超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件

碳中和联合研究院扫描电镜和透射电镜采购项目质量技术参数要求泄露保护、辐射保护功能；（5）样品低损伤观察:低剂量电子束观察，软件界面上电子束剂量实时显示，具有预辐照功能；（6）需可适应在独立地线不小于40。

环境下正常工作。

10.能谱仪系统（I）硅漂移SDD电子制冷探测器，有效面积N80mπΛ晶体位置优化设计，大大提高能谱仪计数率；（2）元素分析范围：从Be4-Cf98;★（3）具有能谱面扫描功能；（4）能谱应用软件可以实现多线程设计，导航器界面，支持用户自定义模式及账户管理，支持分屏显示及远程控制，支持中、英文等多种操作界面；（5）定性分析：可自动标识谱峰，除惰性气体元素外，无禁止自动标定的元素；可进行谱重构，对重叠峰进行手动峰剥离；（6）其它功能：可将电镜图象传输到能谱仪的显示器上,并以该图为中心做微区分析，可显示电子作用区大小，可对点，矩形，任意不规则区域等进行分析；（7）具备全谱面分布/线扫描分析功能，一次采集，能存储每一扫描位置（x,y）的所有元素的信息，用户随后可以在离线状态下从图像上的任何位置重建谱图和面分布图。

11.包括但不限于以下（得满足主机连接需求）：（1）透射电镜主机（包含高反差和高分辨模式，可实现一键切换）；（2）电镜控制与显示系统一套；（3）一体化、高灵敏像素CMoS主相机；（4）一体化超高速CMOS荧光屏相机；（5）真空系统等其它相应配套附件；（6）能谱仪（含有能谱面扫描功能及相关套件）；（7）标准单倾样品杆；（8）冷却水系统；（9）空气压缩机；（10）UPS电源等。

注：本项目评分标准中将根据标注“★”符号的技术标准与参数配置、技术指标的偏离情况进行评审打分。

电子显微神兵利器：各种型号的透射电子显微镜透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy,TEM）是通过穿透样品的电子束进行成像的放大设备。

电子束穿过样品以后，带有样品之中关于微结构及组成等方面的信息，将这些信息进行方法和处理，便可得到所需要的显微照片及多种图谱。

现在商业透射电镜最高的分辨率已经达到了0.8 Å，透射电镜作为一种极为重要的电子显微设备，在包括材料、生物、化学、物理等诸多领域发挥着不可替代的重要作用。

下面简单介绍一些不同品牌和型号的透射电镜。

世界上能生产透射电镜的厂家不多，主要是欧美日的大型电子公司，德国的蔡司（Zeiss），美国的FEI（电镜部门的前身是飞利浦的电子光学公司），日本的日本电子（JEOL）、日立（Hitachi）。

蔡司公司是德国老牌光学仪器公司，光学仪器，如光学显微镜、照相机、以及军事用途的光学瞄准器都是世界一流水平，二战时德国强大的坦克部队都是用的蔡司的瞄准系统，精确度相当的高！虽然蔡司涉足电子光学领域要晚于西门子和飞利浦（西门子和飞利浦分别于1939和1949年造出自己的第一台商业化透射电镜），但其强大的研发和生产能力使其很快在电子光学仪器领域占得了一席之地，下面介绍几款蔡司的产品。

Libra 120 (Libra是“天秤座”，蔡司的电镜型号无论透射扫描都是以星座的名字命名的)技术参数：LIBRA 120点分辨率：0.34nm能量分辨率：＜1.5eV加速电压：（20）40-120kv放大倍率：8-630，000x电子枪：LaB6或W照明系统：Koehler（库勒）（平行束照明系统）真空系统：完全无油系统操作界面：基于Windows XP WinTEM此款电镜分辨率较低，加速电压最高仅120KV，比主流的200KV低了不少，看似性能一般。

Libra200技术参数：LIBRA 200 FE点分辨率：0.24nm能量分辨率：＜0.7eV加速电压：200kv放大倍率：8-1，000，000x电子枪：热场发射电子枪照明系统：Koehler（库勒）（平行束照明系统）真空系统：完全无油系统操作界面：基于Windows XP WinTEM此款电镜带能量过滤器，可以使用能量损失谱对样品的微区进行元素分析。

《显微镜与望远镜》专业班级姓名学号日期显微镜显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，是人类进入原子时代的标志。

主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器。

显微镜分光学显微镜和电子显微镜：光学显微镜是在1590年由荷兰的杨森父子所首创。

现在的光学显微镜可把物体放大1600倍，分辨的最小极限达0.1微米，国内显微镜机械筒长度一般是160mm。

电子显微镜是在1926年，被汉斯·布什发明出来的。

显微镜的分类：一、光学显微镜：是在1590年由荷兰的詹森父子所首创。

现在的光学显微镜可把物体放大1500倍，分辨的最小极限达0.2微米。

光学显微镜的种类很多，除一般的外，主要有暗视野显微镜一种具有暗视野聚光镜，从而使照明的光束不从中央部分射入，而从四周射向标本的显微镜.荧光显微镜以紫外线为光源，使被照射的物体发出荧光的显微镜。

结构为：目镜，镜筒，转换器，物镜，载物台，通光孔，遮光器，压片夹，反光镜，镜座，粗准焦螺旋，细准焦螺旋，镜臂，镜柱。

1、暗视野显微镜暗视野显微镜由于不将透明光射入直接观察系统，无物体时，视野暗黑，不可能观察到任何物体，当有物体时，以物体衍射回的光与散射光等在暗的背景中明亮可见。

在暗视野观察物体，照明光大部分被折回，由于物体(标本)所在的位置结构，厚度不同，光的散射性，折光等都有很大的变化。

2、相位差显微镜相位差显微镜的结构：相位差显微镜，是应用相位差法的显微镜。

因此，比通常的显微镜要增加下列附件：(1) 装有相位板(相位环形板)的物镜，相位差物镜。

(2) 附有相位环(环形缝板)的聚光镜，相位差聚光镜。

(3) 单色滤光镜-(绿)。

各种元件的性能说明(1) 相位板使直接光的相位移动90°，并且吸收减弱光的强度，在物镜后焦平面的适当位置装置相位板，相位板必须确保亮度，为使衍射光的影响少一些，相位板做成环形状。

(2) 相位环(环状光圈)是根据每种物镜的倍率，而有大小不同，可用转盘器更换。

双球差校正分析型场发射透射电镜技术参数1.设备名称：双球差校正分析型场发射透射电子显微镜2.数量：1套3.设备用途说明：用于材料科学进行快速、精确的形貌观察和微区的晶体结构和定量表征，选择特定设计的样品台进行原位动态实验。

用于金属、半导体、电介质、多层膜结构、稀土材料等材料的形貌、晶格、缺陷或界面原子结构的表征；提供材料的化学成分信息、轻重原子分布、电子结构、缺陷及成键信息、静电和磁场信息等；可以对材料进行原位分析、三维重构分析等。

本系统主要有电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成。

4.主要工作环境4.1电源电压：220V（±5%）50HZ，单相或380V（±10%）4.1.1电源及频率稳定性：≤±5%4.1.2地线：≤5欧姆以下独立地线4.2工作环境温度：10︒C-25︒C4.3环境相对湿度：≤80％（@20℃）4.4压力变化：≤1Pa4.4空气流动：≤100mm/秒4.5噪音：≤50-60dB4.6振动：≤0.2-0.4um4.7磁场：直流电流磁场波动：小于0.05T；交流电流磁场波动：小于0.05T4.8仪器运行的持久性：仪器可连续使用4.9仪器的工作状态：较强的防震抗磁能力，工作稳定4.10仪器设备的安全性：符合放射线防护安全标准和电器安全标准5．技术要求及参数5.1电子枪和加速电压*5.1.1电子枪：冷场发射电子枪或者带单色器的X-FEG电子枪，电子枪质保8年，如果单支电子枪质保寿命不足，应额外提供满足8年使用的电子枪。

5.1.2加速电压：30或40--300kV，双球差校正器和整个电镜主机系统均在30或40KV、60或80kV、120KV、200kV、300kV加速电压下完成合轴；加速电压在全程范围内可自由切换，一键完成，无需重新合轴。

*5.1.3高压稳定性：≤0.8⨯10-6/min（峰峰值）*5.1.4物镜电流稳定度：≤0.5⨯10-6/min(峰峰值)5.1.5束流：≥2.0nA@0.136nm，束流稳定性：≤2%@10小时*5.1.6能量发散度：≤0.30eV@300KV，且亮度≥1.0*109A/cm2/Sr@300KV5.2分辨率5.2.1TEM点分辨率(杨氏条纹)：≤0.07nm（300kV）；≤0.09nm（200kV）；≤0.13nm（80kV）；5.2.2TEM晶格或信息分辨率：≤0.060nm5.2.3STEM分辨率(FFT spot)：≤0.065nm(300KV)；≤0.095nm（200kV）；≤0.12nm(80KV)；5.3全自动光阑系统，须马达驱动，包括自动化一级、二级聚光镜光阑，物镜光阑，选区光阑*5.4双球差校正器：标准配置（球差校正器为核心设备，如只提供单球差或者无球差，将直接导致废标）5.4.1球差系数调节范围：-0.1到1.2mm*5.4.2每个矫正透镜（物镜和聚光镜）均采用≥6极子设计，最低优化校正到≥4阶像差系数以上；5.4.3球差矫正器矫正透镜采用长、短焦距或者等焦距设计，光路采用轨道扩张型设计，能最大程度的抑制色差的增加。

场发射扫描电子显微镜参数：1．工作条件:1.1电源: 230V (-6%/+10%) / 50Hz (±1%)1.2 主机功耗：< 3.0 kV A1.3运行环境温度: 17-23 C1.4运行环境：相对湿度< 80% (无冷凝)1.5残余交流磁场<100nT (非同步频率)；<300nT (同步频率)1.6噪音：< 60 dBC1.7干燥无油压缩空气4-6 bar1.8仪器运行的持久性：可连续运行2．设备用途：2.1高分辨扫描电子显微分析系统主要用于纳米材料的超高分辨微观形貌观察和微区分析。

独特的双物镜设计以及低电压成像技术，对导电性不好的样品等适用性更强。

具有低真空功能，对不导电样品进行更全面的分析。

3．技术规格3.1 电子光学系统3.1.1 分辨率：二次电子（SE）像*3.1.1.1高真空模式：15 kV时优于1.0 nm；1 kV时优于1.4 nm（非减速模式）*3.1.1.2 低真空模式：30kV时优于1.5nm*3.1.2背散射（BSE）像：100V时优于3.5 nm3.1.3 放大倍率范围：1 ～1,000,000倍(根据加速电压和工作距离的改变，放大倍数自动校准)3.1.4 着陆电压：50V 至30 kV3.1.5 电子枪：高稳定度Schottky肖特基场发射电子枪*3.1.6电子束流：0.6pA ～200 nA，连续可调，既保证对高分子纳米材料高分辨成像所需的低速流，也要保证EDS和EBSD分析所需的高束流高效率。

3.1.7 束流稳定性：每10小时< 0.4%*3.1.8 具有双物镜系统（电磁透镜和静电透镜），保证对纳米材料、不导电有机无机材料、合金、磁性材料的全方位分析*3.1.9 物镜光阑：物镜光栏应能自加热自清洁；无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑。

至少6孔光阑设计3.1.10 电子束位移范围：不小于±110um3.2 样品室和样品台3.2.1 样品室尺寸：不小于360mm×360mm*3.2.2 抽屉式大开门结构，样品台安装在仓门上，全方位观察，方便取放样品，防止碰撞3.2.3样品台：五轴运动全对中样品台，有效移动范围：X /Y ≧110mm，Z ≧25mm，T = -10°to +70°，R= 360°连续旋转3.2.4样品台最大承重量不小于2.0 kg3.2.5最大样品高度不小于65mm，分析工作距离不小于5mm3.2.6重复精度：2um (X/Y 方向)，步进进度优于100nm3.2.7至少15个探测器/附件接口（所有端口程序均免费开放，可安装能谱、波谱、EBSD、CL、STEM探头、红外探头、拉曼等），方便后期升级*3.3 探测器：3.3.1 电子探头：样品室二次电子检测器极靴内二次电子探测器极靴内背散射电子探测器低真空二次电子探测器3.3.2 样品室镜头安装背散射电子探测器3.3.3 样品室IR-CCD相机3.3.4样品室光学显微镜导航相机探头3.4 真空系统*3.4.1完全无油真空系统（标配高真空模式和低真空模式，要求有验收指标）3.4.2 一个220L/S的涡旋干泵和一个分子泵3.4.3 两个离子泵*3.4.4 穿过透镜的压差真空系统（列出原理），保证真空条件下避免对系统的污染。

透射电子显微镜部分结构及功能在光学显微镜下无法看清小于0.2&micro;m的细微结构，这些结构称为亚显微结构（s ubmicroscopic structures）或超微结构（ultramicroscopic structures；ultrastructu res）。

要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。

1 932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜（transmission electron mi croscope，TEM），电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。

目前TEM的分辨力可达0.2nm。

电子显微镜与光学显微镜的成像原理基本一样，所不同的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。

另外，由于电子束的穿透力很弱，因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。

这种切片需要用超薄切片机（ultramicrotome）制作。

电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成，如果细分的话：主体部分是电子透镜和显像记录系统，由置于真空中的电子枪、聚光镜、物样室、物镜、衍射镜、中间镜、投影镜、荧光屏和照相机。

电子显微镜是使用电子来展示物件的内部或表面的显微镜。

高速的电子的波长比可见光的波长短（波粒二象性），而显微镜的分辨率受其使用的波长的限制，因此电子显微镜的分辨率（约0.1纳米）远高于光学显微镜的分辨率（约200纳米）。

透射式显微镜的结构与原理透射式电子显微镜(TEM)与投射式光学显微镜的原理很相近，它们的光源、透镜虽不相同，但照放大和成像的方式却完全一致。

在实际情况下无论是光镜还是电镜，其内部结构都要比图示复杂得多，图中的聚光镜（condonser lens）、物镜（object lens）和投影镜（projection lens）为光路中的主要透镜，实际制作中它们往往各是一组（多块透镜构成），在设计电镜时为达到所需的放大率、减少畸变和降低像差，又常在投影镜之上增加一至两级中间镜（i ntemediate lens）。

场发射扫描电镜技术标书附件：场发射扫描电镜技术标书一、设备用途扫描电镜是一种多功能的仪器，广泛地用于材料的微观组织观察、微区成分分析、材料的断口分析、材料的晶粒度分析、夹杂物分析及织构表征等，可对导电及不导电的固体材料进行表面形貌的观察及成分分析。

场发射电镜能够实现更高分辨率的形貌观察，可实现对超细晶材料尤其是纳米材料的表征。

基于相关附件，也可以对材料在温度及应力作用下的动态变化进行原位观察。

仪器包括电子光学系统、真空系统、样品室和样品台、探测器及成像系统、图像处理系统、应用软件及数据处理软件、X射线能谱分析仪（EDS）、背散射电子衍射分析仪（EBSD）、原位加热台。

二、技术参数1．运行环境1.1工作温度：可以在15~25环境温度工作1.2 相对湿度：湿度小于60%RH时正常工作1.3工作电压：在220V(±10%)、50Hz电压下，仪器可连续使用次电子探测器1个，高灵敏度低电压固体背散射探测器1个4.3相机：样品室红外高清CCD相机4.4检测器分辨率*4.4.1二次电子分辨率：30kV时小于1.0nm或20kV时小于1.3nm，1kV时优于3.0 nm*4.4.2背散射电子分辨率：30kV时小于2.5nm，1kV时优于3.0nm5．样品室和样品台5.1样品台：自动马达驱动5轴以上(X、Y、Z 、T 、R)*5.2移动范围：X≥100mm、Y≥ 100mm、Z≥50mm、T=-5~70°、R=360°连续旋转5.3移动精度：优于2μm5.4样品室尺寸：内径不小于300mm，高度不小于200mm，可容纳样品直径不小于200mm5.5样品室有EDS、EBSD接口*5.6可加配加热台和原位拉伸台，加热台运行时应保证成像系统和EBSD能够同步运行6．图像处理系统6.1存储分辨率：不低于30002000像素6.2活动窗口：多个活动窗口，可同时显示背散射及二次电子图像6.3图像格式：TIFF、BMP、JPEG等多种图像格式6.4图像帧数：不小于256帧，可降噪处理6.5能够进行数字动画记录6.6具有图像注释、测量等图像处理功能7．控制和数据处理系统7.1基于以太网架构的数据传输系统7.2软件平台适用于windows操作系统7.3显示器：24”LED显示器8．X射线能谱分析仪（EDS）8.1能量探测器：电制冷硅漂移探测器（SDD）*8.2有效采集面积：SDD晶体有效活区面积不小于30mm2，窗口有效面积不小于20mm2，可实现低电压或者小束流条件下的高质量、高效率分析*8.3探测器定位：探测器由马达控制精确定位，软件可控，能够实时监测和控制采集计数率，保证不同样品的数据重复性和测试条件重复性的目的*8.4能量分辨率：Mn Kα优于127eV，C Ka优于50eV，F Ka优于60eV8.5元素分析范围：至少为Be4~U92*8.6峰背比：优于20000:18.7谱峰稳定性：分辨率变化在1eV以内，48小时内峰位漂移小于1.5eV8.8计数率：输出最大计数率大于800,000CPS，可处理最大计数率大于1,500,000CPS8.9具有轻元素定量分析和修正功能，可对Be、B、C、N等进行浓度定量检测以及修正8.10采集界面：采用32位和64位双系统，采集界面方便简单，智能化设定参数，兼容原有EBSD数据，能实现能谱的采集与定量分析、线扫描及全息面扫描，包含常规面分布、定量面分布和快速面分布、快速智能面分布等*8.11定性分析：具备点、线、面扫描分析功能，可自动和手动进行全谱元素谱峰识别，并具有检验重叠峰剥离准确性以及合峰效应的有效方法，能够分析夹杂和偏析等微量元素和微量相8.12定量分析：采用最先进的修正技术和虚拟标样数据库，系统能够自动有效修正元素之间的相互吸收，可对抛光表面或粗糙表面进行点、线和面的分析，谱峰稳定，数据重现性好，不需要多元素校准峰位。

S 4800场发射扫描电子显微镜测聚合物s-4800场发射扫描电子显微镜测聚合物用s-4800场发射扫描电子显微镜观察聚合物一、实验目的1.了解扫描电子显微镜的工作原理和仪器结构。

2.掌握仪器的操作方法及聚合物样品的制备和处理方法。

3.观察聚合物样品的表面形态、结构和聚集状态。

二、实验原理1.电子显微镜成像原理电子枪（场发射枪）发射一束电子，这就是电子源，其最少截面的直径对场发射枪而言大约为10～20nm，这个小束斑经3和5两级聚光镜进一步缩小几百倍，最后再经物镜缩小并聚焦在样品面上，这时束斑直径最小可到3～6nm（约小于扫描电镜的分辨本领），电子束打在样品上，就产生各种信号。

二次电子和背散射电子信号是最常用的两种信号，尤其是二次电子。

信号由接收器取出，经光电倍增器和电子放大器放大后，作为视频信号去调制高分辨显示器的亮度，因此显示器上这一点的亮度与电子束打在样品上那一点的二次电子发射强度相对应。

由于样品上各点形貌等各异，其二次电子发射强度不同，因此显示器屏上对应的点的亮度也不同。

用同一个扫描发生器产生帧扫和行扫信号，同时去控制显示的偏转器和镜筒中的电子束扫描偏转器，使电子束在样品表面上与显示器中电子束在荧光屏上同步进行帧扫和行扫，产生相似于电视机上的扫描光栅。

这两个光栅的尺寸比就是扫描电镜的放倍数。

在显示器屏幕光栅上的图像就是电子束在样品上所扫描区域的放大形貌像。

图像中亮点对应于样品表面上突起部分，暗点表示凹的部分或背向接收器的阴影部分。

由于显示器屏幕上扫描尺寸是固定的，如14in(1in=25.4mm）显示器的扫描面积是267×200mm2，在放大倍数为十万倍时样品面上的扫描面积为2.67×2μm2如放大倍数为20倍时，则为13.35×10mm2。

因此改变电子束扫描偏转器的电流大小，就可改变电子束在样品上的扫描尺寸，从而改变扫描电镜的放大倍数。

2.电子显微镜的分辨率特性扫描电镜的分辨本领一般指的是二次电子像的空间分辨本领，它是在高放大在多重模式下，人们可以从照片中分辨出两个相邻物体之间的最小距离。

双球差校正分析型场发射透射电镜技术参数1.设备名称：双球差校正分析型场发射透射电子显微镜2.数量：1套3.设备用途说明：用于材料科学进行快速、精确的形貌观察和微区的晶体结构和定量表征，选择特定设计的样品台进行原位动态实验。

用于金属、半导体、电介质、多层膜结构、稀土材料等材料的形貌、晶格、缺陷或界面原子结构的表征；提供材料的化学成分信息、轻重原子分布、电子结构、缺陷及成键信息、静电和磁场信息等；可以对材料进行原位分析、三维重构分析等。

本系统主要有电子光学系统、高压系统、真空系统等部分组成。

4.主要工作环境4.1电源电压：220V（±5%）50HZ，单相或380V（±10%）4.1.1电源及频率稳定性：≤±5%4.1.2地线：≤5欧姆以下独立地线4.2工作环境温度：10︒C-25︒C4.3环境相对湿度：≤80％（@20℃）4.4压力变化：≤1Pa4.4空气流动：≤100mm/秒4.5噪音：≤50-60dB4.6振动：≤0.2-0.4um4.7磁场：直流电流磁场波动：小于0.05T；交流电流磁场波动：小于0.05T4.8仪器运行的持久性：仪器可连续使用4.9仪器的工作状态：较强的防震抗磁能力，工作稳定4.10仪器设备的安全性：符合放射线防护安全标准和电器安全标准5．技术要求及参数5.1电子枪和加速电压*5.1.1电子枪：冷场发射电子枪或者带单色器的X-FEG电子枪，电子枪质保8年，如果单支电子枪质保寿命不足，应额外提供满足8年使用的电子枪。

5.1.2加速电压：30或40--300kV，双球差校正器和整个电镜主机系统均在30或40KV、60或80kV、120KV、200kV、300kV加速电压下完成合轴；加速电压在全程范围内可自由切换，一键完成，无需重新合轴。

*5.1.3高压稳定性：≤0.8⨯10-6/min（峰峰值）*5.1.4物镜电流稳定度：≤0.5⨯10-6/min(峰峰值)5.1.5束流：≥2.0nA@0.136nm，束流稳定性：≤2%@10小时*5.1.6在不使用单色器条件下能量发散度：≤0.30eV@300KV，且亮度≥1.0*109A/cm2/Sr@300KV(300pA束流条件下)5.2分辨率5.2.1TEM点分辨率(杨氏条纹)：≤0.07nm（300kV）；≤0.09nm（200kV）；≤0.13nm（80kV）；5.2.2TEM晶格分辨率：≤0.060nm5.2.3STEM分辨率(FFT spot)：≤0.065nm(300KV)；≤0.095nm（200kV）；≤0.12nm(80KV)；5.3全自动光阑系统，须马达驱动，包括自动化一级、二级聚光镜光阑，物镜光阑，选区光阑*5.4双球差校正器：标准配置（球差校正器为核心设备，如只提供单球差或者无球差，将直接导致废标）5.4.1球差系数调节范围：-0.1到1.2mm*5.4.2每个矫正透镜（物镜和聚光镜）均采用≥6极子设计，最低优化校正到≥4阶像差系数以上；5.4.3球差矫正器矫正透镜采用长、短焦距或者等焦距设计，光路采用轨道扩张型设计，能最大程度的抑制色差的增加。

附件：日本电子JEM-2100高分辨透射电镜/ JSM-7600F场发射扫描电镜简介JEM-2100高分辨透射电镜一、主要部件JEM-2100主机，ORIUS SC1000型CCD，牛津80mm2电制冷X射线能谱仪（EDS），双轴倾转样品杆二、主要指标电子枪：LaB6（六硼化镧）点分辨率：0.23 nm线分辨率：0.14 nm加速电压：80, 100, 120, 160, 200kV束斑尺寸： 1.0至25 nm放大倍数（高倍模式）：2000至1,500,000放大倍数（低倍模式）：50至6,000CCD分辨率：4008×2672 max.倾斜角：±35º采用MS Windows为基本操作界面，操作直观简便。

三．特色功能⏹除高分辨、电子衍射和能谱等基本功能外，该电镜还具备纳米束电子衍射（NBD）、汇聚束电子衍射（CBD）功能，适用于纳米晶体、多相合金、复合材料的衍射表征。

⏹配备扫描透射电镜（STEM）模式，可采集STEM明场像和暗场像，并配合能谱实现微区元素分析和元素分布图（Mapping）。

JSM-7600F场发射扫描电镜一、主要部件JSM-7600F场发射扫描电镜，牛津80mm2电制冷X射线能谱仪（EDS），背散射探头（BSE）二、主要指标电子枪：热场发射二次电子像分辨率： 1.5 nm（1 kV，GB 模式），1.0 nm（15 kV）放大倍数：25 至1,000,000×加速电压：0.1 至30 kV束流： 1 pA 到200 nA（15 kV时）数字图像：5120×3840 max.样品水平行程(X-Y)：140 mm×80 mm倾斜角度：-5 至+70°旋转角度：360°工作距离： 1.5 mm 至25 mm配备上方和低位SEI探测器、BSE探测器三．特色功能⏹Gentle Beam模式（即“减速模式”）可将电子束损伤降低到最低程度，适用于不导电样品表征。

上海交通大学分析测试中心 送样须知Iac_office@2014‐3‐24目录材料微区分析室各台仪器送样须知 (4)(一)分析型透射电子显微镜（TEM）送样须知： (4)（二）生物型透射电子显微镜（BIO-TEM）送样须知： (5)（三）高分辨场发射扫描电子显微镜（SEM）送样须知： (7)（四）低真空超高分辨场发射扫描电子显微镜（SEM-LV）送样须知： (8)（五）大气下原子力显微镜（AFM）送样须知： (8)（六）环境可控扫描探针显微镜（SPM）送样须知： (9)（七）生物型原子力显微镜（AFM）送样须知： (10)（八）色散型共聚焦拉曼光谱仪（RAM）送样须知： (10)（九）变角度光谱椭圆偏振仪（VEL）送样须知： (11)（十）纳米粒度分析仪（PCS）送样须知： (12)（十一）离子溅射仪&蒸碳仪（IS）送样须知： (12)（十二）高温/真空/气份环境光学显微镜&CCD相机（HTOM）送样须知： (13)材料物性分析室各台仪器送样须知 (14)（一）综合物性测量系统（PPMS）送样须知： (14)（二）X射线光电子能谱仪（XPS）送样须知： (14)（三）扫描型X射线荧光光谱仪（XRF）送样须知： (16)（四）X射线衍射仪送样须知 (16)（五）能量色散X射线荧光光谱仪送样须知 (17)（六）小角X射线散射仪 (17)化学室各台仪器送样须知 (19)(一) 火焰-石墨炉原子吸收分光光度计 (19)(二) 电感耦合等离子体发射光谱仪 (19)(三) 电感耦合等离子体质谱 (20)(四) 离子色谱仪 (21)(五) 高频红外碳硫分析仪 (21)(六) 400MHz核磁共振波谱仪 (22)(七) 傅里叶变换离子回旋共振质谱仪 (23)(八) 圆二色光谱仪 (24)(九) 红外光谱仪 (25)(十) 显微红外光谱仪 (26)(十一) 自动旋光仪 (28)(十二) 紫外可见分光光度计 (28)(十三) 动态热机械分析仪 (29)(十四) 差示扫描量热仪 (30)(十五) 热重分析仪 (31)(十六) 同步热分析仪 (34)生命科学室各台仪器送样须知 (37)（一）超高效液相色谱-四极杆飞行时间质谱联用仪（UMS）来样须知： (37)（二）气相色谱仪（GC）来样须知： (38)（三）气相色谱-质谱联用仪（GCM）来样须知： (40)（四）全二维气相色谱-飞行时间质谱联用仪（GCT）来样须知： (41)（五）元素分析同位素质谱联用仪（EAI）来样须知： (42)（六）二维纳升液相色谱-线性离子阱质谱联用仪（LTQ）来样须知： (44)（七）纳升液相色谱-四极杆飞行时间串联质谱联用仪（NLM）来样须知： (45)（八）高效液相色谱仪（HPL）来样须知： (47)（九）高效液相色谱仪（HPL）来样须知： (48)（十）全自动氨基酸分析仪（AAA）来样须知： (49)（十一）超高效液相色谱-三重四极杆质谱联用仪（QQQ）来样须知： (52)材料微区分析室各台仪器送样须知尊敬的老师/客户，为了提高仪器的使用效率、保证检测质量、并向您提高满意的服务，请您在送样之前仔细阅读以下各仪器对送检样品的要求。

一步水热法合成KA分子筛及性能研究作者：王鹏孙奇曹骏熊蓉蓉代雪来源：《贵州大学学报（自然科学版）》2020年第04期摘要：以硅酸鈉提供硅源，铝酸钠提供铝源，通过一步水热法成功合成出具有典型立方体形状的KA分子筛。

通过粉末X射线衍射仪，傅里叶变换红外光谱仪，扫描电子显微镜，透射电子显微镜，热重分析和N2吸附-脱附技术详细表征了KA分子筛。

研究结果表明：KA分子筛的晶体结构属于体心立方结构，KA分子筛是多晶体;KA分子筛的硅铝物质的量比为1.0∶1;KA分子筛的BET（Brunauer-Emmett-Teller）比表面积是36.783 m2/g，微孔比表面积是24.399 m2/g，微孔体积是0.053 cm3/g。

另外，通过对KA分子筛的热稳定性研究，得出2个结论：KA分子筛的相转变温度约是500 ℃，KA分子筛的总质量损失为15.1%。

关键词：一步法;水热合成;KA;分子筛中图分类号：O643 文献标识码： A三聚磷酸钠（sodium tripolyphosphate，STPP）是一种磷酸盐基化合物，对金属离子有较强的螯合能力[1]。

STPP与水中的Ca、Mg、Fe等金属离子有络合作用，生成可溶性络合物。

在过去的几十年间，STPP应用于洗涤剂制造和水软化领域。

但是，由于STPP本身含磷元素，容易造成水体富营养化，许多国家已经禁止使用这种化合物[2]。

目前，大多数国内外研究者主要研究NaA分子筛在生活中的应用。

AYELE等[2]以埃塞俄比亚高岭土为原料，通过优化参数成功合成了NaA分子筛，并应用于洗涤剂制造和水软化领域。

ISMAIL等[3]以二氧化硅提供硅源，铝酸钠提供铝源，采用气相法成功合成了NaA分子筛，并探究了NaA分子筛对重金属离子亲和力的最佳条件。

然而，NaA分子筛在洗涤剂助洗剂和硬水软化领域的应用存在一些问题。

当NaA分子筛置换出硬水中的Ca、Mg、Fe等金属离子时，释放出的钠离子进入大自然，导致土壤中钠含量过高，从而抑制植物正常吸收水分和矿物质[4]。

附件：超高分辨场发射透射电子显微镜配套附件*本包透射电子显微镜配套附件包括CCD成像附件、铍双倾（杆）台、普通单倾（杆）台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件。

为保证所有配套附件能用于同一台电子显微镜上，要求必须由电子显微镜厂商打包投标。

1. 工作条件1.1 电力供应：220V（10%），50Hz，1φ; 380V（10%），50Hz，3φ1.2 工作温度：15℃-25℃1.3 工作湿度：< 60%1.4 安装在200KV的透射电子显微镜或场发射扫描电子显微镜2．主要功能本包招标的超高分辨场发射透射电子显微镜的所有配套附件，包括透射电镜CCD相机、铍双倾台、普通单倾台、能谱仪、波谱仪及相应的附属部件，必须能安装在200KV超高分辨场发射透射电子显微镜上并进行联机使用。

3. 技术要求及配置3.1透射电镜CCD相机3.1.1 主要功能透射电镜专用CCD相机是用于拍摄透射电镜显微图像和电子衍射的数字化图像记录设备，其拍摄的图像应拥有高质量的分辨率，并应具备数字化图像处理的功能；且能同时满足材料科学和生物、医学科学研究的要求。

*3.1.2 耦合方式：1:1光纤耦合，HCR技术（高衬度分辨率）；*31.3 CCD感应器：像素≥2K×2K（400 万像素以上），单像素≤14μm，CCD 实际接受面积≥28.7mm×28.7mm3.1.4安装位置：轴上，底部安装*3.1.5 相机保护：CCD 机头可自动伸缩，具有可扩充电子能量损失谱仪的接口3.1.6 闪烁体：标准多晶磷3.1.7 读取噪音：≤5 counts3.1.8 读取方式：多通道同时输出（≥4通道）3.1.9 操作电压：最高可达200kV3.1.10 读出速度：全分辨率模式≥0.8 帧/秒，4×binning下≥5 fps3.1.11 Binning功能：1，2，3，4，6，8×3.1.12 动态范围：≥16bit3.1.13 冷却方式：半导体制冷，冷却温度为＜-20℃3.1.14 抗炫功能：有3.1.15 Digital streaming video 功能：有*3.1.16 具备拍摄显微图像和电子衍射的功能*3.1.17 拍摄衍射花样的接受角：单色度正负5电子伏时大于100mrad，单色度正负10电子伏时大于150mrad3.1.18 图像采集、处理软件：Digital Micrograph软件包和DIFPac软件包，除基本*.jpg，*.tiff，*bmp等存储格式外，还具有*.dm3 专用存储格式3.2 透射电镜用铍双倾样品杆3.2.1 特点：铍材质，用于做EDS分析时，消除常规样品杆Cu形成的EDS 谱中的Cu背底。

SU6600设备简介扫描电子显微镜（SEM）概论扫描电子显微镜的设计思想和工作原理，早在1935年便已被提出来了。

1942年，英国第一制成一台实验室用的扫描电镜，但由于成像的分辨率很差，照相时刻太长，因此有效价值不大。

通过各国科学工作者的尽力，尤其是随着电子工业技术水平的不断进展，到1956年开始生产商品扫描电镜。

近数十年来，扫描电镜已普遍地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中，增进了各有关学科的进展。

扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的彼此作用。

当一束高能的入射电子轰击物质时，被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特点x射线和持续谱X射线、背散射电子、透射电子，和在可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射。

同时，也可产生电子-空穴对、晶格振动（声子）、电子振荡（等离子体）。

原那么上讲，利用电子和物质的彼此作用，能够获取被测样品本身的各类物理、化学性质的信息，如形貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等。

一、场发射扫描电子显微镜大体原理被加速的高能电子束照射到样品上(在高真空状态下)，入射电子束与样品彼此作用，产生各类信号，通过不同的探测器检测各类不同的信号，即能够取得有关样品的各类信息。

例如，最多见的二次电子信息，就能够直接取得样品表面的图像信息。

场发射扫描电子显微镜(与一般扫描电镜不同的是采纳高亮度场发射电子枪，从而取得高分辨率的高质量二次电子图象)能够观看和检测非均相有机材料、无机材料及微米、纳米材料样品的表面特点，是材料表面形貌观看有效仪器。

普遍用于金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检测、产品生产质量操纵、宝石鉴定、生物学、医学、考古和文物鉴定及公安刑侦物分析等。

1.光学显微镜与扫描电子显微镜光学显微镜是用可见光照射在样品表面，反射光通过一系列玻璃透镜放大后而呈现出样品的放大图象，由于波长和光干与限制，极限只能观看到小至200nm左右的颗粒。

与光学显微镜不同，场发射扫描电子显微镜(电子束波长极短)是用电子束在样品表面扫描，电子束轰击样品表面，释放出二次电子和反射电子等，通过二次电子探测器检测二次电子信号，按相同扫描规律，在显示器上成像。