任务二晶硅电池产业链工艺流程PPT课件

晶体硅太阳能电池生产工艺流程图电池片工艺流程说明：(1)清洗、制绒：首先用化学碱（或酸）腐蚀硅片，以去除硅片表面机械损伤层，并进行硅片表面织构化，形成金字塔结构的绒面从而减少光反射。

现在常用的硅片的厚度在 180 μm 左右。

去除硅片表面损伤层是太阳能电池制造的第一道常规工序。

(2)甩干：清洗后的硅片使用离心甩干机进行甩干。

(3)扩散、刻蚀：多数厂家都选用 P型硅片来制作太阳能电池，一般用 POCl3液态源作为扩散源。

扩散设备可用横向石英管或链式扩散炉,进行磷扩散形成 P-N结。

扩散的最高温度可达到 850- 900℃。

这种方法制出的 PN结均匀性好，方块电阻的不均匀性小于 10％，少子寿命大于 10 微秒。

扩散过程遵从如下反应式：4POCl3＋3O2（过量）→ 2P2O5＋2Cl 2（气） 2P2O5＋5Si → 5SiO2 + 4P 腐蚀磷硅玻璃和等离子刻蚀边缘电流通路，用化学方法除去扩散生成的副产物。

SiO2与HF生成可溶于水的 SiF 62-，从而使硅表面的磷硅玻璃（掺 P2O5的SiO2）溶解，化学反应为：SiO2＋6HF → H2（SiF 6）＋ 2HO(4) 减反射膜沉积：采用等离子体增强型化学气相沉积(PECVD: Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)技术在电池表面沉积一层氮化硅减反射膜，不仅可以减少光的反射，而且由于在制备SiNx 减反射膜过程中有大量的氢原子进入，因此也起到了很好的表面钝化和体钝化的效果。

这是因为对于具有大量晶界的多晶硅材料而言，晶界的悬挂键被饱和，降低了复合中心的原因。

由于表面钝化和体钝化作用明显，就可以降低对制作太阳能电池材料的要求。

由于增强了对光的吸收，氢原子对太阳能电池起到很好的表面和体内钝化作用，从而提高了电池的短路电流和开路电压。

(5)印刷、烧结：为了从电池上获取电流，一般在电池的正、背两面制作电极。

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晶硅太阳能电池组件生产的基本工艺流程1.晶硅太阳能电池组件生产的第一步是选用优质的硅材料。

The first step in the production of crystalline silicon solar cell modules is to select high-quality silicon materials.2.硅材料经过精炼和加工后，制成硅片。

The silicon material is refined and processed to produce silicon wafers.3.硅片经过切割和抛光，形成标准尺寸的太阳能电池片。

The silicon wafers are cut and polished to form solar cell chips of standard size.4.太阳能电池片经过清洗和检验，确保质量达标。

The solar cell chips are cleaned and inspected to ensure quality standards are met.5.经过清洗和检验的电池片被涂覆上导电层和抗反射层。

The cleaned and inspected solar cell chips are coated with conductive and anti-reflective layers.6.经过光刻和腐蚀工艺，形成正负极电极。

Through photolithography and etching processes, positive and negative electrodes are formed.7.电池片经过扩散工艺，形成PN结。

The cell chips are diffused to form PN junctions.8.经过清洗和检验后，电池片被组装成电池组件。

After cleaning and inspection, the cell chips are assembled into solar modules.9.电池组件经过外观检查和性能测试，确保无缺陷。

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