纳米膜的制备方法PPT演示文稿
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纳米薄膜材料制备技术(2007-05-15 16:13:27)转载▼纳米薄膜分为两类:一类是由纳米粒子组成(或堆砌而成)的薄膜,另一类是在纳米粒子间有较多的孔隙或无序原子或另一种材料。
纳米粒子镶嵌在另一基体材料中的颗粒膜就属于第二类纳米薄膜。
纳米薄膜的制备方法按原理可分为物理方法和化学方法两大类,按物质形态主要有气相法和液相法两种。
1、物理方法:1)、真空蒸发(单源单层蒸发;单源多层蒸发;多源反应共蒸发)2)、磁控溅射3)、离子束溅射(单离子束(反应)溅射;双离子束(反应)溅射;多离子束反应共溅射)4)、分子束外延(MBE)2、化学方法:1)化学气相沉积(CYD):金属有机物化学气相沉积;热解化学气相沉积;等离子体增强化学气相沉积;激光诱导化学气相沉积;微波等离子体化学气相沉积。
2)溶胶-凝胶法3)电镀法3.2.1物理气相沉积法物理气相沉积(PVD)方法作为一类常规的薄膜制备手段被广泛地应用于纳米薄膜的制备与研究工作中,PVD包括蒸镀、电子束蒸镀、溅射等。
2分子束外延。
以蒸镀为基础发展起来的分子束外延技术和设备,经过十余年的开发,近年来已制备出各种Ⅲ—V族化合物的半导体器件。
外延是指在单晶基体上生长出位向相同的同类单晶体(同质外延),或者生长出具有共格或半共格联系的异类单晶体(异质外延)。
目前分子束外延的膜厚控制水平已经达到单原子层,甚至知道某一单原子层是否已经排满,而另一层是否已经开始生长。
3.溅射制膜溅射制膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。
溅射镀膜有两种。
一种是在真空室中,利用离子束轰击靶表面,使溅射击的粒子在基片表面成膜,这称为离子束溅射。
离子束要由特制的离子源产生,离子源结构较为复杂,价格较贵,只是在用于分析技术和制取特殊的薄膜时才采用离子束溅射。
另一种是在真空室中,利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶表面,并使溅射出的粒子堆积在基片上溅射制膜溅射制膜是指在真空室中,利用荷能粒子轰击靶材表面,使被轰击出的粒子在基片上沉积的技术。