扫描电子显微镜钨灯丝技术指标

MV_RR_CNJ_0010分析型扫描电子显微镜方法通则1.分析型扫描电子显微镜方法通则的说明编号JY/T 010—1996名称(中文)分析型扫描电子显微镜方法通则(英文)General rules for analytical scanning electron microscopy归口单位国家教育委员会起草单位国家教育委员会主要起草人林承毅 万德锐批准日期 1997年1月22日实施日期 1997年4月1日替代规程号无适用范围本通则适用于各种类型的扫描电子显微镜和X射线能谱仪。

定义主要技术要求 1.2. 方法原理3. 仪器4. 样品5. 分析步骤6. 分析结果表述是否分级无检定周期(年)附录数目无出版单位科学技术文献出版社检定用标准物质相关技术文件备注2.分析型扫描电子显微镜方法通则的摘要本通则适用于各种类型的扫描电子显微镜和X射线能谱仪。

2 定义2.1二次电子 secondary electron在入射电子的作用下，从固体样品中出射的，能量小于50eV的电子，通常以SE表示。

2.2背散射电子 backscattered electron被固体样品中的原子反射回来的入射电子，包括弹性背散射电子和非弹性背散射电子，通常以BSE表示。

它又称为反射电子(Reflected Electron)，以RE表示。

其中弹性背散射电子完全改变了入射电子的运动方向，但基本上没有改变入射电子的能量；而非弹性背散射电子不仅改变了入射电子的运动方向，在不同程度上还损失了部分能量。

2.3 放大倍数 magnification扫描电镜的放大倍数是指其图像的线性放大倍数，以M表示。

如果样品上长度为L s直线上的信息，在显像管上成像在L c 长度上，则放大倍数为M ＝－L L －c s扫描电镜的有效放大倍数与电子束直径有关。

如果样品上电子束编址的单位区域，即像素，小于电子束直径，每次取样传送的信息包含一个以上的像素，前后传送的信息互相部分重叠。

钨灯丝扫描电子显微镜EVO MA 10/LS 10详细描述：品牌：卡尔·蔡司 型号：EVO MA 10/LS 10制造商：德国卡尔蔡司公司 经销商：欧波同纳米技术有限公司免费咨询电话：800-8900-558【品牌故事】世界顶级光学品牌，可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。

其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥），积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一：第一台静电式透射电镜 (1949)第一台商业化扫描电镜 (1965)第一台数字化扫描电镜(1985)第一台场发射扫描电镜(1990)第一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992)第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003)第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。

自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有电镜制造最核心最先进的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是全球唯一为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。

其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。

作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

【总体描述】EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。

MA 10用于材料领域,LS 10用于生命科学领域。

该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术级的物镜设计，提供高低真空成像功能，可对各种材料表面作分析，并且具有业界领先的X射线分析技术。

革命性的Beamsleeve的设计，确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像，同时还可以进行准确的能谱分析。

1.扫描电子显微镜的成像原理：与透射电镜完全不同，它不用电磁透镜放大成像。

而是以类似电视摄影显像的方式。

利用细聚焦高能电子束在样品表面扫描时激发出来的各种物理信号来调制成像的。

扫描电子显微镜的特点：①高分辨率：普通钨灯丝扫描电镜其二次电子像的分辨率达3～4nm；而场发射扫描电镜可达1～2nm。

②高放大倍数：10倍～50万连续可调，原位放大。

③高景深：适合于粗糙表面及断口形貌的显微分析。

④多功能：可与其它分析仪器相组合，能在同一台仪器上进行形貌、微区成分和晶体结构等多种微观组织结构信息的同位分析。

2电子束与固体样品作用高能入射电子束轰击固体样品，与样品物质中的原子核、核外电子相互作用，而发生散射和吸收。

原子对电子散射：也分弹性散射与非弹性散射。

1)、弹性散射：入射电子与原子核的相互作用。

2). 非弹性散射：入射电子与原子中核外电子作用。

入射电子能量传给原子而发生变化，并引起原子结构变化，产生各种电子激发或辐射。

3)吸收：入射电子在固体中散射比X 射线强得多，固体对电子的“吸收”强烈。

吸收表现：随着激发次数增多，入射电子动能逐渐减小，引起强度衰减，直到耗尽，最终被固体吸收（束缚）。

电子束与固体样品作用时产生的信号1)．背散射电子：指被固体样品中原子核反弹回的一部分入射电子。

含弹性的和非弹性的①弹性背散射电子：指被样品物质中原子核反弹回来，散射角>90o的部分入射电子，其能量基本无损失，只改变方向。

特点：能量高，能达数千～数万电子伏。

②非弹性背散射电子：入射电子和核外电子相互作用，不仅方向改变、能量有不同程度损失，经多次散射后仍能回表面（散射角> 90o ）的电子。

背散射电子特点：能量：从数十eV～数千eV很宽。

数量：弹性的远比非弹性的所占份额多。

来源：样品表层几百nm深度。

产额：随原子序数Z增大而增多。

2)．二次电子：指被入射电子击出，并离开样品表面的样品物质核外电子。

二次电子特点：①大多（90％）是来自样品原子外层的价电子。

钨灯丝扫描电镜原理钨灯丝扫描电镜是一种利用电子束成像技术观察物样表面形貌及微结构的高级显微分析仪器。

其主要原理是利用电子枪发射电子束，扫描物样表面，将经过二次电子转化的电子信号转化为图像信号。

下面从发射电子束、扫描物样表面和信号转换三部分详细介绍钨灯丝扫描电镜的原理。

一、发射电子束电子束是钨灯丝扫描电镜成像的基础，也是其最重要的组成部分之一。

电子束来源于电子枪，电子枪是由加热器、阴极、阳极和网格组成的。

阴极加热后，会发射出一些自由电子，在高电场作用下，这些自由电子会加速并向阳极移动。

在电子枪中，使用网格控制电子束的尺寸和位置，通过调节网格电压和阴极电压可以控制电子束的强度和位置。

二、扫描物样表面扫描物样表面是钨灯丝扫描电镜的核心部分，通过扫描物样表面可以获取到物样表面形貌和微观结构信息。

当电子束照射到物样表面时，表面会产生一些二次电子，这些二次电子会溅射出去，其中一部分可以被收集到二次电子探测器中。

通过探测器收集到的二次电子信号，可以重建出物样表面的形貌和微观结构。

三、信号转换信号转换是将通过二次电子转化的电子信号转化成最终的图像信号。

收集到的二次电子信号会被放大并转化成电压信号，这些信号经过电子学处理后被送入视频控制器，由视频控制器进行数字/模拟转换并存储成图像。

最终，经过数字转换的图像信号被发送到高分辨率显示器或数字储存器中，形成可视化图像或数字数据。

钨灯丝扫描电镜是一种高级显微分析仪器，其基本原理是利用电子束成像技术观察物样表面形貌及微结构。

从电子束发射、扫描物样表面到信号转换，这三个部分构成了钨灯丝扫描电镜的主要原理。

除了基本原理之外，钨灯丝扫描电镜还有一些相关的内容，包括样品准备、成像技术和应用范围等。

一、样品准备样品准备是钨灯丝扫描电镜分析中的重要环节，样品的质量和处理方法对成像效果有非常大的影响。

通常情况下，将样品制成薄片或表面光洁的粒子，用金、银等容易导电的材料涂覆表面，然后通过真空室将样品固定在样品台上。

扫描电子显微镜技术参数1. 扫描电镜主机★1.1 分辨率二次电子探测器分辨率：<3.0 nm （30 KV）；<8nm (3 KV )，背散射电子探测器分辨率：<3.5nm（30kv )。

★1.2 放大倍数：最低倍率可达到1倍，最高倍率可达到1000,000。

1.3 真空系统★1.3.1 具有高低真空功能,高低真空自动转换；★1.3.2 样品室真空度：高真空可达到5×10-4 Pa；低真空范围不小于5-500Pa；1.4 电子光学系统1.4.1 电子枪：钨灯丝，具有自动加热及对中的功能；1.4.2 聚光镜：具有自动可变焦功能；1.4.3 加速电压:200V-30kV，10V步进可调；1.4.4电子探针束流：最大束流不小于2uA，并连续可调。

★1.4.5电子光学镜筒可全自动自动调节，可以精确控制束流和束斑尺寸；1.5 样品室和样品台★1.5.1 样品台尺寸：装载直径≥200mm样品；★1.5.2全自动五轴优中心台：具有全自动五轴马达驱动功能；样品台移动范围：X=100 mm，Y=100mm，Z=100 mm旋转：360度连续倾斜：-30度到+90度更换样品后抽真空时间：< 5分钟；1.5.3 样品台具有报警与自动停止功能，具有样品位置感知功能。

1.6 探测器及成像系统★1.6.1具备高灵敏度YAG晶体二次电子探测器具备可伸缩的YAG晶体背散射电子探测器具备用于观察样品室情况的红外摄像机；★1.6.2 成像模式：同时得到二次电子像，背散射电子像，两种图像混合像，也可四幅图像同时成像，BSE可分别成像，并和SE任意叠加混合；1.6.3具备五种电子光学工作模式；★1.6.4扫描速度：从20 ns至10 ms像素，可阶段或连续式的调整，可进行3维电子束扫描，电子束沿X和Y轴倾斜扫描实时立体成像。

1.7电镜控制1.7.1电镜操作控制系统：鼠标、键盘、轨迹球；1.7.2工作站：Intel® Core 3.6GHz，8GB内存，500GB硬盘，nVIDIA GT630 2GB DDR3，Windows81.7.3完善的软件用于SEM控制，图像采集、存档、处理和分析；★1.7.4具备中英文操作系统。

【型号】EVO MA 10/LS 10EVO MA 15/LS 15【钨灯丝扫描电子显微镜】【总体描述】放大倍数：7—1000000x 放大倍数：5—1000000x低真空压力范围：10—400Pa (LS10:10-3000Pa)低真空压力范围：10—400Pa (LS15:环扫模式10-3000Pa)工作室：310mm(φ)×220mm(h)工作室：365mm(φ)×275mm(h)5轴优中心自动样品台：X=80mm Y=100mm Z=35mm T=0-90°R=360°5轴优中心自动样品台：X=125mm Y=125mm Z=50mm T=0-90°R=360°最大试样高度：100mm，最大试样直径：200mm 最大试样高度：145mm，最大试样直径：250mm【主要特点】能在可变压力下操作先进X射线和EBSD分析可移动大平台快抽真空未来的保证，可升级在高压和水蒸气下成像和分析高亮度LaB6资源选择光线套选择探针电流：0.5μAX-射线分析工作距离：8.系统控制：基于Windows XP【技术参数】EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。

MA10/15/25用于生命科学领域。

该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术级的物镜设计，提供高低真空成像功能，可对各种材料表面作分析，并且具有业界领先的X射线分析技术。

革命性的Beamsleeve的设计，确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像，同时还可以进行准确的能谱分析。

样品台为五轴全自动控制。

标准的高效率无油涡轮分子泵能够满足快速的样品更换和无污染(免维护)成像分析。

OptiBeam®模式:分辨率（Resolution）、景深（Depth）、分可以使用的探测器:BSD －背散射ETSE－Everhart-Thornley 二次电子探测器VPSE－可变压力二次电子探测器SCD －样品电流探测器EPSE－延伸可变压力二次电子探测器图象处理:7种积分加速电压：0.分辨率： 3.0 nm(2nm) @4.5 nm @ 30 kV BSD（VP模式）15nm @ 30 kV 1nA, LaB620nm(15nm) @ 1kV SE和W（LaB6）10nm @ 3kV SE【产品应用】扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非玻璃纤维)等检验和研究。

德国蔡司钨灯丝扫描电镜技术文件仪器型号：EVO MA10北京欧波同光学技术有限公司2017年09月07日目录一、聚焦CARL ZEISS (3)二、产品概述 (4)三、技术参数 (5)四、计划进度及培训 (7)五、环境要求 (8)六、质保及其他服务 (9)一、聚焦CARL ZEISS世界可见光及电子光学的领导企业—德国蔡司公司始创于1846年。

其电子光学前身为LEO（里奥）,更早叫Cambridge（剑桥）和Zeiss。

积扫描电镜领域50年及透射电镜领域60多年的经验，ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一：•第一台静电式透射电镜(1949)•第一台商业化扫描电镜(1965)•第一台数字化扫描电镜(1985)•第一台场发射扫描电镜(1990)•第一台带有成像滤波器的透射电镜(1992)•第一台具有Koehler照明的200kV 场发射透射电镜(2003)•第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)CARL ZEISS其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。

自成立至今，一直延续不断创新的传统，公司拥有广泛的专有技术，随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、可为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、扫描离子显微镜等全系列解决方案。

其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。

作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

欧波同有限公司做为Carl Zeiss 集团显微镜事业部的战略合作伙伴，在北京，上海，广州，鞍山、济南、郑州、西安等地设有营销机构和维修服务站，致力于蔡司电镜的技术咨询，销售和售后服务工作。

二、产品概述扫描电镜是以电子束作为光源，电子束在加速电压的作用下经过三级电磁透镜，在末级透镜上部扫描线圈的作用下，在试样表面做光栅状扫描，产生各种同试样性质有关的物理信息（如二次电子，背散射电子），然后加以收集和处理，从而获得表征试样形貌的扫描电子像。

JJG010-1996分析型扫描电子显微镜检定规程预览说明:预览图片所展示的格式为文档的源格式展示,下载源文件没有水印,内容可编辑和复制分析型扫描电子显微镜检定规程1.分析型扫描电子显微镜检定规程的说明编号JJG(教委)010-1996名称(中文)分析型扫描电子显微镜检定规程(英文) Verification regulation for analytical scanning electron microscope 归口单位国家教育委员会起草单位国家教育委员会主要起草人万德锐林承毅批准日期 1997年1月22日实施日期 1997年4月1日替代规程号无适用范围本规程适用于新安装、使用中和维修后的各种分析型扫描电子显微镜(以下称扫描电镜)的检定。

外观要求主要技术要求 1.2. 安装条件3. 检定环境4. 检定用标样及设备5. 检定项目是否分级无检定周期(年) 3附录数目 2出版单位科学技术文献出版社检定用标准物质相关技术文件备注2.分析型扫描电子显微镜检定规程的摘要2 范围本规程适用于新安装、使用中和维修后的各种分析型扫描电子显微镜(以下称扫描电镜)的检定。

2.1原理经过电子光学系统聚焦的电子束在样品表面扫描，受照射的部位便激发出二次电子、背散射电子、特征X射线等多种物理信号。

这些信号经检测、放大后，用来调制阴极射线管的亮度，即可观察到样品的图像。

通过对特征X射线的检测、校正和计算，便可对样品进行元素成分的定性和定量分析。

2.2构成分析型扫描电镜是由常规的扫描电镜和X射线能量色散谱仪两部分组合而成。

它既能观察样品的微观形貌和结构，又能分析样品微区的元素成分。

扫描电镜，由电子光学系统、信号检测和放大系统、扫描系统、图像显示和记录系统、电源系统以及真空冷却系统等部分组成。

扫描电镜按其电子枪类型和分辨率等性能分为热发射普通型、热发射精密型和场发射精密型三个等级(表1)。

X射线能量色散谱仪，简称X射线能谱仪，由半导体探测器、前置放大器、主放大器、脉冲堆积排除器、模拟数字转换器、多道分析器、计算机以及显示器和打印机等组成。

钨灯丝、冷场、热场扫描电镜的区别扫描式电子显微镜，其系统设计由上而下，由电子枪(Electron Gun) 发射电子束，经过一组磁透镜聚焦(Condenser Lens) 聚焦后，用遮蔽孔径(Condenser Aperture) 选择电子束的尺寸(Beam Size) 后，通过一组控制电子束的扫描线圈，再透过物镜(Objective Lens) 聚焦，打在样品上，在样品的上侧装有讯号接收器，用以择取二次电子(Secondary Electron) 或背向散射电子(Backscattered Electron) 成像。

电子枪的必要特性是亮度要高、电子能量散布(Energy Spread) 要小，目前常用的种类计有三种，钨(W)灯丝、六硼化镧(LaB6)灯丝、场发射(Field Emission) ，不同的灯丝在电子源大小、电流量、电流稳定度及电子源寿命等均有差异。

热游离方式电子枪有钨(W)灯丝及六硼化镧(LaB6)灯丝两种，它是利用高温使电子具有足够的能量去克服电子枪材料的功函数(work function) 能障而逃离。

对发射电流密度有重大影响的变量是温度和功函数，但因操作电子枪时均希望能以最低的温度来操作，以减少材料的挥发，所以在操作温度不提高的状况下，就需采用低功函数的材料来提高发射电流密度。

价钱最便宜使用最普遍的是钨灯丝，以热游离(Thermio nizati on) 式来发射电子，电子能量散布为 2 eV,钨的功函数约为4.5eV ,钨灯丝系一直径约100卩m弯曲成V形的细线，操作温度约2700K,电流密度为1.75A/cm2，在使用中灯丝的直径随着钨丝的蒸发变小，使用寿命约为40~80 小时。

六硼化镧(LaB6) 灯丝的功函数为 2.4eV ，较钨丝为低，因此同样的电流密度，使用LaB6 只要在1500K 即可达到，而且亮度更高，因此使用寿命便比钨丝高出许多，电子能量散布为 1 eV,比钨丝要好。

扫描电镜的分辨能力适用表征尺度范围扫描电子显微镜'>显微镜分析系统在工业材料研发制造和应用过程中必不可少，越来越多的事实证明，制约最终产品质量的关键因素往往是材料性能相对落后。

通过现代科学仪器进行材料的分析和表征，控制和提高基础材料的可靠性能以满足工业需要，得到了中国乃至世界业内广泛的共识。

世友创业扫描电镜分析系统项目，由具有十几年的扫描电镜业内经验专业人士承担，为用户提供一流的产品和技术服务，并且为普及扫描电镜知识经验而努力。

在一般人的印象里，都可以看到纳米尺度，可以表征纳米材料。

但在实践应用过程中，电子显微镜分成几类，分辨表征能力有较大差异。

为了广大用户准确了解和使用，特作如下总结。

电子显微镜类别一类透射电子显微镜，这里不作说明。

一类扫描电子显微镜，扫描电子显微镜主要演化分类：场发射大型扫描电子显微镜------------极限分辨率1-亚纳米级六硼化镧电子枪大型扫描电镜--------极限分辨率2nm钨灯丝大型扫描电子显微镜--------极限分辨率3nm小型桌面台式扫描电镜(目前商品化主要是钨灯丝)---极限分辨率20nm假使只关心样品形貌，不考虑其他探测器的性能发挥，各类型扫描电镜在良好状态条件下，分辨能力适用范围。

1、扫描电镜的极限适用表征形貌尺度--结构特征放大到3-6mm ，能看出基本形状和结构特征。

仪器观测条件需要发挥到相对极限。

操作难度高，需要丰富的操作经验。

场发射大型扫描电镜有效表征：20nm-40nm 对应倍数15万-30万倍六硼化镧大型扫描电镜有效表征： 40nm-80nm 对应7.5万-15万倍钨灯丝大型扫描电镜有效表征： 60nm-120nm 对应5万-10万倍小型桌面台式扫描电镜有效表征：400nm-800nm 对应 7500x-15000x2、扫描电镜中等潜能适用表征形貌尺度--结构特征放大到3-6mm，能看出基本形状和结构特征。

仪器观测条件设置在中等水平，操作难度适中，一般经过系统培训可以实现。

ANSYS软件技术要求一、软件名称及组成1.1 软件名称软件名称：ANSYS软件1.2 总体要求ANSYS软件主要应用于本厂多种生产工艺的仿真分析计算，具备结构、电磁、流体单场及多物理场耦合分析能力。

包含多种求解器，前后处理方便易用。

1. 3软件的主要组成ANSYS结构及低频电磁场仿真分析模块（ANSYS Mechanical Emag）、ANSYS流场仿真分析模块（ANSYS CFD Premium），ANSYS并行计算模块（ANSYS HPC PACK）。

ANSYS结构及低频电磁场仿真模块（ANSYS Mechanical Emag）：可实现结构线性、非线性、静力、动力、疲劳、断裂、复合材料、优化设计、概率设计、热及热—结构耦合、压电、静态和动态电磁场、电磁加热、场路耦合等仿真分析功能。

ANSYS流场仿真分析模块（ANSYS CFD Premium）：可进行二维、三维定常、非定常通用模型，多组分及多相流，详细化学反应、燃烧问题，传导、对流、辐射换热，运动边界问题，与ANSYS Mechanical进行单、双向流固耦合计算的模拟。

同时具备二次开发及自定义前、后处理变量，参数管理，自适应网格变形及伴随矩阵求解器网格变形等功能。

ANSYS HPC PACK模块最大可以支持32核并行计算求解，可大幅度提高ANSYS软件求解规模及日常工作效率。

二、技术要求2.1 结构及低频电磁场仿真模块（ANSYS Mechanical Emag）(APDL模块)：2.1.1*具有APDL参数化几何模型和有限元模型建模功能，建立的有限元模型可直接用于计算。

2.1.2*软件具备优异的几何模型建立和编辑能力，并且具备实时参数化修改更新功能。

2.1.3*软件必须具备功能强大且易用的网格剖分功能，支持四边形、六面体、四面体以及过渡网格等高阶电磁网格形式，具备灵活的网格修改以及加密等功能。

2.1.4*能够根据电磁计算特点，自动绘制网格模型。

扫描电子显微镜〔钨灯丝〕配置及技术指标一、主要用途1、材料显微结构的二次电子像观察2、材料显微结构的背散射电子像观察3、材料微区元素的定性和半定量分析二、扫描电镜组成1、主机+电制冷X 射线能谱仪2、计算机控制系统3、真空系统4、低真空系统5、电子光学系统6、辅助设备〔变压器、稳压器、冷却装置等〕7、备品备件〔包括灯丝、聚光镜光栏、物镜光栏、保险丝、密封圈、专用工具、碳、银两种导电胶、导电胶带、真空脂、二次电子探测器等〕8、离子溅射仪三、技术指标1、二次电子〔高真空〕分辨率： 3.0nm 〔30KV〕2、背散射电子〔高真空〕分辨率： 4.0nm 〔30KV〕3、放大倍数：最低倍率w 6倍，最高倍率?300,000倍4、真空系统4.1 具有上下真空功能；4.2 真空泵系统：涡轮分子泵+机械泵4.4 真空系统阀门：电磁阀或气动阀〔配有空压机〕5 电子光学系统5.1 电子枪：全自动电子枪，具有自动偏压功能5.2 聚光镜光阑完全安装在长内衬管内，用户可自行拆卸、更换聚光镜光阑5.3 灯丝：预对中灯丝，灯丝饱和自动调节6 样品室和样品台6.1 最大样品尺寸：200mmx75mm6.2 5 轴自动马达驱动样品台6.3 非接触报警装置：通过输入的样品尺寸数据，自动防止样品台的危险操作6.4 具有样品室内部整体观察功能〔CCD〕7 探测器及成像系统7.1 二次电子探测器：二次电子像7.2 背散射电子探测器：成分像、形貌像或三维像7.3 成像模式：同时得到二次电子像，背散射电子像，两种图像混合像7.4 图像捕捉模式：快慢扫描捕捉、积分捕捉7.5 电镜操作控制系统：鼠标、键盘及具有手动操作功能部件7.6 软件界面：中英文操作界面〔无中文操作界面说明即可〕，列出标配软件和外购软件8 X 射线能谱仪的技术指标〔扫描电镜附件〕8.1 电制冷探测器8.2 分别率：优于129eV8.3 探测器活区面积：大于或等于208.4 元素探测范围：Be〔4〕—U〔92〕8.5 软件界面：中英文界面〔无中文操作界面说明即可〕8. 6软件功能：具备点、线、面分析功能，具有标准通用软件包，列出标配软件和外购软件8.7 配有专用电脑和显示器四、附件、备件、特殊工具和消耗品提供五年以上的备品备件〔包括各种保险丝、密封圈、各种光栏、专用工具、样品托、金属抛光膏、银导电胶、导电胶带及预对中灯丝80 支〕1 预对中灯丝：80 支2 聚光镜光阑： 5 套3 物镜光阑：5 套4 银导电胶： 2 瓶5 导电胶带：2 卷五、安装效劳5.1 安装、调试：厂家免费负责仪器的安装、调试，验收合格。

1.JSM-6360LV型钨灯丝高低真空扫描电镜仪器
生产厂家：日本电子株式会社。

主要特点：全数字化控制系统，高分辨率、高精度的变焦聚光镜系统、全对中样品台及高灵敏度半导体背散射探头；用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。

技术参数：⑴高真空模式：3.0nm，背散射电子像：4.0nm；
⑵低真空度1to270Pa，高、低真空切换；
⑶样品台X:80mm Y:40mm T:-10 to +90degree R:360degree；
1pA-1uA
⑷加速电压0.5kV to 30Kv束流
2.EDAX FALCON-60S能谱仪
生产厂家：美国EDAX公司
主要特点：探头指标高，性能好，寿命长；工作可靠，效率高；操作界面使用直观方便；具有多种专有技术软件，分析精度高；软件种类及功能丰富，且具有报告生成系统。

用于各种材料微区成分分
析。

技术参数：⑴探头分辨率优于135eV,峰背比优于20000:1；
⑵检测元素范围Be4-U92；
⑶最大计数率500,000cps；
⑷最大图象采集分辨率8192x6400象素；
⑸最大面分布图采集分辨率2048x1600象素
1。

扫描电镜相关参数·关键技术参数1.分辨率：对微区成分分析而言，它是指能分析的最小区域；对成像而言，它是指能分辨两点之间的最小距离。

分辨率大小由入射电子束直径和调制信号类型共同决定。

电子束直径越小，分辨率越高。

但由于用于成像的物理信号不同，例如二次电子和背反射电子，在样品表面的发射范围也不相同，从而影响其分辨率。

一般二次电子像的分辨率约为5-10nm，背反射电子像的分辨率约为50-200nm。

2.放大倍数：当入射电子束作光栅扫描时，若电子束在样品表面扫描的幅度为As，在荧光屏阴极射线同步扫描的幅度为Ac，则扫描电镜的放大倍数为: M=Ac/As3.真空系统Pa4.加速电压Kv5.电子束电流 uA6.样品室内部尺寸mm7.样品台行程8.样品最大高度 mm·样品减薄技术复型技术只能对样品表面性貌进行复制，不能揭示晶体内部组织结构信息，受复型材料本身尺寸的限制，电镜的高分辨率本领不能得到充分发挥，萃取复型虽然能对萃取物相作结构分析，但对基体组织仍是表面性貌的复制。

在这种情况下，样品减薄技术具有许多特点，特别是金属薄膜样品：可以最有效地发挥电镜的高分辨率本领；能够观察金属及其合金的内部结构和晶体缺陷，并能对同一微区进行衍衬成像及电子衍射研究，把性貌信息于结构信息联系起来；能够进行动态观察，研究在变温情况下相变的生核长大过程，以及位错等晶体缺陷在引力下的运动与交互作用。

·表面复型技术谓复型技术就是把金相样品表面经浸蚀后产生的显微组织浮雕复制到一种很薄的膜上，然后把复制膜（叫做“复型”）放到透射电镜中去观察分析，这样才使透射电镜应用于显示金属材料的显微组织有了实际的可能。

用于制备复型的材料必须满足以下特点：本身必须是“无结构”的（或“非晶体”的），也就是说，为了不干扰对复制表面形貌的观察，要求复型材料即使在高倍（如十万倍）成像时，也不显示其本身的任何结构细节。

必须对电子束足够透明（物质原子序数低）；必须具有足够的强度和刚度，在复制过程中不致破裂或畸变；必须具有良好的导电性，耐电子束轰击；最好是分子尺寸较小的物质---分辨率较高。

电子显微镜技术参数一、电镜主机技术要求：1．总则：1．1提供相应货物的技术规格文件，在应答的品目标题下,标明货物的型号、商标名称及生产厂家。

1．2货物的制造和检验，必须是按照现行的中国国家标准，或通用国际标准。

1．3仪器设备如需特殊工作条件（如：水、电源、磁场强度、特殊温度、湿度、振动强度等），应在相关文件中加以说明。

2环境条件：除该品目在技术要求中另有说明外，所有仪器、设备和装置，均应适合以下条件：a)电源：220V(±10%)，50Hz/60Hz；b)工作环境温度：15～23度c)工作环境湿度：<60%RHd)运行持久性：连续使用e)安装条件：地线接地电阻小于100欧姆3.技术要求：3．1分辨率：0.2nm3．2加速电压：20-120KV(以100V为步长调节)3．3放大倍数：高反差模式：X200～X200,000高分辨模式：X4,000～X600,000低倍模式：X50～X1,0003．4图像旋转：最大范围X1,000～X40,000，旋转角度：±90度（15度/步）3．5衍射长度：高反差方式 0.2～8.0m高分辨方式 0.2～2.0 m3．6电子枪：钨灯丝，具有电流自动控制，灯丝计时，气压式自动升枪等功能3．7使用高灵敏度的荧光屏CMOS相机取代了传统的荧光屏，将TEM操作统一于显示器上。

配置双CCD，使图像显示与操作一体化3．8样品位移：X/Y ±1mm(CPU控制马达驱动)，Z±0.3mm，样品台倾斜角：±30度。

可显示样品位置、倾角等。

3．9透镜系统：高倍观测时8级透镜3．10照明透镜级数：2级聚光镜3．11成像系统：CPU控制的6级透镜系统，物镜、中间镜和投影镜均为两级3．12不更换硬件的前提下，可在同一台仪器上实现高分辨和高反差模式的自由切换3．13 高反差模式焦长：≥6.1mm，高分辨模式焦长：≤3.1mm3．14物镜活动光阑：4孔光阑（10-20-50-80微米）3．15 可以实现8K x 8K像素快速自动拼图（4张x4张拼图仅需4分钟）3．16电镜控制界面与相机图像一体化,配置1600万像素直插相机3．17真空系统：真空逻辑由测量值控制配有皮拉尼规，用于测量低真空度潘宁规，用于测量高真空度3．18不使用扩散泵，标准配置分子泵 1台，转速不低于250L/s，旋转泵 1台，转速不低于135L/min。

场发射分热场和冷场，共性是分辨率高。

热场的束流大些，适合进行分析，但维护成本相对较高，维护要求高。

冷场做表面形貌观测是适合的，相对而言维护成本低些，维护要求不算高。

冷场发射电子枪优点：单色性好，分辨率高缺点：电子枪束流不稳定，束流小，不适合做能谱分析，每天要做一次Flash热场发射电子枪优点：电子束稳定，束流大缺点：与冷场相比除了单色性和分辨率略差点外，其它找不出缺点。

热场在总发射电流（Total emission current）、最大探针电流（Maximum probe current）、电子束噪声（Beam noise）、发射电流漂移（Emission current drift）、工作真空（Operating vacuum）、阴极还原（Cathode regeneration）、对外部影响的敏感性（Sensitivity to external influence）等方面都具有一等的优势。

这些参数直接影响电镜的性能。

在阴极半径（Cathode radius）、有效电子源半径（Effective source radius）、发射电流密度（Emission current density）、标准亮度（Normalised brightness）等方面，冷场发射略胜一筹。

这几个参数总起来说就是冷场发射阴极的发射面积较小、能量集中，便于将电子束聚焦于一个很小的点，以提高分辨率。

但是在现代的电镜技术条件下，热场发射电镜通过采取各种有效措施，也能够将电子束汇聚于一个理想的点，达到冷场发射电镜的分辨率水平。

电子枪发射的电流强度很小，微安级别和纳安级别，为防止气体电离造成的大电流击穿高压电源，都需要高真空环境。

电子枪阴极都属于耗材系列。

差异和优劣:1、点源直径不同及优劣：钨灯丝电子枪阴极使用0.1mm直径的钨丝制成V形（发叉式钨丝阴极），使用V形的尖端作为点发射源，曲率半径大约为0.1mm；场发射电子枪阴极使用0.1mm直径的钨丝，经过腐蚀制成针状的尖阴极，一般曲率半径在100nm~1μm之间。

数字化扫描电镜JSM-6390系列主要性能简介JSM-6390钨灯丝扫描电镜，是日本电子株式会社在2006年1月10日推出的最新型号的数字化扫描电镜。

是在近几年销售名列前茅深受好评的JSM-6360, JSM-6380的基础上，将电子光学系统进行技术革新，并保留了JSM-6360、JSM-6380良好的操作界面和出色稳定的控制系统，堪称世界上最先进的扫描电子显微镜。

主要特点为全数字化控制系统，高分辨率、高精度的变焦聚光镜系统、全对中样品台及高灵敏度半导体背散射探头、丰富的成像模式等；用于各种材料的形貌组织观察、金属材料断口分析和失效分析。

该型号在很多大学、研究院所及制造业被广泛使用。

该系列有四种型号：请参考用户名单。

一、电子光学系统的特点1.分辨率 (Resolution)高真空模式：3.0nm（30kV），8.0nm（3kV），15nm（1kV），JSM-6390LV既保证高电压下的高分辨率，也可提供低电压下高质量的图像。

在低电压下提供的分辨率是世界上最高的分辨率指标，对于非导体样品观察意义重大。

2.全自动电子枪 (Fully Automated Electron Gun)当真空度达到要求后，只需按下HT按钮，加速电压的提升、灯丝的加热及图像的自动出现全部自动完成。

无缝自主栅偏压和消像散的自动记忆功能均自动实现。

3.大视野观察范围（Large Field of View）最低的放大倍数可达5倍，可观测到24mm见方的样品，便于用户分析寻找样品。

4.高精度的变焦聚光镜系统 (Precision Zoom Condenser lens)探测电流发生变化时，图像的聚焦状态可保持不变。

5.超级圆锥形物镜 (Super Conical Objective Lens)超级圆锥形物镜允许样品在较小的工作距离下，得到较大的倾斜角。

在10mm WD的距离下，完成能谱的分析工作的同时可得到高分辨的图像。

6.高灵敏度半导体背散射探头 (High sensitivity semiconductor detector)此探头是日本电子的专利产品，它可提供三种图像：成分像、形貌像和立体像。