不容易获得连续均匀的镀层，容易形成岛状结构， 从而掩盖样品的真实表面。
样品制备
表面镀膜最常用的方法有真空蒸发和离子溅射两种方法。
离子溅射也是常用的表面 镀膜方法
其溅射原理见图。
与真空蒸发相比，当金属 薄膜的厚度相同时，利用 离子溅射法形成的金属膜 具有粒子形状小，岛状结 构小的特点。
样品制备
❖ 保持光学系统 正常工作；
❖ 防止样品污染 ❖ 真空度
1.3310-2 --- 1.33 10-3Pa
三. SEM的主要性能指标
（1）．放大倍数
K ＝ As Ac
荧光屏上的扫描振幅 电子束在样品上的扫描振幅
放大倍数与扫描面积的关系： (若荧光屏画面面积为10×10cm2)
放大倍数
10× 100× 1,000× 10,000× 100,000×
各种信号的深度和区域大小
二次电子像
二次电子产额δ与二次电子束与试样表面法向夹角有关，δ∝1/cosθ。 因为随着θ角增大，入射电子束作用体积更靠近表面层，作用体积内产生的大 量自由电子离开表层的机会增多；其次随θ角的增加，总轨迹增长，引起价电 子电离的机会增多。
• Edge effect (secondary electron emission differing with surface condition).
在样品表面镀金属层不仅可以防止荷电现象， 换可以减轻由电子束引起的样品表面损伤；增 加二次电子的产率，提高图像的清晰度；并可 以掩盖基材信息，只获得表面信息。
样品制备
一般金属层的厚度在10nm，不能太厚。 镀层太厚就可能会盖住样品表面的细微 ，得不到
样品表面的真实信息。 假如样品镀层太薄，对于样品表面粗糙的样品，
