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酚羟基保护基和去保护及总结酚羟基保护基和去保护是有机合成中常用的方法，它们在合成化合物过程中起到了重要的作用。
本文将对酚羟基保护基和去保护的原理、方法和应用进行详细介绍，并对其进行总结。
一、酚羟基保护基的原理和方法酚羟基保护基是指在有机合成中用于保护酚羟基的官能团。
由于酚羟基在反应中易于发生非特异性的取代、氧化、消耗等反应，因此需要引入保护基来保护酚羟基的反应活性。
常用的酚羟基保护基包括酯、醚、硅醚等。
酚羟基保护基的引入通常通过酯化、醚化、硅烷化等方法进行。
其中，酯化反应是最常用的方法之一。
酚与酸反应生成酯，从而引入酚羟基保护基。
醚化反应则是利用醇与卤代烷反应生成醚的方法来引入酚羟基保护基。
硅烷化反应则是通过醇与氯硅烷反应生成硅醚的方法来引入酚羟基保护基。
二、酚羟基去保护的原理和方法酚羟基去保护是指将有机化合物中的酚羟基保护基去除，使其恢复到酚羟基的状态。
常用的酚羟基去保护方法包括酸催化、碱催化、氢解等。
酸催化是最常用的酚羟基去保护方法之一。
通常使用酸性条件下反应，将酚羟基保护基与酸反应，从而使保护基脱除，酚羟基得以恢复。
常用的酸催化剂包括硫酸、盐酸、三氟甲磺酸等。
碱催化是另一种常用的酚羟基去保护方法。
通常使用碱性条件下反应，将酚羟基保护基与碱反应，从而使保护基脱除，酚羟基得以恢复。
常用的碱催化剂包括氢氧化钠、氢氧化钾等。
氢解是一种高选择性、高效率的酚羟基去保护方法。
通常使用氢气和催化剂作用下进行反应，将酚羟基保护基脱除，酚羟基得以恢复。
常用的氢解催化剂包括铃木催化剂、钯碳催化剂等。
三、酚羟基保护基和去保护的应用酚羟基保护基和去保护广泛应用于有机合成中。
它们在合成天然产物、药物、高分子材料等领域中发挥了重要的作用。
在有机合成中，酚羟基保护基常用于保护活性酚羟基，以防止其发生非特异性的反应。
例如，酚羟基保护基可以保护多酚化合物中的酚羟基，使其在反应中不发生杂化反应，从而保证目标产物的选择性。
酚羟基去保护则常用于合成过程中的后续反应。
常见的羟基的保护与脱保护方法保护羟基:羟基在许多有机合成反应中往往需要保护，以防止它们在反应条件下发生不需要的副反应。
常见的羟基保护基包括醚、酯、酮、酚、酰胺、醛等。
以下是一些常用的羟基保护方法：1.醚保护：醚保护可以通过将羟基与醇反应得到，生成醚。
醚保护通常使用对应于醇的活化试剂进行，例如甲基化反应中使用碘甲烷或次氯酸盐。
醚保护可以在中性或碱性条件下进行，但不适合在酸性条件下进行。
2.酯保护：酯保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
常用的酸酐有酸氯和酸酐等。
酯保护通常在碱性条件下进行，并且在加热时通常反应速率更快。
3.酮保护：酮保护是通过将羟基与酮反应得到，生成酮。
酮保护也通常在碱性条件下进行，使用碱金属如钠作为催化剂。
4.酚保护：酚保护是通过将羟基与酸酐反应得到，生成酯。
酚保护与酯保护原理相同，但需要更强的碱性条件。
5.酰胺保护：酰胺保护是通过将羟基与酰胺反应得到，生成酮。
常用的酰胺有二甲基亚砜、二甲基甲酰胺等。
6.醛保护：醛保护是通过将羟基和醛反应得到，生成醇。
这种保护方法通常使用缩醛反应进行，输入多相催化剂。
脱保护羟基：羟基的脱保护常常需要特定的条件和试剂来进行，以下是一些常用的羟基脱保护方法：1.醚脱保护：醚脱保护通常使用酸性条件进行，例如使用浓硫酸或三氟化硼进行醚的酸性水解。
2.酯脱保护：酯脱保护可以通过酸催化的水解得到，常用的酸催化试剂包括浓硫酸，氢氯酸等。
3.酮脱保护：酮脱保护通常使用还原剂进行，最常用的是氢化钠或氢化钠铝合金。
4.酚脱保护：酚脱保护可以使用酸性条件下的水解反应，例如使用浓硫酸进行酚的酸性水解。
5.酰胺脱保护：酰胺脱保护可以通过酸或碱催化进行，例如使用浓碱水解。
6.醛脱保护：醛脱保护可以通过加热和蒸馏等方法进行，例如使用强酸、碱或硼氢化钠等试剂进行醛的脱保护。
总结：羟基的保护与脱保护方法在有机合成反应中扮演重要的角色，能够有效地保护或脱除羟基。
合理选择适当的保护基和脱保护试剂可以帮助实现合成目标化合物的高产率和高选择性。
常见的羟基的保护与脱保护方法常见的羟基保护与脱保护方法概述：在有机合成中，羟基（-OH）是一种常见的官能团。
然而，由于其活泼性和反应性，羟基在某些情况下需要被保护。
保护羟基可以防止其在反应中发生不必要的副反应或失活，同时也可以控制反应的选择性。
本文将介绍几种常见的羟基保护与脱保护方法。
一、羟基保护方法：1. 酯保护：酯是常用的羟基保护基团。
通过与羟基反应，可以将醇转化为酯。
酯保护的优势在于其稳定性和易于去除。
常用的酯保护试剂有二甲基亚砜（DMS）和四氢噻吩-1-氧化物（THF）等。
2. 醚保护：醚也是一种常见的羟基保护基团。
通过与羟基反应，可以将醇转化为醚。
醚保护的优势在于其稳定性和容易操作。
常用的醚保护试剂有二甲基二甲酰胺（DMF）和三甲基硅氧烷（TMS）等。
3. 硅保护：硅是一种常用的羟基保护基团，通过与羟基反应，可以形成硅醚。
硅保护的优势在于其稳定性和容易去除。
常用的硅保护试剂有三甲基氧硅烷（TMS）和二甲基氟硅烷（DMFS）等。
二、羟基脱保护方法：1. 酸性脱保护：酸性条件下，羟基保护基团可以被去除。
常用的酸性脱保护试剂有无水氢氟酸（HF），三氟甲磺酸（TfOH）和三氯化硼（BCl3）等。
酸性脱保护条件需要控制好反应的温度、时间和酸的浓度，以避免不必要的副反应。
2. 还原性脱保护：还原剂可以将羟基保护基团还原为醇。
常用的还原剂有氢化钠（NaH）和氢化铝锂（LiAlH4）等。
还原性脱保护条件需要控制好反应的温度和还原剂的浓度，以避免不必要的副反应。
3. 碱性脱保护：碱性条件下，羟基保护基团可以被去除。
常用的碱性脱保护试剂有氢氧化钠（NaOH）和氢氧化钾（KOH）等。
碱性脱保护条件需要控制好反应的温度、时间和碱的浓度，以避免不必要的副反应。
总结：在有机合成中，羟基的保护与脱保护是常见的操作。
通过选择合适的保护基团和脱保护条件，可以实现对羟基的保护和去保护，从而实现有机合成的目标。
不同的保护基团和脱保护条件具有不同的适用范围和反应条件，需要根据具体的合成需求进行选择。
常见的羟基的保护与脱保护方法一、引言羟基是有机化学中常见的官能团之一，具有广泛的应用价值。
为了在有机合成中保护羟基，以防止其发生意外的反应或选择性地进行某些反应，常需要进行羟基的保护与脱保护。
本文将介绍一些常见的羟基保护与脱保护方法。
二、羟基的保护方法1. 酯保护酯保护是一种常用的羟基保护方法。
通过将羟基与酸反应，生成酯化产物，可以有效地保护羟基。
常用的酯保护试剂有酸酐（如乙酸酐、丙酮酸酐等）、酰氯（如丙酰氯、戊酰氯等）等。
酯保护反应通常在较弱碱性条件下进行，反应温和，适用于多种官能团的共存。
2. 醚保护醚保护是一种常见的羟基保护方法。
通过将羟基与醇反应，生成醚化产物，可以有效地保护羟基。
常用的醚保护试剂有甲基化试剂（如碘甲烷、甲基碘化钠等）、烷基化试剂（如三甲基硅烷、二甲基硅烷等）等。
醚保护反应通常在中性或弱酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
3. 硅保护硅保护是一种常用的羟基保护方法。
通过将羟基与硅试剂反应，生成硅醚化产物，可以有效地保护羟基。
常用的硅保护试剂有三甲基硅氯化物、三乙基硅氯化物等。
硅保护反应通常在中性或弱酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
三、羟基的脱保护方法1. 酯脱保护酯脱保护是一种常用的羟基脱保护方法。
通过对酯化产物进行水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的酯脱保护试剂有碱性条件下的氢氧化钠、氢氧化钾等。
酯脱保护反应通常在碱性条件下进行，反应温和，适用于多种官能团的共存。
2. 醚脱保护醚脱保护是一种常见的羟基脱保护方法。
通过对醚化产物进行酸性水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的醚脱保护试剂有浓硫酸、三氟化硼等。
醚脱保护反应通常在酸性条件下进行，反应选择性高，适用于多种官能团的共存。
3. 硅脱保护硅脱保护是一种常用的羟基脱保护方法。
通过对硅醚化产物进行酸性水解反应，可以脱去保护基，使羟基重新暴露出来。
常用的硅脱保护试剂有氢氟酸、三氯化铁等。
羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇的全合成。
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见。
一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。
羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。
有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护,这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评.羟基保护主要分为:硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类.1.硅醚保护和脱保护:硅醚保护基:TMS, TES, TBS, TIPS, TBDPS特点: (1)易保护,易去保护均可以用Bu4NF脱除; (2)在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护; (3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; (4) 空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5)对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇,一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱).硅醚的稳定性:在酸性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(64)<TBS(20,000)<TIPS(700,000)<TBDPS(5000,000)碱性条件下的稳定性:TMS(1)<TES(10-100)<TBS~TBDPS(20,000)<TIPS(100,000)硅醚的脱保护:硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护,酚基硅醚在碱性条件下易去保护.2.苄醚保护(苄基,对甲氧基苄基,三苯甲基)苄醚保护:烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱(NaH),酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ,DMF, 丙酮.反应溶剂活性一般情况DMF>CH3CN>丙酮,反应体系可以加NaI或者KI催化.苄基的脱除:一般情况用催化加氢的方法,也可以用Lewis酸脱出(TMSI), 催化加氢若分子中有非芳性的胺,会降低了催化剂的活性,阻碍了O-脱苄.在反应体系中加入Na2CO3可以防止苄基脱除,而可以使双键还原.苄醚氢解溶剂影响:THF>Hexanol>MeOH>Toluene(氢解反应速率大小顺序)PMB保护:PMB与苄基类似,均可以通过氢化的方法脱出,PMB还可以通过氧化的方法脱除(DDQ)3.烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚常用的有THP, MOM, EE, SEM等,其中THP, EE, MOM对酸不稳定,均可以用酸脱除,对酸的稳定性顺序:MOM>EE>THP, THP和EE的性质类似,用弱酸脱除,而MOM对弱酸稳定,一般用强酸来脱除,SEM一般酸性条件稳定(AcOH/H2O,THF, 45度, 7h 可以脱除THP, EE和TBS,而SEM 是稳定的).。
羟基保护基及脱除条件
羟基保护基及脱除条件
羟基保护基是有机合成中常用的一种保护基，它可以保护羟基的反应
活性，防止其在反应中发生意外的副反应。
常用的羟基保护基有甲基、乙基、苄基、丙烯基等。
在有机合成中，羟基保护基的选择要根据反
应条件和反应物的性质来确定。
脱除羟基保护基的条件也是有机合成中的重要环节。
常用的脱除条件
有酸性条件、碱性条件和还原性条件等。
其中，酸性条件是最常用的
脱除羟基保护基的方法。
酸性条件下，羟基保护基可以被酸催化下的
水解反应脱除。
常用的酸性条件有浓硫酸、浓盐酸、三氯化铁等。
碱
性条件下，羟基保护基可以被碱催化下的消除反应脱除。
常用的碱性
条件有氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠等。
还原性条件下，羟基保护基
可以被还原剂还原脱除。
常用的还原剂有氢气、氢化钠、氢化铝锂等。
在有机合成中，选择合适的羟基保护基和脱除条件是非常重要的。
不
同的羟基保护基和脱除条件会对反应产物的结构和纯度产生不同的影响。
因此，在实际操作中，需要根据反应物的性质和反应条件来选择
合适的羟基保护基和脱除条件，以保证反应的成功和产物的纯度。
总之，羟基保护基及脱除条件在有机合成中起着非常重要的作用。
正确选择和使用羟基保护基和脱除条件，可以有效地保护羟基的反应活性，避免意外的副反应，从而提高反应的成功率和产物的纯度。
羟基的保护保护醇类 ROH 的方法一般是制成醚类(ROR′) 或酯类(ROCOR′)，前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。
1. 形成甲醚类 ROCH3可以用碱脱去醇ROH质子，再与合成子＋CH3作用，如使用试剂NaH / Me2SO4。
也可先作成银盐 RO-Ag+ 并与碘甲烷反应，如使用 Ag2O / MeI；但对三级醇不宜使用这一方法。
醇类也可与重氮甲烷CH2N2，在Lewis酸（如BF3·Et2O）催化下形成甲醚.脱去甲基保护基，回复到醇类，通常使用Lewis酸，如BBr3及Me3SiI，也就是引用硬软酸碱原理（hard-soft acids and bases principle），使氧原子与硼或硅原子结合（较硬的共轭酸），而以溴离子或碘离子（较软的共轭碱）将甲基（较软的共轭酸）除去。
2. 形成叔丁基醚类 ROC（CH3）3醇与异丁烯在Lewis 酸催化下制备。
叔丁基为一巨大的取代基（bulky group），脱去时需用酸处理3. 形成苄醚 ROCH2Ph：制备时，使醇在强碱下与苄溴 (benzyl bromide)反应，通常以加氢反应或锂金属还原，使苄基脱除，并回复到醇类。
4. 形成三苯基甲醚 (ROCPh3)制备时，以三苯基氯甲烷在吡啶中与醇类作用，而以 4-二甲胺基吡啶（4-dimethyl aminopyridine, DMAP）为催化剂。
5. 形成甲氧基甲醚 ROCH2OCH3制备时，使用甲氧基氯甲烷与醇类作用，并以三级胺吸收生成的HCl。
甲氧基甲醚在碱性条件下和一般质子酸中有相当的稳定性，但此保护基团可用强酸或Lewis酸在激烈条件下脱去。
7. 形成四氢吡喃 ROTHP制备时，使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。
欲回收恢复到醇类时，则在酸性水溶液中进行水解，即可脱去保护基团。
有机合成中常引用这种保护基团，其缺点是增加一个不对称碳（缩酮上的碳原子），使得NMR谱的解析较复杂。
羟基保护基及脱除条件1. 简介在有机合成中，羟基保护基的引入和脱除是非常重要的反应步骤。
羟基保护基的引入可以保护羟基在反应中不被干扰或降低反应的副反应，而脱除条件则是将羟基保护基从分子中去除的反应条件。
本文将探讨羟基保护基的常用类型、引入方法以及脱除条件的选择和优化。
2. 羟基保护基的类型羟基保护基的选择应根据具体的反应条件和需要保护的羟基性质来确定。
常用的羟基保护基类型包括：2.1 酯保护基酯保护基是最常见的羟基保护基之一，常用的酯保护基包括甲基、乙基、苄基等。
酯保护基的引入通常通过酯化反应来实现。
2.2 醚保护基醚保护基也是常用的羟基保护基类型，常见的醚保护基包括甲基、乙基、苄基等。
醚保护基的引入可以通过醚化反应来实现。
2.3 硅保护基硅保护基是一种常用的羟基保护基，常见的硅保护基包括三甲基硅基、三乙基硅基等。
硅保护基的引入通常通过硅烷化反应来实现。
3. 羟基保护基的引入方法羟基保护基的引入方法取决于所选择的保护基类型。
以下是常见的引入方法：3.1 酯保护基的引入方法酯保护基可以通过酯化反应引入，常用的酯化试剂包括酸酐、酸氯、酸酯等。
酯化反应通常在碱性条件下进行，可以选择乙二醇、DMAP等作为碱催化剂。
3.2 醚保护基的引入方法醚保护基可以通过醚化反应引入，常用的醚化试剂包括醇和酸催化剂。
醚化反应通常在中性或酸性条件下进行，可以选择硫酸、甲酸等作为催化剂。
3.3 硅保护基的引入方法硅保护基可以通过硅烷化反应引入，常用的硅烷化试剂包括三甲基氯硅烷、三乙基氯硅烷等。
硅烷化反应通常在碱性条件下进行，可以选择碱催化剂如三乙胺等。
4. 羟基保护基的脱除条件羟基保护基的脱除条件的选择应根据所选择的保护基类型和反应条件来确定。
以下是常见的脱除条件：4.1 酯保护基的脱除条件酯保护基的脱除通常通过水解反应来实现，可以选择碱性条件下的水解反应或酸性条件下的水解反应。
碱性条件下的水解反应通常使用氢氧化钠、氢氧化钾等碱催化剂；酸性条件下的水解反应通常使用醋酸、盐酸等酸催化剂。
目录1.简介 (2)2.硅醚 (2)2.1 三甲基硅醚(TMS-OR) (3)2.2 叔丁基二甲基硅醚(TBDMS-OR) (4)3 (6)4 (7)5……8 6.91…7.1.前言羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所2.二(1)<TES(64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000)；在碱中稳定性为TMS(1)<TES (10-100)<TBDMS~TBDPS (20,000)< TIPS (100,000)。
一般而言，对于没有什么位阻的伯醇和仲醇，尽量不要选用TMS作为保护基团，因为得到的产物一般在硅胶这样弱的酸性条件下也会被裂解掉。
任何羟基硅醚的都可以通过四烷基氟化胺如TBAF脱除，其主要硅原子对氟原子的亲和性远远大于硅-氧之间的亲和性。
在用TBAF裂解硅醚后，分解产生的四丁铵离子+: 242)N(BuHPLC有时通过柱层析或很难除干净，而季铵盐的质谱丰度又特别的强有4时会干扰质谱，因此这时需要使用四甲基氟化铵或四乙基氟化铵来脱除。
．使用硅醚保护的另一个好处是可以在分子中游离伯胺或仲胺基的存在下，对羟基进行保护，其主要由于硅-氮键的结合远比硅-氧键来的弱，硅原子优先与羟基上的氧原子结合，这正是与其他保护基不同之处。
顺便提一句，一般而言，决大部分的硅-氮键的结合是不稳定的，其很容易被水解掉。
2.1 三甲基硅醚的保护(TMS-OR)许多硅基化试剂均可用于在各种醇中引入三甲基硅基。
一般来说，空间位阻较小的醇最容易硅基化，但同时在酸或碱中也非常不稳定易水解,三甲基硅基化广泛用于多官能团化合物，生成的衍生物具有较高的挥发度而利于其相色谱和质谱分o C anddried andsilica gel 2 was在化学合成中，采用硅基化进行羟基保护生成叔丁基甲基硅基醚是应用较多的方法之一。
一般来说，在分子中羟基位阻不大时主要通过TBSCl对羟基进行保护。
但当羟基位阻较大时则采用较强的硅醚化试剂TBSOTf来实现。
生成的叔丁基二甲基醚在多种有机反应中是相当稳定的，在一定条件下去保护时一般不会影响其他官能团。
它在碱性4倍。
它对碱稳定。
相对来说对酸敏感些。
TBS水解时的稳定性约为三甲基硅醚的10醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，因此常常用于对多官能团，位阻不同的分子进行醚的断裂除了常TBS基相对来说较易于与伯醇反应。
TBS选择性保护。
在伯、仲醇中，用的四烷基氟化胺外，许多情况下也可用酸来断。
当分子内没有对强酸敏感的官能基存在时，可用HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系去除TBS，若有对强酸敏感的官能基存在时，则可选用AcOH-THF体系去除。
2.2.1 通过TBSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(J. Am. Chem. Soc. 1972, 94,6190)The hydroxyl lactone 1, upon treatment with TBDMSCl (1.2 equiv) and imidazole (2.5 equiv.)o C for 10 h, produced the silyl ether-lactone 2 in 96% yield. in DMF (2 mL/g of 1)42.2.4 通过AcOH-THF脱TBS示例(Tetrahedron Lett. 1988, 29, 6331)Selective removal of one of the TBDMS groups of 1 was accomplished by treatment withacetic acid-water-THF (13:7:3) (30°C, 15h) to give the monohydroxy compound 2 in 79%yield.2.3 t-Butyldiphenylsilyl ether (TBDPS-OR)在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加稳定（约100倍），而TBDPS 保另外，由于该保护基的分子量较大，容易使底物要差。
TBDMS护基对碱的稳定性比．固化而易于分离。
TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂显出比TBDMS基团更好的稳定性。
TBDMS基团在酸性条件下不易迁移。
TBDPS醚对KCO 32/CHOH，对9M氨水、60℃、2h；对MeONa（cat.）/CHOH、25℃、24h均稳定。
该33醚对80%乙酸稳定，后者可用于脱除醚中TBDMS，三苯甲基，四氢吡喃保护基也对HBr/AcOH，12℃，2min；对25%~75%甲酸，25℃，2h~6h；以及50%三氟乙酸，25℃，15min稳定。
2.3.1 通过TBDPSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(. Chem, 1992, 57,243filtered, and concentrated. Purification by 42flash chromatography (10% ethyl acetate in hexane) afforded silyl ether (2) (6.90 g, 89%).3.羟基苄醚保护及脱除一般羟基的苄醚保护主要有苄基，对甲氧苄基及三苯甲基醚。
3.1苄基醚保护羟基(Bn-OR)一般烷基上的羟基在用苄基醚保护时需要用强碱，但酚羟基的苄基醚保护一般只要用碳酸钾在乙腈或丙酮中回流即可，回流情况下，这类烷基化在乙腈中速度比丙酮中要快四倍左右，因此一般用乙腈做溶剂居多。
若反应速度慢可用DMF做3.1.1烷基羟基的苄基醚保护示例(Bull. Chem. Soc. Jpn. 1987, 60, 1529) Compound 1 (12.1 g) in DMF (200 mL) was treated with 60% NaH (1.32 g), benzyl bromide(6.44 g) and tetrabutylammonium iodide (0.11 g). The reaction mixture was stirred at roomtemperature for 1.5 h. The product was purified by chromatography on silica gel with toluene-ethanol (20:1) to give 2 (14.0 g, 99%).3.1.2 酚羟基的苄基醚保护示例To a solution of 1 (37.65 g, 277 mmol) in EtOH (135 mL) was added benzyl chloride (36.5 g,289 mmol), KI (1.75 g, 10 mmol) and KCOThestirring. with mmol) 178 g, (24.6 32．resulting mixture was refluxed for 5 h. The mixture was allowed to cool to room temperature and the solvent was removed in vacuo. The residue was added water (100 mL)and extracted with EtO (80 mL 3). The extract was washed with saturated NaHCO, 32water and brine successively. The organic layer was dried over NaSO andconcentrated in 42vacuo to give the crude product, which was distilled to afford 2(49.1 g, 79%).3.1.3苄基醚氢解脱保护示例(J. Am. Chem. Soc. 1971, 93, 1746) Compound 3 (105 mg) was hydrogenated in ethanol (10 mL) containing 1M hydrochloricacid (0.5 mL) in the presence of 10% palladium on charcoal (50 mg) in an initial3.2对甲氧基苄基醚保护羟基(PMB-OR)各种甲氧基苄醚已经合成得到并被用作保护基。
实际上甲氧基取代的苄基醚较未取代的苄基醚更容易通过氧化去保护。
下表给出了用二氯二氰苯醌去保护时的相对速率。
o C3.2.2 在苄氧基存在下选择性脱去对甲氧基苄基示例(Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2459)To a stirred solution of 2 (92 mg, 0.286 mmol) in CHCl (2.9 mL) and water (0.17 mL) was 22added DDQ (97 mg, 0.427 mmol) at room temp. After 2.5 h precipitated DDQH was removedby decantation and washed with a small amount of CHCl. The combined CHCl solution 2222was washed with sat. NaHCO aq. And sat. NaCl aq. And dried over NaSO.Evaporated of 432the solvent in vacuo gave an oil, which was chromatographed on a silica gel column withEtOAc-n-hexane (1:1) as eluant gave a colorless solid of 1 43.8 mg, 84%.烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚4.烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚在羟基保护中也是较为多用的一类，常用的有THP (2-四氢吡喃)，MOM（甲氧基甲机基），EE（2-乙氧基乙基），这类保护基都对酸不稳定，因此一般都是脱保护。
