安徽省淮北市第一中学高中化学必修一:4.1 无机非金属材料--硅 碳和硅的性质 跟进作业案 第一课
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高中化学必修一非金属单质碳硅知识点总结
虽然考前刷历年真题很重要,但是在刷题之前一定要扎实基础。
高中化学知识点又繁多,所以一定要梳理清思路。
小编整理了高考考前复习,高中化学必修一非金属单质碳硅知识点如下。
1.碳、硅元素的原子结构与存在
2.碳、硅单质的性质
(1)碳、硅的物理性质和用途
(2)碳、硅的化学性质
①碳单质的化学性质——还原性
②硅的化学性质——还原性
3.硅的工业制法
(1)制取粗硅
工业上,用焦炭在电炉中还原二氧化硅得到含有少量杂质的粗硅。
注意:
A.用焦炭还原SiO2,产物是CO而不是CO2。
B.粗硅中含碳等杂质,与Cl2反应生成的SiCl4中也含CCl4等杂质,经过分馏提纯SiCl4后,再用H2还原,得到高纯度硅。
必修一-第四章-第一节-无机非金属材料的主角——硅【要点梳理】要点一、硅(Si)硅在地壳中的含量为26.3%,仅次于氧元素,主要以化合态存在(SiO2、硅酸盐),是矿物岩石的主要成分1.种类及结构单质硅分为晶体和无定形两种,晶体硅的结构与金刚石类似2.晶体硅的性质(1)物理性质:灰黑色具有金属光泽的固体,熔点高(1410℃)、硬度大、质地脆,可作半导体(2)化学性质:常温下化学性质稳定,可与氟气、氢氟酸和强碱反应,不与其他物质发生反应硅和氟气反应:Si + 2F2= SiF4硅和氢氟酸反应:Si + 4HF = SiF4↑+ 2H2↑硅和氢氧化钠溶液反应:Si + 2NaOH + H2O = Na2SiO3 + 2H2↑硅在氧气中加热:Si + O2 △SiO2规律总结:硅与烧碱溶液反应的实质是:Si+3H2O △H2SiO3+2H2↑; H2SiO3+2NaOH = Na2SiO3+2H2O从分步反应看,起氧化作用的只是H2O,而NaOH既不是氧化剂又不是还原剂,仅为反应物。
其电子转移情况为:3.硅的工业制法4.硅的用途:半导体材料,太阳能电池、计算机芯片和耐酸设备等要点二、二氧化硅(SiO2)1.存在:存在形态为结晶形(如石英)和无定形(如硅藻土),统称为硅石。
水晶、玛瑙、光导纤维的主要成分是SiO2,沙子中含有小粒的石英晶体2.结构:SiO2晶体是立体空间网状结构,每个Si原子结合4个O,每个O结合2个Si,N(Si):N(O)=1:2 3.物理性质:熔点高、硬度大、不溶于水的无色透明晶体或白色粉末。
4.化学性质:(1)稳定性:不与水、一般的酸反应,但能与HF反应(2)具有酸性氧化物的性质:与CaO反应:SiO2 + CaO 高温CaSiO3与NaOH反应:SiO2 + 2NaOH = Na2SiO3 + H2O5.用途:(1)建筑材料(2)制光导纤维(3)制石英坩埚6.二氧化碳与二氧化硅性质比较SiO2CO2类别酸性氧化物酸性氧化物主要存在环境岩石、石英、沙子和硅藻土空气结构化学式意义仅表示Si、O的原子个数比为1:2 CO2分子构成晶体中有无单个分子无有物理性质无色透明晶体或白色粉末无色无味气体,密度比空气大,能溶于水(常温下体积比为1:1)化学性质与碱性氧化物反应SiO2 + CaO高温CaSiO3CO2 + CaO = CaCO3与碱反应SiO2 + 2NaOH = Na2SiO3 + H2O CO2 + 2NaOH = Na2CO3 + H2O与盐反应SiO2 + Na2CO3高温Na2SiO3 + CO2↑Na2CO3 + CO2 + H2O = 2NaHCO3与水反应不反应CO2 + H2O = H2CO3与C反应SiO2 + 2C高温Si + 2CO↑ C + CO2高温2CO 与HF反应SiO2 + 4HF = SiF4↑+ 2H2O相互转化SiO2 + Na2CO3高温Na2SiO3 + CO2↑Na2SiO3 + CO2 + H2O = Na2CO3 + H2SiO3↓H2SiO3SiO2 + H2O要点诠释:(1)由于玻璃的成分中含有SiO2,故实验室盛放碱性溶液的试剂瓶用橡皮塞,不用玻璃塞(2)因为氢氟酸腐蚀玻璃,与玻璃中的SiO2反应,所以氢氟酸不能用玻璃瓶保存,应保存在塑料瓶或铅皿中要点三、硅酸(H2SiO3)1.硅酸的制备实验步骤:向Na2SiO3溶液中滴加酚酞试液,然后滴入稀盐酸实验现象:滴加酚酞后溶液呈红色,滴加稀盐酸后溶液变为无色,有白色胶状物质生成结论:Na2SiO3溶液呈碱性,生成难溶于水的H2SiO3。
碳和硅的性质 跟进作业第一课时 硅与二氧化硅1.能用带磨砂玻璃塞的试剂瓶盛放的物质是( )①石英砂 ②过氧化钠 ③烧碱 ④纯碱⑤Na 2SO 4溶液A .①和⑤B .②和③C .④和⑤D .③和④2.下列关于硅的说法不.正确的是( )A .硅是非金属元素,但它的单质是灰黑色有金属光泽的固体B .硅的导电性能介于金属和绝缘体之间,是良好的半导体材料C .硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质起反应D .当加热到一定温度时,硅能与氧气、氢气等非金属反应3.在一定条件下,下列物质与硅、二氧化硅均不反应的是( )A .氢氟酸B .浓硫酸C .烧碱D .氟气4.下列离子方程式书写不.正确的是( )A .向氢氧化钠溶液中通入过量二氧化碳: CO 2+OH -===HCO -3B .单质硅与氢氟酸反应:Si +4HF===2H 2↑+SiF 4↑C .石英砂与烧碱反应:SiO 2+2OH -===SiO 2-3+H 2OD .向Ba(NO 3)2溶液中通入二氧化碳:Ba 2++CO 2+H 2O===BaCO 3↓+2H +5.15 g SiO 2和足量的碳在高温下发生反应:SiO 2+2C=====高温Si +2CO↑。
下列叙述中正确的是() A .氧化剂和还原剂的质量之比为1∶2B .SiO 2是还原剂C .反应中有6 g 碳被氧化D .反应中生成了28 g CO6.下列物质中,导电性介于导体和绝缘体之间的是( )①晶体硅 ②金属铝 ③石墨 ④晶体锗 ⑤金刚石A .只有①B .只有⑤C .②和③D .①和④7.能说明SiO 2为酸性氧化物的事实为( )A .SiO 2与H 2SO 4、HNO 3不反应B .SiO 2+4HF===SiF 4↑+2H 2OC .SiO 2+2KOH===K 2SiO 3+H 2OD .SiO 2+2C 高温,Si +2CO↑8.在一定条件下,下列物质不能和SiO 2反应的是( )①焦炭 ②烧碱 ③氧气 ④氢氟酸 ⑤硝酸 ⑥氢氧化钾 ⑦氧化钙A .②⑥⑦B .⑤⑦C .①④⑤D .③⑤9.下列物质的变化,不能通过一步化学反应完成的是( )A .CO 2→H 2CO 3B .SiO 2→Na 2SiO 3C .SiO 2→H 2SiO 3D .Na 2O 2→Na 2CO 310.下表各组物质中,满足下图物质一步转化关系的选项是( ) 选项X Y Z ANa NaOH NaHCO 3 BCu CuSO 4 Cu(OH)2 CC CO CO 2 DSi SiO 2 H 2SiO 311.如何除去下列各粉末状混合物中的杂质(括号内为杂质)?请选用下列提供的试剂和操作,将标号填在表内。
试剂:A.盐酸 B .烧碱溶液 C .氧气 D .水 E .二氧化碳 F .不用其他试剂操作:①加热燃烧 ②加热熔融 ③充分加热 ④过滤 ⑤结晶物质试剂 操作 (1)Na 2CO 3(NaHCO 3)(2)SiO 2(CaO)(3)SiO 2(Si)(4)NaCl(SiO 2)12.从硅的氧化物可以制取硅单质,主要化学反应如下:粗硅的制取:SiO 2 + 2C =====△电炉 Si + 2CO↑石英砂 焦炭 粗硅由粗硅制纯硅(常用方法):Si(粗)+2Cl 2=====加热SiCl 4 SiCl 4+2H 2=====高温Si(纯)+4HCl根据以上反应,回答下列问题。
(1) 在制取粗硅的反应中,焦炭的作用是什么?(2) 在由粗硅制纯硅的反应中,氯气(Cl 2)与Si 的反应属于什么类型的反应?SiCl 4与H 2的反应属于什么类型的反应?H 2的作用是什么?(3)在半导体工业中有这样一句行话:“从沙滩到用户”,你是如何理解的?13.晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅。
②粗硅与干燥的HCl 气体反应制得SiHCl 3。
Si +3HCl =====300℃SiHCl 3+H 2③SiHCl 3与过量的H 2在1 000℃~1 100℃下反应制得纯硅,已知SiHCl 3能与H 2O 强烈反应,在空气中易自燃。
请回答下列问题:(1)第①步制备粗硅的化学方程式为: __________________________________________。
(2)粗硅与HCl 反应完全后,经冷凝得到的SiHCl 3(沸点33.0℃)中含有少量的SiCl 4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl 3采用的方法为________。
(3)用SiHCl 3与过量H 2反应制备纯硅的装置如图所示(热源及夹持装置略去)。
①装置B 中的试剂是________,装置C 中的烧瓶需要加热,其目的是________。
②反应一段时间后,装置D 中观察到的现象是____________________________________,装置D 不能采用普通玻璃管的原因是__________________________________________,装置D 中发生反应的化学方程式为: ___________________________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及________________________________________________________________________。
1.解析:选A 强碱或碱性物质不能用带磨砂玻璃塞的试剂瓶盛放。
2.解析:选C 硅既有非金属性,又有金属性,其单质具有金属光泽,具有导电性,是一种半导体材料。
常温下,硅可与氟气、氢氟酸、强碱溶液反应,加热和高温条件下,硅能与氧气、氢气起反应。
3.解析:选 B A 项,Si +4HF===SiF 4↑+2H 2↑,SiO 2+4HF===SiF 4↑+2H 2O ;C 项,Si +2NaOH +H 2O===Na 2SiO 3+2H 2↑,SiO 2+2NaOH===Na 2SiO 3+H 2O ;D 项,Si +2F 2===SiF 4。
4.解析:选D BaCO 3不能在酸性环境中存在,即CO 2与Ba(NO 3)2溶液不反应。
5.解析:选C 由化合价变化分析Si +4O 2+2C 0=====高温Si 0+2CO +2↑。
SiO 2是氧化剂,C 是还原剂,其物质的量之比为1∶2,A 、B 错误,15 g SiO 2为0.25 mol ,需消耗碳6 g ,生成CO 14 g 。
6.解析:选D 晶体硅、晶体锗均为半导体材料;铝、石墨均为导体;金刚石为绝缘体。
7.解析:选C 据酸性氧化物是指与碱反应生成盐和水的氧化物,可知C 项正确。
8.解析:选D SiO 2+2C 高温,Si +2CO↑,SiO 2+2NaOH===Na 2SiO 3+H 2O ,SiO 2+4HF===SiF 4↑+2H 2O ,SiO 2+2KOH===K 2SiO 3+H 2O ,SiO 2+CaO 高温,CaSiO 3。
9.解析:选C SiO 2不能与水直接反应生成H 2SiO 3。
10.解析:选C NaHCO 3不能一步到Na ,A 错误;Cu(OH)2不能一步到Cu ,B 错误;依2C +O 2不完全燃烧,2CO,2CO +O 2=====点燃2CO 2,2Mg +CO 2点燃,2MgO +C ,可知C 正确;SiO 2不能一步到H 2SiO 3,H 2SiO 3不能一步到Si ,D 错误。
11.解析:(1)除去Na 2CO 3中的NaHCO 3采用加热使NaHCO 3分解生成Na 2CO 3的方法;(2)除去SiO 2中的CaO ,加入盐酸使CaO 完全反应,过滤得SiO 2;(3)除去SiO 2中的Si ,可采用加热使Si 在空气中燃烧的方法;(4)除去NaCl 中的SiO 2,先加水使NaCl 溶解,过滤得NaCl 溶液,再从溶液中结晶即得NaCl 。
答案:(1)F ③ (2)A ④ (3)C ① (4)D ④⑤12.答案:(1)还原剂 (2)化合反应 置换反应 还原剂(3)利用沙滩中的SiO 2制成用户中需要的光导纤维(SiO 2),半导体材料(Si)。
13.解析:(1)根据题给信息,粗硅可以用碳还原二氧化硅的方法制得,故反应方程式为:SiO 2+2C=====高温Si +2CO↑。
(2)因HCl 易溶于水,而SiHCl 3与H 2O 强烈反应,故提纯SiHCl 3时只能在无水的条件下利用它们的沸点不同,采用分馏的方法进行。
(3)①因SiHCl 3与水强烈反应,故A 中产生的H 2必须干燥,故B 中的试剂为浓H 2SO 4,且C 中烧瓶需加热,其目的是使SiHCl 3汽化,加快与H 2的反应。
②根据题给信息可知,石英管中产生的物质应为硅,故D 中现象为有固体产生,由题给信息可知,制纯硅的反应条件为1 000℃~1 100℃,此温度下普通玻璃容易软化。
③因高温下H 2与O 2容易反应而爆炸,故还应排尽装置中的空气。
答案:(1)SiO 2+2C=====高温Si +2CO↑ (2)分馏(或蒸馏)(3)①浓硫酸 使滴入烧瓶中的SiHCl 3汽化②有固体物质生成 在反应的温度下,普通玻璃会软化SiHCl 3+H 2=============1 000℃~1 100℃Si +3HCl ③排尽装置中的空气。