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羟基的保护与去保护 羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。 在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。 有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评. 羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.
1.硅醚保护和脱保护:
硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS 特点: (1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除; (2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护; (3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; (4) 空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5)对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇,一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).
硅醚的稳定性: 在酸性条件下的稳定性: TMS(1)碱性条件下的稳定性:
TMS(1)
硅醚的脱保护: 硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护,酚基硅醚在碱性条件下易去保护.
2.苄醚保护(苄基,对甲氧基苄基,三苯甲基) 苄醚保护: 烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱(NaH),酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ,DMF, 丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3CN>丙酮,反应体系可以加NaI或者KI催化.
羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评.羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.1.硅醚保护和脱保护:硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS特点: (1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除; (2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护; (3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; (4) 空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5)对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇,一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).硅醚的稳定性:在酸性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(64)<TBS(20,000)<TIPS(700,000)<TBDPS(5000,000)碱性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(10-100)<TBS~TBDPS(20,000)<TIPS(100,000)硅醚的脱保护:硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护,酚基硅醚在碱性条件下易去保护.2.苄醚保护(苄基,对甲氧基苄基,三苯甲基)苄醚保护:烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱(NaH),酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ,DMF, 丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3CN>丙酮,反应体系可以加NaI或者KI催化.苄基的脱除:一般情况用催化加氢的方法,也可以用Lewis酸脱出(TMSI), 催化加氢若分子中有非芳性的胺,会降低了催化剂的活性,阻碍了O-脱苄.在反应体系中加入Na2CO3可以防止苄基脱除,而可以使双键还原.苄醚氢解溶剂影响:THF>Hexanol>MeOH>Toluene(氢解反应速率大小顺序)PMB保护:PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出,PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ)3.烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚常用的有THP, MOM, EE, SEM等,其中THP, EE, MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序:MOM>EE>THP, THP和EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF, 45度, 7h 可以脱除THP, EE和TBS,而SEM 是稳定的).。
常见的羟基的保护与脱保护方法一、引言羟基是有机化学中常见的官能团之一，具有广泛的应用价值。
为了在有机合成中保护羟基，以防止其发生意外的反应或选择性地进行某些反应，常需要进行羟基的保护与脱保护。
本文将介绍一些常见的羟基保护与脱保护方法。
二、羟基的保护方法1. 酯保护酯保护是一种常用的羟基保护方法。
通过将羟基与酸反应，生成酯化产物，可以有效地保护羟基。
常用的酯保护试剂有酸酐（如乙酸酐、丙酮酸酐等）、酰氯（如丙酰氯、戊酰氯等）等。
酯保护反应通常在较弱碱性条件下进行，反应温和，适用于多种官能团的共存。
2. 醚保护醚保护是一种常见的羟基保护方法。
通过将羟基与醇反应，生成醚化产物，可以有效地保护羟基。
常用的醚保护试剂有甲基化试剂（如碘甲烷、甲基碘化钠等）、烷基化试剂（如三甲基硅烷、二甲基硅烷等）等。
醚保护反应通常在中性或弱酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
3. 硅保护硅保护是一种常用的羟基保护方法。
通过将羟基与硅试剂反应，生成硅醚化产物，可以有效地保护羟基。
常用的硅保护试剂有三甲基硅氯化物、三乙基硅氯化物等。
硅保护反应通常在中性或弱酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
三、羟基的脱保护方法1. 酯脱保护酯脱保护是一种常用的羟基脱保护方法。
通过对酯化产物进行水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的酯脱保护试剂有碱性条件下的氢氧化钠、氢氧化钾等。
酯脱保护反应通常在碱性条件下进行，反应温和，适用于多种官能团的共存。
2. 醚脱保护醚脱保护是一种常见的羟基脱保护方法。
通过对醚化产物进行酸性水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的醚脱保护试剂有浓硫酸、三氟化硼等。
醚脱保护反应通常在酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
3. 硅脱保护硅脱保护是一种常用的羟基脱保护方法。
通过对硅醚化产物进行酸性水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的硅脱保护试剂有氢氟酸、三氯化铁等。
羟基保护基和去保护及总结羟基保护基和去保护及总结引言：有机化学中，羟基保护基和去保护是合成有机分子中一个重要的步骤。
羟基保护基的引入可以防止羟基在反应中发生副反应，同时羟基去保护则是为了恢复羟基的活性。
本文将讨论羟基保护基和去保护的常见方法，并对其应用进行总结。
一、羟基保护基的介绍羟基保护基是通过在羟基上引入一个保护基团来改变羟基的化学性质。
羟基保护基的引入可以增强化合物的稳定性，防止在反应过程中发生副反应，同时还可以使反应的选择性更好。
常见的羟基保护基有酯基、醚基、硅烷基等。
1. 酯基保护：酯基保护是最常见的羟基保护方法之一。
酯基可以通过酸催化下醇与酸反应得到，其中酸可以是无水酸或酸酐。
酯基保护可通过酸或碱来去除。
酯基的引入可以使羟基变得不活泼，从而防止其发生副反应。
2. 醚基保护：醚基保护是羟基保护的另一种常见方法。
醚基可以通过醇和醚化剂反应得到。
醚基的去除常常使用酸或碱来完成。
醚基的引入可以使羟基的化学性质发生改变，从而防止其参与反应。
3. 硅烷基保护：硅烷基保护是一种常用的羟基保护方法。
硅烷基可以通过硅烷化剂和醇反应得到。
硅烷基保护的去除可以通过碱来完成。
硅烷基的引入可以使羟基变得不活泼，从而防止其发生副反应。
二、羟基去保护的介绍羟基保护基的去除是为了恢复羟基的活性，使其参与反应。
羟基去保护方法根据不同的保护基团有所差异，下面将分别介绍。
1. 酯基去保护：酯基的去除可以通过酸或碱来完成。
酸催化下，酯基可以被水解为醇和酸；碱催化下，酯基可被水解为盐和醇。
酯基去除的条件取决于酯基的稳定性，一般而言，酸催化条件下较温和，碱催化条件下较强碱。
2. 醚基去保护：醚基的去除通常是通过酸催化下的水解来完成。
酸催化下，醚基可以被水解为醇和醚化剂。
醚基去除的条件取决于醚基的稳定性，一般而言，强酸催化条件下较快。
3. 硅烷基去保护：硅烷基的去除一般通过强碱来完成。
碱可以使硅烷基与水反应生成硅醇。
硅烷基去除的条件一般较温和。
有机经典反应三（羟基的保护与脱保护）羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评.羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.1.硅醚保护和脱保护:硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS特点: (1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除; (2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护; (3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; (4)空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5)对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇,一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).硅醚的稳定性:在酸性条件下的稳定性:TMS(1) 碱性条件下的稳定性: TMS(1)硅醚的脱保护: 硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护,酚基硅醚在碱性条件下易去保护. 2.苄醚保护(苄基,对甲氧基苄基,三苯甲基) 苄醚保护: 烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱(NaH),酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ,DMF, 丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3CN>丙酮,反应体系可以加NaI或者KI催化. 苄基的脱除: 一般情况用催化加氢的方法,也可以用Lewis酸脱出(TMSI),催化加氢若分子中有非芳性的胺,会降低了催化剂的活性,阻碍了O-脱苄.在反应体系中加入Na2CO3可以防止苄基脱除,而可以使双键还原. 苄醚氢解溶剂影响:THF>Hexanol>MeOH>Toluene(氢解反应速率大小顺序) PMB保护: PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出,PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ) 3.烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚常用的有THP, MOM, EE, SEM等,其中THP, EE, MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序:MOM>EE>THP, THP和EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF, 457h 可以脱除THP, EE 和TBS,而SEM是稳定的). 度,感谢您的阅读，祝您生活愉快。
经典化学合成反应标准操作羟基的保护编者：张素娜药明康德新药开发有限公司化学合成部目录1.简介 (2)2.硅醚 (2)2.1三甲基硅醚(T M S-O R) (3)2.2叔丁基二甲基硅醚(T B D M S-O R) (4)2.3叔丁基二苯基硅醚(T B D P S-O R) (4)3.苄醚 (6)4.取代苄醚 (7)5.取代甲基醚 (8)6.四氢吡喃醚 (9)7.烯丙基醚 (10)1.前言羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
2.羟基硅醚保护及脱除硅醚是最常见的保护羟基的方法之一。
随着硅原子上的取代基的不同，保护和去保护的反应活性均有较大的变化。
当分子中有多官能团时，空间效应及电子效应是影响反应的主要因素。
在进行选择性去保护反应时，硅原子周围的空间效应，以及被保护分子的结构环境均需考虑。
例如，一般情况下，在TBDMS基团存在时，断裂DEIPS( 二乙基异丙基硅基) 基团是较容易的，但实际得出的一些结果是相反的。
在这些例子中，分子结构中空间阻碍是产生相反选择性的原因。
电子效应的不同也会影响反应的选择性。
对于两种空间结构相似的醇来说，电子云密度不同造成酸催化去保护速率不同，因此可以选择性去保护。
这一点对酚基和烷基硅醚特别有效：烷基硅醚在酸中容易去保护，而酚基醚在碱性条件下更容易去保护。
降低硅的碱性还可以用于改变Lewis酸催化反应的结果，并且有助于选择性去保护。
在硅原子上引入吸电子取代基可以提高碱性条下水解反应的灵敏性，而对酸的敏感性降低。
对大多数醚来说，在酸中的稳定性为TMS (1)<TES (64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000)；在碱中稳定性为TMS (1)<TES (10-100)<TBDMS~TBDPS (20,000)< TIPS (100,000)。
一般而言，对于没有什么位阻的伯醇和仲醇，尽量不要选用TMS作为保护基团，因为得到的产物一般在硅胶这样弱的酸性条件下也会被裂解掉。
任何羟基硅醚的都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除，其主要硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之间的亲和性。
在用TBAF裂解硅醚后，分解产生的四丁铵离子有时通过柱层析或HPLC很难除干净，而季铵盐的质谱丰度(Bu4N+: 242)又特别的强有时会干扰质谱，因此这时需要使用四甲基氟化铵或四乙基氟化铵来脱除。
使用硅醚保护的另一个好处是可以在分子中游离伯胺或仲胺基的存在下，对羟基进行保护，其主要由于硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上的氧原子结合，这正是与其他保护基不同之处。
顺便提一句，一般而言，决大部分的硅-氮键的结合是不稳定的，其很容易被水解掉。
2.1 三甲基硅醚的保护 (TMS-OR)许多硅基化试剂均可用于在各种醇中引入三甲基硅基。
一般来说，空间位阻较小的醇最容易硅基化，但同时在酸或碱中也非常不稳定易水解,三甲基硅基化广泛用于多官能团化合物，生成的衍生物具有较高的挥发度而利于其相色谱和质谱分析。
2.1.1 三甲基硅醚羟基保护示例 (J. Org.Chem. 1996, 61, 2065)12HOTMSOMeCompound 1 (3.00g, 4.286mmol) was dissolved in dry DMF (17 mL). To this solution at 0o C was added imidazole (874.3 mg, 12.86mmol), followed by TMSCl (1.63 mL, 12.86 mmol). After stirring at 0o C for 1.5 h, the reaction mixture was diluted with EtOAc (300 mL) and washed with water (3 20 mL) and then brine (30 mL). The organic layer was dried and concentrated in vacuo . The resulting material was then dissolved in dry DMF (20 mL) and treated at 0o C with imidazole (816 mg, 12.00 mmol), followed by chlorodimethylsilane (1.135g, 12.00mmol). The reaction mixture was stirred for 1h at 0o C and then diluted with EtOAc (200mL). The organic layer was washed with water and brine. Upon silica gel chromatography (10% ethyl acetate in hexane), 3.197 g (90%) of the desired product 2 was obtained.Cleavage (J. Org.Chem. 1996, 61, 2065)Hydrolysis was carried out under aprotic condition-anhydrous tetrabutylammonium fluoride in THF solution.2.2 t-Butyldimethylsilyl ether (TBDMS-OR)在化学合成中，采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲基硅基醚是应用较多的方法之一。
一般来说，在分子中羟基位阻不大时主要通过TBSCl 对羟基进行保护。
但当羟基位阻较大时则采用较强的硅醚化试剂TBSOTf 来实现。
生成的叔丁基二甲基醚在多种有机反应中是相当稳定的，在一定条件下去保护时一般不会影响其他官能团。
它在碱性水解时的稳定性约为三甲基硅醚的104倍。
它对碱稳定。
相对来说对酸敏感些。
TBS 醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，因此常常用于对多官能团，位阻不同的分子进行选择性保护。
在伯、仲醇中，TBS 基相对来说较易于与伯醇反应。
TBS 醚的断裂除了常用的四烷基氟化胺外，许多情况下也可用酸来断。
当分子内没有对强酸敏感的官能基存在时，可用 HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系去除TBS ，若有对强酸敏感的官能基存在时，则可选用AcOH-THF 体系去除。
2.2.1 通过TBSCl 进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例 (J. Am. Chem. Soc. 1972, 94, 6190)OCH 2OBnHOO OCH 2OBnTBDMSOO12The hydroxyl lactone 1, upon treatment with TBDMSCl (1.2 equiv) and imidazole (2.5 equiv.) in DMF (2 mL/g of 1) at 35o C for 10 h, produced the silyl ether-lactone 2 in 96% yield.2.2.2 通过TBSOTf 进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(.Chem. 1987, 52, 622)312To an ice-cold solution of 4.8 g of pyridine (2.0 equiv) and 4.20 g of 1 in 30 mL of dry acetonitrile was added slowly 9.6 g of tert-butyldimethylsilyl triflate (36.2 mmol, 1.2 equiv). The reaction mixture was stirred for 5 h at room temperature and then poured into 200 mL of saturated sodium bicarbonate solution at 0o C. The solution was extracted thoroughly with hexane, and the organic extracts were dried over anhydrous potassium carbonate and filtered. Removal of the solvent under reduced pressure followed by distillation of the residue gave6.29 g (82% yield).2.2.3 通过TBAF 脱TBDPS 示例 (Can. J. Chem. 1975, 53, 2975)OTHPOC C C 6H 5Bu 4N +F -/THF12HOTHPOC C C 6H 5Si Ph PhTo a solution of THP ether 1 (1.7 g, 3.3 mmol) in THF (10 mL) was added a 1 M solution of tetrabutylammonium fluoride in THF (5 mL, 5 mmol) at 22-24o C. The solution was stirred for 2 h and diluted with 100 mL (1:1) of Et 2O/EtOAc solution. The organic layer was separated and washed with H 2O (3 ⨯ 100 mL). The water extract was washed with 2:1 Et 2O/EtOAc solution (2 ⨯ 50 mL), and the organiclayers were combined and dried over MgSO 4. The solvent was evaporated in vacuo , and the residue was chromatographed over silica gel using (5:1) hexanes/ethyl acetate solution to give 2 (0.75 g, 82%).2.2.4 通过AcOH-THF 脱TBS 示例(Tetrahedron Lett. 1988, 29, 6331)12AcOh/H 2O/THFSelective removal of one of the TBDMS groups of 1 was accomplished by treatment with acetic acid-water-THF (13:7:3) (30°C, 15h) to give the monohydroxy compound 2 in 79% yield.2.3 t-Butyldiphenylsilyl ether (TBDPS-OR)在酸性水解条件下TBDPS 保护基比TBDMS 更加稳定（约100倍），而TBDPS 保护基对碱的稳定性比TBDMS 要差。
