无铅电子封装中的电迁移
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Welding Technology Vo1.39 No.3 Mar.20 1 0 ・专题综述・ 1
文章编号:1002—025X(2010)03—0001—05
无铅电子封装中的电迁移
姚健,卫国强,石永华
(华南理工大学机械与汽车工程学院,广东广州510640)
摘要:随着电子产品向微型化、多功能化的发展,封装焊点尺寸逐渐减小,电流密度急剧增大,由电迁移引起的焊点失效问题也日趋严
重 电迁移使焊点的阳极产生凸起、挤出、晶须,甚至产生塑性变形,阴极产生空洞、裂纹,降低焊点的可靠性,导致电路短路或者断
路,使元器件快速失效。本文介绍了近期国内外有关Sn-Cu,Sn-Ag,Sn-Ag-Cu,Sn-Zn及Sn-Bi等无铅钎料电迁移现象的研究进展.并 分析、评述了电迁移对无铅钎料焊点可靠性的影响机制。 关键词:电子封装;无铅钎料;电迁移;可靠性 中图分类号:TG40 文献标志码:A
0 引言 随着电子、通信、计算机等半导体产业的发展,
电子产品的微型化、多功能化已成为必然趋势。这种
发展趋势所带来的结果是IC芯片集成度和电路板组
装密度不断增加.功率不断增大,由此导致焊点的电
流密度增大.从而使电迁移失效成为元器件新的失效 问题,逐渐引起人们的关注- ]。
有关电迁移现象的研究最早可以追溯到1861年,
距今有100多a的历史,近10 a来国内外有大量的
学者对电迁移现象进行了研究。从早期Sn—Pb钎料
的研究到现在无铅钎料的研究,已经取得了一系列较
为丰硕的成果,但是也还有许多悬而未解的问题。尤
其是无铅钎料的电迁移现象.还存在很大的研究空
间,本文对近期有关Sn—Cu,Sn—Ag,Sn—Ag—Cu, Sn—Zn及Sn—Bi等无铅钎料电迁移现象的研究进行了
综合分析和概括评述。
1电迁移现象 电迁移现象的物理本质是在电流流经焊点的过
程中,大量的自由电子与焊点中的离子或原子发生
收稿日期:2009—12—22 基金项目:国家A然科学基金(NSFC一广东联合)重点项目 非弹性碰撞,在碰撞过程中,电子会将一部分动量
传递给原子。在大量电子的连续作用下.焊点中的
原子发生宏观迁移,原子迁移的方向通常与电子流
动的方向一致。当大量原子在电子流的作用下由阴
极涌向阳极并且在阳极积累时,会导致阳极原子产
生晶格压应力,而随着空位浓度的不断增大.阴极
原子产生晶格拉应力。阳极在不断增大的压应力作
用下,会产生凸起(hillocks)、挤出、晶须
(whiskers),甚至出现塑性变形等现象。阴极由于原
子不断减少,原子之间的间距增大,在晶格拉应力
的持续作用下就会诱发空洞(viods),形成裂纹。而 整个品格为了保持系统原有的平衡状态会随之产生
反向背应力(back stress),但反向背应力通常要小
于电迁移作用力。图1即为倒装芯片焊点产生电迁
移前后形态和结构的变化口j。
(a)加载前 (b)加载76 h后 图1
电迁移加载前后焊点的变化 2 ・专题综述・ 焊接技术 第39卷第3期2010年3月
由于发生电迁移的区域电流密度通常都比较大
(一般>10 Mcm ),单位时间内产生的热量多,若散
热不及时就会造成温度升高。温度上升往往会带来以
下四个方面的问题: (一)原子的热振动加剧,平均
能量升高,扩散系数急剧增大,加速电迁移效应; (二)局部温度过高就会有温度梯度产生,在温度梯
度的作用下引发热迁移效应,若二者正向叠加,会大
大降低焊点的平均失效时问(MTF),导致元器件使
用寿命锐减; (三)各种化学反应的激活能也会随着
温度的升高而降低,由此可能会导致焊点的氧化反应
加剧及焊点内部金属间化合物(IMC)生长速度加
快,迅速降低焊点的连接强度; (四)由于空位属于
热平衡缺陷,在一定的温度下对应一定的空位浓度。
温度升高则会使焊点内部的空位浓度增大,大量的空
位不仅为原子的扩散提供了快速通道,当它们在阴极
聚集时还会加速阴极空洞的形成。
2各种钎料电迁移现象的研究
2.1 Sn—Pb钎料 Sn—Pb钎料的应用具有悠久的历史,虽然近年来
迫于环保的压力,含铅钎料的使用逐渐减少.但是
Sn—Pb钎料电迁移现象的研究仍然对无铅钎料电迁移 的研究有很重要的指导意义。
通常认为共晶Sn—Pb钎料的电迁移是以Pb的迁
移为主导,原子可能的扩散机制有3种:晶格扩散、
晶界扩散、界面扩散,具体的扩散机制随着温度的变 化而变化-4]。Wu等人用共晶Sn—Pb钎料加载交流电
与直流电进行对比,发现加载高频电流(0.05 min)。
没有明显的电迁移现象发生。加载低频电流(84 h),
半个周期后产生明显的电迁移现象,一个周期后表面
变得粗糙,电迁移现象得到缓解,表面的粗糙程度随 着加载周期的增多而加大。Xu等人在搭建新的试验
平台的基础上,研究钎焊接头钎料厚度对电迁移行为
的影响,结果发现.不同厚度的钎料都在阳极产生竹
节状的挤出,由电迁移引起的表面起伏随着钎料厚度
的减小而变得越加严重,钎料厚度越小,引起的电迁
移效应越明显。Xu认为挤出是由于大量的扩散原子
受到Cu基板的阻挡而产生压应力导致的,自由表面
是原子主要的扩散通道,对原子扩散起决定性作用的 是温度而不是背应力,钎料和铜电极的界面是主要的
热源。以上研究表明:电流频率和焊接接头尺寸对电
迁移有很大的影响,这也为无铅钎料电迁移的研究提
供了2个重要的方向。
2.2 Sn—Cu钎料
Sn—Cu钎料共晶成分为Sn一0.7Cu,熔点227℃,
钎焊接头外观质量好,成本较低.在波峰焊中Sn—Cu
共晶被认为是替代Sn—lPb的最佳钎料。
Tu[ 等人利用X射线衍射仪研究倒装芯片焊点的
电迁移,试验过程中没有发现电阻的变化.1.25×
10 A/cm 加载100 h后没有发现明显的晶粒长大。几
乎没有塑性变形的发生.试样表面依旧比较平滑。通
过在阳极末端(晶粒I)和阴极末端(晶粒Ⅱ)选取 2个晶粒进行应力分析,发现晶粒I内部的压应力高
达540 MPa。晶粒Ⅱ内部没有拉应力存在,从而再次
论证了电迁移作用下阳极发生电流拥挤的区域是可以 产生Sn晶粒挤出的。在Tu[ 的一项新的研究中,利
用聚焦离子束对焊点进行标记.通过测量标记点的
漂移速度.在计算机模拟的基础上定量分析电流密度
的分布和电迁移速率的分布。发现在平均电流密度为
1.26x10 Mcm 的加载条件下.发生电流拥挤区域的电
流密度高达4.8x10 A/cm ,在一些低电流密度区域
(低于电迁移门槛值)甚至出现原子的反向流动。由
以上研究可知:电迁移现象通常出现在电流拥挤区
域。这是因为电流拥挤区域的原子扩散速率最高,同
时也是空洞形成和扩展的发源地。当显微空洞形成以 后.电流流经此处时必须绕过空洞才能继续向前流
动,由此导致原子的流动速度在平均电流区域降低,
在电流拥挤区域增大。
2.3 Sn—Ag钎料
Sn—Ag钎料共晶成分为Sn一3.5Ag,熔点221℃,
导电性能良好,具有良好的抗热疲劳性能,目前在再
流焊领域有较为广泛的应用。Kumar[, 等人用Cu/Ni/
Sn一3.5 Ag/Ni/Cu模型进行电迁移试验,并与相同温
度下的时效试样进行对比。结果发现,在Ni/Sn一3.5 Ag系统中只有Ni3Sn IMC的形成,160 oC时加载试样
与时效试样的Ni3Sn4厚度相同,180℃时加载试样
Ni Sn 的生长在阳极和阴极都受到抑制。He㈣等人还
研究了Cu/Sn3.5Ag/
Cu线形结构焊点在室温下的电迁 Weldinz Technolo ̄v Vo1.39 No.3 Mar.2010 ・专题综述・ 3
移行为.发现加载474 h后阴极界面处出现显微裂纹,
继续加载裂纹不断扩展,但是阴极和阳极界面处的
Cu6Sn5 IMC仍然保持原态,没有发生改变。Yang 等
人研究了前处理时效(170 c【=)对电迁移平均失效时
问(MTF)的影响,发现Sn一3.5Ag焊点的MTF随着
时效时间的延长.在25 h时达到峰值.是不经时效 处理焊点的3.5倍。Chen】o 发现使用Ni/Cu双层结
构的UBM层可以有效改善Sn一3.5Ag倒装芯片中焊点
的电流拥挤效应,降低扩散速率,提高电迁移MTF。
Kumar:…在中等电流密度(10 A/em )下,利用Ni/Sn一 3.5A Ni和Ni—P/Sn一3.5A Ni—P 2种结构进行对比,
发现加载电流会使接头脆化且脆化程度随电流密度的
增加而增加.前者IMC的生长速度出现极性效应,
而后者则不明显。Chiu"12’利用Cu/Sn3.5Ag/Au模型进 行电迁移试验,发现了促使Sn晶须生长的应力来源。
电迁移加速了Sn原子在IMC附近的聚集.使得IMC
晶粒发生旋转,IMC晶粒的旋转对周围的Sn晶粒产
生压应力.在压应力的作用下产生Sn晶须。Lu: 等
人研究了添加zn元素对Sn—Ag钎料的微观结构和电
迁移可靠性的影响,Zn能与Ag,Cu,Ni形成稳定的 化合物,减缓Cu原子的扩散,提高Ag3Sn,CuoSn
的稳定性并抑制Cu Sn的形成,从而增强界面微观结
构的稳定性,提高电迁移寿命。Lu认为电迁移诱导
失效可分为2种模型。模型I是Sn晶粒C轴方向与
电流方向不重合,主要依靠Sn原子的白扩散,速度
较慢;模型Ⅱ两者高度重合,溶质原子沿着Sn晶粒C 轴方向的品界快速扩散。以上研究表明:Sn—Ag钎料
的电迁移是以Sn原子的扩散为主导.温度对IMC的
生长起着十分重要的作用。适当调节IMC层和UBM
层的厚度和成分可有效提高焊点的电迁移寿命,焊点
的电迁移行为还与钎料的微观晶体结构有关。
2.4 Sn—Ag—Cu钎料 Sn—Ag—Cu钎料具有优良的物理性能和力学性
能.可靠性高、润湿性好,是全球公认的Sn—Pb钎
料最主要的替代品。Kinney: 等人研究了加载电流对 Sn一3Ag一0.5Cu钎料蠕变行为的影响,发现蠕变速率
随着电流密度的增大而增大.但远小于相同温度下等
温时效的试样。对比铸态、加载电流(4xlO A/
em ,200 h)、等温时效3种不同初始状态的试样在 加载前后的蠕变速率,发现在加载前3种试样的蠕变
速率依次增大,在加载条件下三者的蠕变速率都明显
增大,增大的比率都保持在7%左右。在Sn一3Ag一
0.5Cu中加入W(Ce)0.5%, (Zn)0.2%可显著改善力 学性能并能抑制晶须的生长。但Lin: 的研究发现.Ce
和Zn的加入会严重降低电迁移寿命。Guo El6 等人研究
了添加w(Sb)1%颗粒的95.5Sn一3.8Ag一0.9Cu复合钎料
的电迁移行为,发现加入的Sb全部形成Sn—Sb颗
粒,加载过程中Sn—Sb颗粒与钎料基体分离且破裂。
加载120 h后在阳极出现凸起,阴极出现裂纹,所不 同的是复合钎料中裂纹的扩展机制与原钎料有所不
同。通常认为在电迁移作用下会在阳极形成凸起.在
阴极出现空洞。Zhou:” 的试验却发现在阴极附近也出
现凸起,最大的凸起不是出现在通常认为的拐角处. 而是位于中间位置。Zhou认为IMC层不仅是扩散原
子的阻碍,其生长还会影响电流密度的分布.造成局