多孔硅简介
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多孔有机硅材料
多孔有机硅材料是一种以有机硅材料为基础的多孔材料,其具有高比表面积、低密度、低介电常数等特点。
多孔有机硅材料可以通过控制合成条件和材料组分来调节孔隙结构和化学性质,从而实现对其性能的定制化。
多孔有机硅材料可用于吸附、催化、分离、传感等领域。
例如,在吸附方面,多孔有机硅材料具有很高的吸附容量和选择性,可以用于处理废水、气体或吸附有害物质。
在催化方面,由于其高比表面积和可调控的孔隙结构,多孔有机硅材料可以作为催化剂载体,提高催化反应的效率和选择性。
此外,多孔有机硅材料还可以用于分离和纯化领域。
由于其孔隙结构可以调控,可以选择性地分离不同大小或性质的分子,用于纯化药物、分离混合物等。
同时,多孔有机硅材料还可以用于传感器领域,利用其高比表面积和与分子之间的相互作用,实现对目标物质的检测和监测。
总的来说,多孔有机硅材料具有广泛的应用潜力,在环境治理、催化、分离、传感等领域都有重要的应用前景。
深度解析硅碳复合材料的包覆结构之多孔型碳质负极材料在充放电过程中体积变化较小,具有较好的循环稳定性能,而且碳质负极材料本身是离子与电子的混合导体;另外,硅与碳化学性质相近,二者能紧密结合,因此碳常用作与硅复合的首选基质。
在Si/C复合体系中,Si颗粒作为活性物质,提供储锂容量;C既能缓冲充放电过程中硅负极的体积变化,又能改善Si质材料的导电性,还能避免Si颗粒在充放电循环中发生团聚。
因此Si/C复合材料综合了二者的优点,表现出高比容量和较长循环寿命,有望代替石墨成为新一代锂离子电池负极材料。
从硅碳复合材料的结构出发,可将目前研究的硅碳复合材料分为包覆结构和嵌入结构。
其中,包覆结构是在活性物质硅表面包覆碳层,缓解硅的体积效应,增强其导电性。
根据包覆结构和硅颗粒形貌,包覆结构可分为核壳型、蛋黄-壳型以及多孔型。
多孔型多孔硅常用模板法来制备,硅内部空隙可以为锂硅合金化过程中的体积膨胀预留缓冲空间,缓解材料内部机械应力。
由多孔硅形成的硅碳复合材料,在循环过程中具有更加稳定的结构。
研究表明,在多孔型硅/碳复合材料中,均匀分布在硅颗粒周围的孔道结构能够提供快速的离子传输通道,且较大的比表面积增加了材料反应活性,从而展现出优良的倍率性能,在电池快充性能方面具有显著优势。
Li等通过可控还原二氧化硅气凝胶的方法,合成出3D连通的多孔硅碳复合材料,该材料在200mA/g电流密度下循环200次时容量保持在1552mA·h/g,且在2000mA/g大电流充放电下循环50次后仍保持1057mA·h/g的比容量。
Bang等通过电偶置换反应,将Ag颗粒沉积于硅粉(粒径10μm)表面,经刻蚀除去Ag后得到具有3D孔结构的块状硅,再通过乙炔热解进行碳包覆,制备出多孔型硅碳复合材料,在0.1C倍率下具有2390mA·h/g的初始容量以及94.4%的首次Coulomb效率。
在5C倍率时的容量仍可达到0.1C倍率时容量的92%,展现出优异的倍率性能。
多孔真空硅隔热材料
多孔真空硅隔热材料是一种具有优异隔热性能的纳米材料。
它的细孔径在10~40 nm之间,孔隙率高达97%以上,使得细孔内部分子间不会发生碰撞,从而实现超高的隔热性能。
这种材料具有低导热系数,可低至0.014 W/m·K,同时具有疏水、阻燃、绝缘、环保等优异性能。
多孔真空硅隔热材料适用于电子产品、航天航空、智能手持终端、智能穿戴、电子烟、无线充电器、电源、小家电及大型设备的隔热和保温等场景。
与传统隔热保温材料相比,多孔真空硅隔热材料具有更低的导热系数,能更好地解决电子产品在狭小空间的隔热保温问题,提升人体感受的舒适度。
然而,多孔真空硅隔热材料的制备过程较为繁琐,价格较高,这在一定程度上限制了其广泛应用。
不过,随着科技的发展和制备工艺的改进,多孔真空硅隔热材料在隔热领域的应用前景非常广阔。
纳米多孔硅粉的制备及其在含能材料中的应用纳米多孔硅(nano porous silicon, nPS)是一种在硅表面形成微纳米多孔结构的硅基底材料,被广泛应用于电子元件、发光元件、生物传感器以及MEMS含能器件中。
自20世纪50年代发明以来,受到了广泛的关注。
1992年Bard教授首先发现了nPS的低温爆炸性能,自此nPS被逐步应用于进纳米含能材料。
以多晶硅粉为原料,HF、HNO3、NaNO2混合液为腐蚀体系,利用化学腐蚀法制备了nPS粉。
应用氮吸附技术、SEM、DSC-TG以及FTIR技术分别对nPS粉的比表面积、平均孔径、表面形貌、热性能及官能团进行了表征及分析,研究了HN03浓度、腐蚀时间以及原料Si粉粒径对nPS粉理化性质的影响,优化了化学腐蚀条件,得出nPS粉最佳制备方案。
以NaC104为氧化剂,制备了nPS/NaClO4复合含能材料,红外热成像仪对复合含能材料的燃烧温度进行测试,利用DSC-TG以及XRD衍射测试对复合含能材料的燃烧机理进行分析。
利用化学沉淀法制备了nPS/BaCrO4延期药,进行了燃速测试并计算了其延期精度,具体研究内容与结果如下:(1)利用化学腐蚀法制备了nPS粉体,SEM测试结果显示,nPS粉体颗粒表面产生了大量的纳米孔洞,氮吸附实验结果表明比表面积得到大幅度提升,FTIR谱图显示nPS表面产生了较高密度的Si-Hx键。
腐蚀液体系中HN03浓度是影响孔径大小及分布的主要原因;在相同的腐蚀液浓度下,延长腐蚀时间、减小原料Si粉粒径可以有效的增大nPS粉的比表面积。
确定了nPS粉的最优腐蚀条件,所制备的nPS粉比表面积最大可达到72.4m2/g。
热分析结果显示,当环境中氧气含量充足时,nPS粉氧化反应提前至400℃;(2)按照1:1的质量配比,利用超声波填充技术,制备了nPS/NaClO4复合含能材料。
该复合含能材料在燃烧过程中会发生多次燃烧现象,最高火焰温度达到2444℃。
多孔二氧化硅和致密二氧化硅
多孔二氧化硅是一种具有高度孔隙结构的材料,其具有大量微
孔和介孔,这使得它具有较大的比表面积。
这种结构使得多孔二氧
化硅在吸附、催化和分离等领域具有广泛的应用。
由于其大量的微
孔和介孔,多孔二氧化硅通常具有较大的孔隙体积和较高的比表面积,这使得它在吸附气体、液体和催化剂载体方面具有优异的性能。
而致密二氧化硅则是指密度较大、结构较为紧密的二氧化硅材料。
它通常具有较小的孔隙结构和较低的比表面积。
致密二氧化硅
在光学、电子器件、半导体等领域有着重要的应用,因为它具有良
好的光学性能、电学性能和化学稳定性。
此外,致密二氧化硅还常
用于制备玻璃、陶瓷和涂料等材料。
从应用角度来看,多孔二氧化硅主要用于吸附材料、分离膜、
催化剂载体、生物医药等领域,而致密二氧化硅则主要用于光学器件、电子器件、材料增强等领域。
总的来说,多孔二氧化硅和致密二氧化硅在结构和性质上有明
显的区别,它们分别在各自的领域具有重要的应用和意义。
希望以
上回答能够满足你的需求,如果还有其他问题,欢迎继续提问。
多孔真空硅绝热多孔真空硅绝热是一种新型的绝热材料,具有多孔结构和低热传导性能,被广泛应用于航空航天领域。
多孔真空硅绝热的研究不仅可以推动新材料的开发和应用,还可以为热工学领域提供新的思路和方法。
本文将对多孔真空硅绝热的特性、制备方法和应用进行深入的研究和分析。
多孔真空硅绝热具有极低的热传导性能,可以有效地减少热能的损失。
其多孔结构可以有效地减小热传导路径,从而提高材料的绝热性能。
同时,多孔真空硅绝热还具有良好的稳定性和耐高温性能,可以在极端环境下长时间稳定地工作。
这些特性使得多孔真空硅绝热在航空航天领域得到广泛应用,例如在宇航器热保护系统中起到重要作用。
多孔真空硅绝热的制备方法主要包括压实法、化学气相沉积法和溶胶凝胶法等。
不同的制备方法可以得到不同孔结构和性能的多孔真空硅绝热材料。
其中,压实法是一种简单、易操作的方法,可以得到具有均匀孔结构的多孔真空硅绝热。
化学气相沉积法可以在常温下实现多孔真空硅绝热的快速制备,但需要较高的设备成本。
溶胶凝胶法则可以得到具有高度孔隙度和可调控孔径的多孔真空硅绝热。
通过不同制备方法的选择和组合,可以实现多孔真空硅绝热材料性能的优化和提升。
多孔真空硅绝热在航空航天领域的应用十分广泛,例如在宇航器热保护系统中的应用。
在宇航器进入大气层再入期间,它将经历极高的温度和气动热载荷,需要有良好的热保护材料来确保其安全返回。
多孔真空硅绝热具有极低的热导率和良好的热稳定性,可以有效地减少进入大气层再入期间的热量传递,保护宇航器内部的舱体和设备不受过热损坏。
同时,多孔真空硅绝热还可以有效地减轻宇航器的重量,提高其再入性能和飞行稳定性。
除了在宇航器热保护系统中的应用,多孔真空硅绝热还可以在其他领域发挥重要作用。
例如在太阳能热发电系统中的应用。
太阳能热发电系统需要高效的热绝缘材料来减少能量损失,而多孔真空硅绝热正是满足这一需求的理想选择。
其低热传导性能可以有效地减少系统的能量损失,提高太阳能的利用效率。