的另一种常用方法。
其主要流程是将高纯度硅材料加热至熔化状态,然后在特定条件下进行成型和冷却。
其中的关键步骤包括炼铝电池法、湖式法和化学熔融法等。
炼铝电池法是将硅粉末加入熔融的铝中,在高温高压下反应生成硅铝合金,然后通过冷却、破碎等过程,得到晶粒尺寸较小的多晶硅。
多晶硅生产工艺流程多晶硅是太阳能光伏产业的重要材料,其生产工艺流程可以分为精炼硅矿石、提炼硅、精炼硅、制备硅棒、切割硅片、清洗硅片、多晶硅晶体生长、切割多晶硅棒、制备多晶硅片等几个步骤。
首先是精炼硅矿石的过程。
精炼硅矿石是从矿石中提取硅的原料,主要有黄砂矿和白云石两种。
首先将硅矿石破碎成较小的颗粒,然后通过浮选、磁选等方法去除其中的杂质。
最后将得到的矿石粉末与化学试剂混合,进行还原反应,以得到纯度较高的硅。
接下来是提炼硅的过程。
提炼硅是将精炼的硅矿石进一步纯化,使其纯度达到99.999%以上。
提炼硅主要使用的方法是常压提炼法和低压提炼法。
常压提炼法是将精炼硅矿石与氢气在高温下反应,氟化硅蒸汽冷凝在石英棒上,然后化学还原升温,得到高纯度的批量硅。
低压提炼法是将精炼硅矿石与氢气在低压下反应,得到纯度更高的单晶硅。
提炼硅的关键是在高温下去除氧、杂质和金属,使硅的纯度达到要求。
然后是精炼硅的过程。
精炼硅是指将提炼硅的硅锭溶解在金属硅中再结晶,去除其中的杂质,提高硅的纯度。
首先将提炼硅的硅锭放入炉中,加入金属硅和杂质捕捉剂,加热熔化。
然后通过熔炼和冷却的过程,杂质被分配到金属硅中,纯净的硅从液体中结晶出来。
精炼硅的关键是控制温度、压力、固液比例和加入适量的杂质捕捉剂,以得到高纯度的硅。
接下来是制备硅棒的过程。
制备硅棒是将精炼的硅溶液铸造成硅棒,然后经过拉锭拉制成硅片的过程。
首先将熔化的精炼硅溶液倒入铸模中,形成硅棒。
然后通过拉锭机将硅棒拉制成所需尺寸和厚度的硅片。
制备硅棒的关键是控制温度和拉锭速度,以确保硅片的质量。
然后是切割硅片的过程。
切割硅片是将拉制好的硅棒切成所需尺寸的硅片。
首先将硅棒用锯片切成薄片,然后使用研磨机把硅片切磨成所需尺寸和厚度。
切割硅片的关键是确保切割面的平整度和尺寸精度。
接下来是清洗硅片的过程。
清洗硅片是将切割好的硅片进行物理和化学的清洗,去除其中的污染物和残留物。
清洗硅片的关键是使用合适的溶剂和清洗设备,以确保硅片的表面干净无尘。
第1篇一、引言多晶硅是光伏产业和半导体产业的重要原材料,广泛应用于太阳能电池、太阳能热利用、半导体器件等领域。
随着新能源产业的快速发展,对多晶硅的需求量日益增加。
本文将详细介绍多晶硅的生产工艺流程,旨在为相关企业和研究人员提供参考。
二、多晶硅生产工艺流程概述多晶硅的生产工艺流程主要包括以下几个阶段:原料处理、还原反应、熔融提纯、铸造、切割、清洗、包装等。
三、多晶硅生产工艺流程详解1. 原料处理多晶硅的生产原料主要是冶金级硅(Si),其含量在98%以上。
首先,将冶金级硅进行破碎、研磨等处理,使其达到一定的粒度要求。
2. 还原反应还原反应是多晶硅生产的关键环节,其主要目的是将冶金级硅中的杂质去除,得到高纯度的多晶硅。
还原反应分为以下几个步骤:(1)将处理后的冶金级硅加入还原炉中。
(2)在还原炉中通入还原剂,如碳、氢气等,与冶金级硅发生还原反应。
(3)在还原过程中,炉内温度保持在约1100℃左右,反应时间为几小时至几十小时。
(4)反应结束后,将还原炉内的物料进行冷却、破碎、研磨等处理。
3. 熔融提纯还原反应得到的粗多晶硅中仍含有一定的杂质,需要通过熔融提纯的方法进一步去除。
熔融提纯主要包括以下几个步骤:(1)将粗多晶硅加入熔融炉中。
(2)在熔融炉中通入提纯剂,如氢气、氯气等,与粗多晶硅发生反应,生成挥发性杂质。
(3)将挥发性杂质通过炉顶排气系统排出,实现提纯。
(4)提纯结束后,将熔融炉内的物料进行冷却、破碎、研磨等处理。
4. 铸造将提纯后的多晶硅熔体倒入铸造炉中,进行铸造。
铸造过程主要包括以下几个步骤:(1)将熔融的多晶硅倒入铸锭模具中。
(2)在铸锭模具中通入冷却水,使多晶硅迅速凝固。
(3)待多晶硅凝固后,将铸锭模具从熔融炉中取出,得到多晶硅铸锭。
5. 切割将多晶硅铸锭切割成所需尺寸的硅片。
切割过程主要包括以下几个步骤:(1)将多晶硅铸锭放置在切割机上。
(2)在切割机上安装切割刀片,将多晶硅铸锭切割成硅片。
多晶硅制作工艺流程
多晶硅的制备工艺主要包括多晶硅原料的制备、氯化还原法和硅热法
制备多晶硅两种主要工艺流程。
多晶硅制备工艺的第一步是原料的制备。
常用的多晶硅原料有硅矿石、金属硅等。
硅矿石是一种含有高纯度二氧化硅的矿石,通过富集和提纯可
以制备出多晶硅。
金属硅是通过化学还原法将二氧化硅直接还原得到的。
第二步是氯化还原法制备多晶硅。
这种方法利用三氯化硅(SiCl3)
作为中间产物,由氢气还原得到多晶硅。
具体流程如下:
(1)将原料硅矿石破碎、研磨成一定粒度的颗粒;
(2)将硅矿石与氢气在矿炉内进行反应生成氯化硅;
(3)将氯化硅与氢气在还原炉内进行反应,得到多晶硅和氯化氢。
氯化还原法制备多晶硅的优点是工艺相对简单,生产周期短,但由于
使用氯化氢等有毒气体,对环境污染较严重。
第三步是硅热法制备多晶硅。
这种方法用纯度较高的二氧化硅与金属
硅在高温下进行反应,得到多晶硅。
具体流程如下:
(1)将二氧化硅和金属硅混合均匀;
(2)将混合物放入反应炉内,在高温下进行反应;
(3)将反应后的产物进行冷却处理,得到多晶硅。
硅热法制备多晶硅的优点是生产过程中无需使用有毒气体,对环境污
染相对较少。
但工艺相对复杂,生产周期较长。
以上是多晶硅制备的两种主要工艺流程。
在实际生产中,根据企业的需求,可以选择其中一种或两种工艺进行制备。
此外,为了提高多晶硅的纯度和晶体结构,还可以通过后续的熔融、浮选、凝固等工艺步骤进行进一步的提纯和改善晶体质量。
多晶硅工艺流程简述(改良西门子法及氢化)氢气制备及净化工序在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。
电解制得的氢气经过冷却、分离液体后,进入除氧器,在催化剂的作用下,氢气中的微量氧气及氢气反应生成水而被除去。
除氧后的氢气通过一组吸附干燥器而被干燥。
净化干燥后的氢气送入氢气贮罐,然后送往氯化氢合成、三氯氢硅氢还原、四氯化硅氢化工序。
电解制得的氧气经冷却、分离液体后,送入氧气贮罐。
出氧气贮罐的氧气送去装瓶。
气液分离器排放废吸附剂、氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放、干燥器有废吸附剂排放,均供货商回收再利用。
氯化氢合成工序从氢气制备及净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。
出氢气缓冲罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。
从液氯汽化工序来的氯气经氯气缓冲罐,也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。
氢气及氯气的混合气体在燃烧枪出口被点燃,经燃烧反应生成氯化氢气体。
出合成炉的氯化氢气体流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后,被送往三氯氢硅合成工序。
为保证安全,本装置设置有一套主要由两台氯化氢降膜吸收器和两套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的氯化氢气体吸收系统,可用水吸收因装置负荷调整或紧急泄放而排出的氯化氢气体。
该系统保持连续运转,可随时接收并吸收装置排出的氯化氢气体。
为保证安全,本工序设置一套主要由废气处理塔、碱液循环槽、碱液循环泵和碱液循环冷却器组成的含氯废气处理系统。
必要时,氯气缓冲罐及管道内的氯气可以送入废气处理塔内,用氢氧化钠水溶液洗涤除去。
该废气处理系统保持连续运转,以保证可以随时接收并处理含氯气体。
三氯氢硅合成工序原料硅粉经吊运,通过硅粉下料斗而被卸入硅粉接收料斗。
硅粉从接收料斗放入下方的中间料斗,经用热氯化氢气置换料斗内的气体并升压至及下方料斗压力平衡后,硅粉被放入下方的硅粉供应料斗。
供应料斗内的硅粉用安装于料斗底部的星型供料机送入三氯氢硅合成炉进料管。
从氯化氢合成工序来的氯化氢气,及从循环氯化氢缓冲罐送来的循环氯化氢气混合后,引入三氯氢硅合成炉进料管,将从硅粉供应料斗供入管内的硅粉挟带并输送,从底部进入三氯氢硅合成炉。
在三氯氢硅合成炉内,硅粉及氯化氢气体形成沸腾床并发生反应,生成三氯氢硅,同时生成四氯化硅、二氯二氢硅、金属氯化物、聚氯硅烷、氢气等产物,此混合气体被称作三氯氢硅合成气。
反应大量放热。
合成炉外壁设置有水夹套,通过夹套内水带走热量维持炉壁的温度。
出合成炉顶部挟带有硅粉的合成气,经三级旋风除尘器组成的干法除尘系统除去部分硅粉后,送入湿法除尘系统,被四氯化硅液体洗涤,气体中的部分细小硅尘被洗下;洗涤同时,通入湿氢气及气体接触,气体所含部分金属氧化物发生水解而被除去。
除去了硅粉而被净化的混合气体送往合成气干法分离工序。
合成气干法分离工序从三氯氢硅氢合成工序来的合成气在此工序被分离成氯硅烷液体、氢气和氯化氢气体,分别循环回装置使用。
三氯氢硅合成气流经混合气缓冲罐,然后进入喷淋洗涤塔,被塔顶流下的低温氯硅烷液体洗涤。
气体中的大部份氯硅烷被冷凝并混入洗涤液中。
出塔底的氯硅烷用泵增压,大部分经冷冻降温后循环回塔顶用于气体的洗涤,多余部份的氯硅烷送入氯化氢解析塔。
出喷淋洗涤塔塔顶除去了大部分氯硅烷的气体,用混合气压缩机压缩并经冷冻降温后,送入氯化氢吸收塔,被从氯化氢解析塔底部送来的经冷冻降温的氯硅烷液体洗涤,气体中绝大部分的氯化氢被氯硅烷吸收,气体中残留的大部分氯硅烷也被洗涤冷凝下来。
出塔顶的气体为含有微量氯化氢和氯硅烷的氢气,经一组变温变压吸附器进一步除去氯化氢和氯硅烷后,得到高纯度的氢气。
氢气流经氢气缓冲罐,然后返回氯化氢合成工序参及合成氯化氢的反应。
吸附器再生废气含有氢气、氯化氢和氯硅烷,送往废气处理工序进行处理。
出氯化氢吸收塔底溶解有氯化氢气体的氯硅烷经加热后,及从喷淋洗涤塔底来的多余的氯硅烷汇合,然后送入氯化氢解析塔中部,通过减压蒸馏操作,在塔顶得到提纯的氯化氢气体。
出塔氯化氢气体流经氯化氢缓冲罐,然后送至设置于三氯氢硅合成工序的循环氯化氢缓冲罐;塔底除去了氯化氢而得到再生的氯硅烷液体,大部分经冷却、冷冻降温后,送回氯化氢吸收塔用作吸收剂,多余的氯硅烷液体(即从三氯氢硅合成气中分离出的氯硅烷),经冷却后送往氯硅烷贮存工序的原料氯硅烷贮槽。
氯硅烷分离提纯工序在三氯氢硅合成工序生成,经合成气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的原料氯硅烷贮槽;在三氯氢硅还原工序生成,经还原尾气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的还原氯硅烷贮槽;在四氯化硅氢化工序生成,经氢化气干法分离工序分离出来的氯硅烷液体送入氯硅烷贮存工序的氢化氯硅烷贮槽。
原料氯硅烷液体、还原氯硅烷液体和氢化氯硅烷液体分别用泵抽出,送入氯硅烷分离提纯工序的不同精馏塔中。
三氯氢硅氢还原工序经氯硅烷分离提纯工序精制的三氯氢硅,送入本工序的三氯氢硅汽化器,被热水加热汽化;从还原尾气干法分离工序返回的循环氢气流经氢气缓冲罐后,也通入汽化器内,及三氯氢硅蒸汽形成一定比例的混合气体。
从三氯氢硅汽化器来的三氯氢硅及氢气的混合气体,送入还原炉内。
在还原炉内通电的炽热硅芯/硅棒的表面,三氯氢硅发生氢还原反应,生成硅沉积下来,使硅芯/硅棒的直径逐渐变大,直至达到规定的尺寸。
氢还原反应同时生成二氯二氢硅、四氯化硅、氯化氢和氢气,及未反应的三氯氢硅和氢气一起送出还原炉,经还原尾气冷却器用循环冷却水冷却后,直接送往还原尾气干法分离工序。
还原炉炉筒夹套通入热水,以移除炉内炽热硅芯向炉筒内壁辐射的热量,维持炉筒内壁的温度。
出炉筒夹套的高温热水送往热能回收工序,经废热锅炉生产水蒸汽而降温后,循环回本工序各还原炉夹套使用。
还原炉在装好硅芯后,开车前先用水力射流式真空泵抽真空,再用氮气置换炉内空气,再用氢气置换炉内氮气(氮气排空),然后加热运行,因此开车阶段要向环境空气中排放氮气,和少量的真空泵用水(可作为清洁下水排放);在停炉开炉阶段(约5-7天1次),先用氢气将还原炉内含有氯硅烷、氯化氢、氢气的混合气体压入还原尾气干法回收系统进行回收,然后用氮气置换后排空,取出多晶硅产品、移出废石墨电极、视情况进行炉内超纯水洗涤,因此停炉阶段将产生氮气、废石墨和清洗废水。
氮气是无害气体,因此正常情况下还原炉开、停车阶段无有害气体排放。
废石墨由原生产厂回收,清洗废水送项目含氯化物酸碱废水处理系统处理。
还原尾气干法分离工序从三氯氢硅氢还原工序来的还原尾气经此工序被分离成氯硅烷液体、氢气和氯化氢气体,分别循环回装置使用。
还原尾气干法分离的原理和流程及三氯氢硅合成气干法分离工序十分类似。
从变温变压吸附器出口得到的高纯度的氢气,流经氢气缓冲罐后,大部分返回三氯氢硅氢还原工序参及制取多晶硅的反应,多余的氢气送往四氯化硅氢化工序参及四氯化硅的氢化反应;吸附器再生废气送往废气处理工序进行处理;从氯化氢解析塔顶部得到提纯的氯化氢气体,送往放置于三氯氢硅合成工序的循环氯化氢缓冲罐;从氯化氢解析塔底部引出的多余的氯硅烷液体(即从三氯氢硅氢还原尾气中分离出的氯硅烷),送入氯硅烷贮存工序的还原氯硅烷贮槽。
四氯化硅氢化工序经氯硅烷分离提纯工序精制的四氯化硅,送入本工序的四氯化硅汽化器,被热水加热汽化。
从氢气制备及净化工序送来的氢气和从还原尾气干法分离工序来的多余氢气在氢气缓冲罐混合后,也通入汽化器内,及四氯化硅蒸汽形成一定比例的混合气体。
从四氯化硅汽化器来的四氯化硅及氢气的混合气体,送入氢化炉内。
在氢化炉内通电的炽热电极表面附近,发生四氯化硅的氢化反应,生成三氯氢硅,同时生成氯化氢。
出氢化炉的含有三氯氢硅、氯化氢和未反应的四氯化硅、氢气的混合气体,送往氢化气干法分离工序。
氢化炉的炉筒夹套通入热水,以移除炉内炽热电极向炉筒内壁辐射的热量,维持炉筒内壁的温度。
出炉筒夹套的高温热水送往热能回收工序,经废热锅炉生产水蒸汽而降温后,循环回本工序各氢化炉夹套使用。
氢化气干法分离工序从四氯化硅氢化工序来的氢化气经此工序被分离成氯硅烷液体、氢气和氯化氢气体,分别循环回装置使用。
氢化气干法分离的原理和流程及三氯氢硅合成气干法分离工序十分类似。
从变温变压吸附器出口得到的高纯度氢气,流经氢气缓冲罐后,返回四氯化硅氢化工序参及四氯化硅的氢化反应;吸附再生的废气送往废气处理工序进行处理;从氯化氢解析塔顶部得到提纯的氯化氢气体,送往放置于三氯氢硅合成工序的循环氯化氢缓冲罐;从氯化氢解析塔底部引出的多余的氯硅烷液体(即从氢化气中分离出的氯硅烷),送入氯硅烷贮存工序的氢化氯硅烷贮槽。
从合成气干法分离工序、还原尾气干法分离工序、氢化气干法分离工序分离得到的氯硅烷液体,分别送入原料、还原、氢化氯硅烷贮槽,然后氯硅烷液体分别作为原料送至氯硅烷分离提纯工序的不同精馏塔。
在氯硅烷分离提纯工序3级精馏塔顶部得到的三氯氢硅、二氯二氢硅的混合液体,在4、5级精馏塔底得到的三氯氢硅液体,及在6、8、10级精馏塔底得到的三氯氢硅液体,送至工业级三氯氢硅贮槽,液体在槽内混合后作为工业级三氯氢硅产品外售。
硅芯制备工序采用区熔炉拉制及切割并用的技术,加工制备还原炉初始生产时需安装于炉内的导电硅芯。
硅芯制备过程中,需要用氢氟酸和硝酸对硅芯进行腐蚀处理,再用超纯水洗净硅芯,然后对硅芯进行干燥。
酸腐蚀处理过程中会有氟化氢和氮氧化物气体逸出至空气中,故用风机通过罩于酸腐蚀处理槽上方的风罩抽吸含氟化氢和氮氧化物的空气,然后将该气体送往废气处理装置进行处理,达标排放。
产品整理工序在还原炉内制得的多晶硅棒被从炉内取下,切断、破碎成块状的多晶硅。
用氢氟酸和硝酸对块状多晶硅进行腐蚀处理,再用超纯水洗净多晶硅块,然后对多晶硅块进行干燥。
酸腐蚀处理过程中会有氟化氢和氮氧化物气体逸出至空气中,故用风机通过罩于酸腐蚀处理槽上方的风罩抽吸含氟化氢和氮氧化物的空气,然后将该气体送往废气处理装置进行处理,达标排放。
经检测达到规定的质量指标的块状多晶硅产品送去包装。