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羟基与羰基的保护

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羟基的保护与去保护

羟基的保护与去保护
酰化选择性：1. 伯醇 > 仲醇；2. Pv > Bz > Ac
实施：
1. 保护：酰氯 or 酸酐/吡啶回流，有时也用到酰化催化剂DMAP、4-PPY 2. 去保护：碱性水解
方法2.1：硅醚保护
手段：TMS、TES、TIPS、TBDMS、TBDPS …
特性与优势：
1. 在游离伯胺或仲胺基的存在下，能够对羟基进行选择性保护
Deprotection: Hydrolysis was carried out under aprotic condition-anhydrous tetrabutylammonium fluoride
in THF solution.
方法2.1.2：TBDMS保护
1. TBS醚的生成和断裂的难易取决于空间因素，常用于对多官能团、位 阻不同的分子进行选择性保护。 (在伯、仲醇中，TBS 基相对来说较易 于与伯醇反应)
？
羟基的常见保护策略
转化为酯：糖、核苷、多酚
转化为醚
硅醚
三甲基硅醚 (TMS-OR) 叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR) …
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
烷基醚
苄醚 甲基醚 烯丙基醚、叔丁基醚 …
方法1：酰化为酯
手段：乙酰化(Ac)、苯甲酰化(Bz)、特戊酰化(Pv)…
方法2.2.1：THP
1. THP醚引入形成了一个非对映体，使NMR谱的表达有点困难。 2. 成本低，易于分离，对大多数非质子酸试剂有一定的稳定性，易于除去。 3. 引入THP常用三氟化硼醚化物（BF3.Et2O），对甲苯磺酸（TsOH），吡
啶对甲苯磺酸盐（PPTs）作催化剂。 4. 几乎任何酸性试剂或任何可以在原位产生酸的试剂都可被用来引入THP

有机经典反应三(羟基的保护与脱保护)

有机经典反应三(羟基的保护与脱保护)

羟基的保护与去保护羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷,碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。

另外，羟基也是有机合成中一个很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、酸基等多种官能团。

在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基保护起来。

在含有多官能团复杂分子的合成中,如何选择性保护羟基和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在,如紫杉醇的全合成。

羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常见.一般用于羟基的保护醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基甲基醚等等。

羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖化学中较为多见。

有机合成以及全合成最常用策略就是官能团的保护去保护，这里我肤浅总结一下羟基的保护与去保护,希望大家补充与批评.羟基保护主要分为：硅醚保护,苄醚保护和烷氧基甲基醚或烷氧基甲基取代醚这三类。

1.硅醚保护和脱保护:硅醚保护基:TMS, TES，TBS, TIPS, TBDPS特点: (1）易保护，易去保护均可以用Bu4NF脱除; （2）在游离的伯胺肿胺存在下可以选择性对羟基进行保护; （3)硅醚对酸碱都敏感,不同的硅醚对酸碱有相对的稳定性; （4) 空间效应和电子效应是羟基保护与脱保护的主要影响因素; (5）对于没有什么空间位组的伯醇和仲醇，一般不用TMS保护,因为TMS在弱酸条件下极易脱除(硅胶柱)。

硅醚的稳定性：在酸性条件下的稳定性:TMS（1）〈tes(64）<tbs(20,000)〈tips(700，000）〈tbdps（5000，000)碱性条件下的稳定性:TMS（1)<tes(10—100）〈tbs~tbdps(20，000)〈tips(100，000）硅醚的脱保护:硅醚对酸碱不稳定可以选择性的酸碱脱保护,或者可以用Bu4NF脱除;由于电子效应影响,烷基硅醚在酸性条件下易去保护，酚基硅醚在碱性条件下易去保护.2.苄醚保护(苄基，对甲氧基苄基，三苯甲基)苄醚保护：烷基的羟基苄基保护一般需要用强碱（NaH）,酚羟基的苄基保护一般用K2CO3/CH3CN ，DMF，丙酮。

羟基保护

羟基保护
O (1) CrO3 , AcOH MeO (2) Me3SiI HO
2. 形成苄醚 ROCH2Ph
制备时，使醇在强碱下与苄溴反应。苄基醚在碱性条件 下通常是稳定的，即使对氧化剂（如过碘酸，四乙酸铅）， LiAlH4，弱酸也是稳定的。苄醚的去保护采用氢解法，包括 钯-碳催化氢化法和锂金属还原法。氢解去苄基时，其他的 醚键可以保留。
O O OH HO Cl 3CCH 2OOCCl (Py/CHCl3) HO OCOOCH2CCl3
RCOCl/Py Zn/AcOH,20℃
RCOO RCOO OH
三
1,2-和1,3-二醇的保护
在多羟基化合物中，同时保护两个羟基往往很方便。 保护基即可以是缩醛，缩酮，也可以是碳酸酯。
1. 缩醛或缩酮
乙酰化反应通常使用乙酸酐在吡啶溶液中进行，也可 用乙酸酐在无水乙酸钠中进行。脱去乙酸酯保护基采 用氨解反应或甲醇分解反应。
ROH (CH3CO)2O , 吡啶 K2CO3溶液 , MeOH O ROCCH3
对于多羟基化合物的选择性酰化只有在一个或几个 羟基比其他羟基的空间位阻小时才有可能。用乙酰酐/ 吡啶与室温下反应，可选择性地酰化多羟基化合物中的 伯羟基、仲羟基，而不能酰化叔羟基。
PhCH2OCH2 O OCH3
COCl2
Pyridine
PhCH 2OCH2 O OCH3
(1) HBr (2) (PhCH2O)2PO 2N(C2H 5)4
OH OH
O O
O
PhCH2OCH2
HOCH2 O
H2, Pd
O OP(O(O)CH2Ph)2 O O O
HOCH2 O
LiOH H2O
OP(O(O)CH2Ph)2 O O O

羟基和羰基的保护

羟基和羰基的保护

OPMB OH
MOMCl,DIEA, CH2Cl2
TBDPSO
OPMB
OMOM CO2CH3
HCl(gas)/iPrOH,55oC
O
TIPSO
OPMB OMOM OPMB OH
CO2CH3 O
21
3.3 EE（CH3CH2OCH3CH-OR）保护羟基
EE旳性质和THP很相同。
O O
HO
HO OTBDMS
Solvent
THF Hexanol Methanol Toluene Hexane
Reaction rate(mm H2 / min /0.1g cat) 40 25 5 2 6
16
对甲氧基苄基醚
特点：羟基上对甲氧基苄基保护旳措施和苄基类似。 一般而言，对甲氧基苄醚在合成中更为常用。
Bn O
O HH
E:TBS醚旳断裂除了常用旳四烷基氟化胺外，许多情况下 也可用酸来断。当分子内没有对强酸敏感旳官能基存在时， 可用 HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系清除TBS，若有对强 酸敏感旳官能基存在时，则可选用AcOH-THF体系清除。
TBSO
O O
AcOH/H2O/THF
HO
O O
TBSO
NHBoc
烷基硅醚在酸中轻易去保护，而酚基醚在碱性条件下更轻易 去保护。降低硅旳碱性还能够用于变化Lewis酸催化反应旳成 果，而且有利于选择性去保护。在硅原子上引入吸电子取代基 能够提升碱性条下水解反应旳敏捷性，而对酸旳敏感性降低。
6
三甲基硅醚(TMSOR)
许多硅基化试剂(如TMSCl，TMSOTf)均可用于在多种
NC
Cl
DDQ
NC

两个羟基 保护羟基的常用试剂

两个羟基 保护羟基的常用试剂

两个羟基保护羟基的常用试剂
常用的保护羟基试剂有：
1.邻甲氧基苯甲醇（PhenoxyMeOH）：是一种常用的保护羟基的试剂，可以用于表面活性剂，以及环境保护中的化合物的保护。

它能够与缩水基反应生成可溶解的醛类，从而保护羟基免受氧化和缩水反应的影响。

2.乙氧羰基甲苯（acetoxymethyl-toluene）：它的类似物质乙酰羰基甲苯（acetyl-methyl-toluene）也可用于保护羟基，它能够有效地保护羟基免受氧化和失水反应的影响。

3.羰基氧基苯甲醇（CarboxyMeOH）：是一种焦磷酸盐，它可以与水溶性的羰基缩水基进行反应，从而保护羟基免受氧化和失水反应的影响。

4.乙醇酸烯醇（ethanol acetaldehyde）：是一种由乙酸乙醇酯与乙醇经过反应合成的烯醇，它可以与多种缩水基反应生成可溶解的醇类，从而保护羟基免受氧化和失水反应的影响。

- 1 -。

各种官能团保护基全

各种官能团保护基全
保护基
4
常用的保护基团
➢ 硅烷类
• TMS、TES、TBDMS、TBDPS，DIPS、DPS、TIPDS • 保护羟基、羧基、氨基（不常用） • F-脱保护
➢ 缩醛类
• 保护羟基、羰基
➢ 酯类
• 保护羟基、羧基的常用方法
➢ 酰胺类
• 保护氨基
5
常用的脱保护基方法
➢ 酸脱除保护
质子酸、Lewis酸
11
三乙基硅氧醚（TES-OR）
形成保护
• TES-Cl、TES-OTf
12
脱除保护
• 对Swern、Dess-Martin、DDQ氧化，格氏试剂稳定 • 2%HF-MeCN、H2O-HOAc-THF (3:5:11)、10%Pd-C
13
叔丁基二甲基硅氧醚（TBDMS-OR）
14
15
叔丁基二苯基硅氧醚（TBDPS-OR）
2. 硅烷醚保护法
• 保护和去保护的方法与醇相似。 • 酸性条件下，烷氧基硅烷醚先被水解。 • 碱性条件下，酚羟基硅烷醚先被水解。
44
45
3. 酚酯的保护法
46
碳酸酯
47
磺酸酯
48
4. 邻二酚的保护
• 二醚、二酯、环缩醛、环酯
49
50
三、二醇的保护
• 1,2-二醇、1,3-二醇、邻苯二酚 • 糖类、核苷、核酸、生物碱 • 缩醛保护法（最早为丙酮保护糖） • 二齿硅烷类保护基
100
3.磺酰胺类保护法
• N保护基中最稳定的 • 脱除保护的难易程度与胺的结构有关 • 弱碱性胺（如吲哚、吡咯、咪唑）的磺酰胺可通过简单的碱
性水解脱除 • 伯胺或仲胺的磺酰胺则需要强烈的还原条件 • 对强酸条件稳定

高中化学有机合成中的官能团保护

高中化学有机合成中的官能团保护在有机合成中，某些不希望起反应的官能团，在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应，这样就不能达到预计的合成目标，因此，必须采取措施保护某些官能团，待完成反应后再除去保护基，使其复原。

1、保护措施必须符合如下要求①只对要保护的基团发生反应，而对其它基团不反应；②反应较易进行，精制容易；③保护基易脱除，在除去保护基时，不影响其它基团。

2、常见的基团保护措施①羟基的保护在进行氧化或某些在碱性条件下进行的反应,往往要对羟基进行保护。

a.防止羟基受碱的影响，可用成醚反应。

b.防止羟基氧化可用酯化反应。

②对羧基的保护羧基在高温或碱性条件下，有时也需要保护。

对羧基的保护最常用的是酯化反应。

③对不饱和碳碳键的保护碳碳双键易被氧化，对它们的保护主要用加成反应使之达到饱和。

；④对羰基的保护（以信息题出现）羰基，特别是醛基，在进行氧化反应或遇碱时，往往要进行保护。

对羰基的保护一般采用生成缩醛或缩酮的反应。

（缩醛或缩酮）（缩酮）生成的缩醛或缩酮水解又变成原来的醛或酮。

3、题例解析例1、已知下列信息：①烯键在一定条件下氧化可生成二元醇：②醛能发生如下反应生成缩醛：缩醛比较稳定，与稀碱和氧化剂均难起反应，但在稀酸中温热，会水解为原来的醛。

现有如下合成路线：试回答下列问题：(1)写出A、B的结构简式：________、________。

(2)写出反应Ⅲ的化学方程式：________。

解析：由题给信息知，欲使CH2=CH—CHO变为CH2OH—CHOH—CHO，需将C=C双键氧化，而—CHO对氧化剂敏感，故应先进行保护，待C=C双键氧化完毕，再将醛基还原出来，故合成路线为：答案：(1)A：CH2=CH=CH(OC2H5)2 B：CH2OH—CHOH—CH(OC2H5)(2)CH2OH—CHOH—CH(OC2H5) CH2OH—CHOH—CHO＋2C2H5OH例2、已知胺(R—NH2)具有下列性质：(Ⅰ)R—NH2＋(CH3CO)2O R—NHCOCH3＋CH3COOH(Ⅱ)R—NHCOCH3＋H2O R—NH2＋CH3COOH硝基苯胺是重要的化工原料，其合成路线如下：(1)a、c、e分别为________。

有机合成中的常用保护基


三甲基硅氧醚（TMS-OR）
形成保护
TMS-Cl、TMS-OTf、HMDS[(Me3Si)2NH]
胺催化：吡啶、三乙胺、二异丙基乙基胺、咪唑、DBU
常用溶剂：THF、DCM、MeCN、DMF、Py 遇水不稳定，暂时性保护基
脱除保护
水、饱和NaHCO3溶液、 K2CO3的甲醇溶液 HOAc、酸性树脂 FeCl3 、BF3.Et 2O
取代甲基酯 乙酯、乙基酯 烯丙基酯 硅烷酯类 酰胺 。。。
87
六、氨基的保护
含孤对电子
易取代反应和氧化反应 氨基甲酸酯（肽、蛋白质的合成）
酰胺（生物碱、核苷酸的合成）
磺酰胺 N-烷基 亚胺
88
1.酰胺类保护法
常用酰化试剂：酰氯、酸酐 稳定性好，较强的酸、碱溶液和加热水解 稳定性顺序：PhCONHR>CH3CONHR>HCONHR; CH3CONHR>ClCH2CONHR>Cl2CHCONHR>Cl3CCONHR>F3CCONHR
有机合成中的常用保护基
硅烷类
常用的保护基团
TMS、TES、TBDMS、TBDPS，DIPS、DPS、TIPDS 保护羟基、羧基、氨基（不常用）
F-脱保护
缩醛类
保护羟基、羰基
酯类
保护羟基、羧基的常用方法
酰胺类
保护氨基
酸脱除保护
质子酸、Lewis酸
常用的脱保护基方法
碱脱除保护
酯类水解
氢化脱除保护
有取代基的环状缩醛水解速率小于没有取代基的相应的环状缩醛。
非环状缩醛比环状缩醛容易水解
66
0.003M HCl的二氧六环-水溶液中(7:3)，30oC下的相对水解速率：

羟基的保护与去保护

NHBoc
9
叔丁基二苯基硅醚 ---(TBDPS-OR )
在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加
稳定（约100倍），而TBDPS保护基对碱的稳定性比
TBDMS要差。另外，TBDPS保护基对许多与TBDMS保 护基不相容的试剂显出比TBDMS基团更好的稳定性。 TBDMS基团在酸性条件下不易迁移。
R C C OH 3
C C C6H5 OTHP
R C C OH
C C C6H5 OH
4 .Chem.1977,42,3772
OPMB TBDPSO OH 5 OPMB OMOM CO 2CH 3 O 7
MOMCl,DIEA, CH 2Cl 2
OPMB TBDPSO OMOM 6 OPMB
HCl(gas)/iPrOH,55 oC
OMe Bn O H O 2 H MPM
Bn
DDQ O H O H 2 MPM CH2Cl2-H2O
Bn
O
H
O 1
H
OH
Tetrahedron Lett. 1988, 29, 2459
15
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚在羟基保护中也 是较为多用的一类，常用的有THP (2-四氢吡喃)，MOM （甲氧基甲基），EE（2-乙氧基乙基），这类保护基都 对酸不稳定，因此一般都是在酸性条件下脱保护。它们 对酸的稳定性是MOM>EE>THP
Si OR' Si OR' Si OR' Si OR' Ph Si OR' Ph TBDPS-OR'
TMS-OR'
TES-OR'
TBDMS-OR' TBS-OR'

有机合成策略中的保护基的选择与应用

有机合成策略中的保护基的选择与应用在有机合成过程中，保护基（protecting group）起着至关重要的作用。

保护基是一种临时性的化学修饰，它主要用于保护分子中的特定官能团，并且在需要时进行选择性地去除。

保护基的选择和应用对于有机合成的高效进行至关重要。

本文将探讨有机合成策略中的保护基的选择与应用。

一、保护基的选择原则在有机合成中，选择适当的保护基对于反应的顺利进行至关重要。

保护基的选择原则如下：1. 保护羟基在有机合成中，羟基是最常见的官能团之一。

羟基保护通常采用醚或酯的形式，常见的保护基有甲基、苄基、丙烯基等。

选择适当的保护基应考虑到反应条件对保护基的稳定性，以及保护基的去除条件和效率。

2. 保护胺基保护胺基的常用方法包括丙酮酮肟、酰肼、伯胺、二烯胺等。

保护胺基的选择应考虑到反应条件对保护基的稳定性、去除条件和效率，以及对其他官能团的兼容性。

3. 保护羰基羰基是有机合成中常见的官能团之一，保护羰基的方法有很多，例如醛肟、醇肟、脲、噻唑酮等。

保护羰基的选择应考虑到反应条件、保护基的稳定性、去除条件和效率。

二、保护基的应用1. 羟基保护基的应用羟基保护基在有机合成中广泛应用，例如在糖化学、肽化学、天然产物合成中。

其中，糖苷化反应中，羟基保护基的选择和去除条件对于合成目标的选择性和产率至关重要。

2. 胺基保护基的应用胺基保护基的选择和应用对于肽段的合成、氨基酸的保护及其它生物活性分子的合成都具有重要意义。

在肽段合成中，保护阴离子胺基的选择和去除条件是合成步骤中至关重要的一环。

3. 羰基保护基的应用在羰基化合物的合成中，羰基保护基的选择和应用对于反应的选择性和产率起着至关重要的作用。

保护羰基通常应具备高的稳定性和可逆性，以确保反应的顺利进行。

总结：有机合成策略中保护基的选择与应用对于有机合成的成功至关重要。

正确选择保护基可以提高反应的选择性和产率。

保护基的选择应考虑到反应条件、保护基的稳定性、去除条件和效率等因素。

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TBDPSO TIPSO
OPMB OH
MOMCl,DIEA, CH2Cl2
TBDPSO
OPMB
OMOM
HCl(gas)/iPrOH,55oC
CO2CH3
O
TIPSO
OPMB OMOM OPMB OH
CO2CH3 O
2020/3/24
21
3.3 EE（CH3CH2OCH3CH-OR）保护羟基
EE的性质和THP很相似。
硅醚保护基
三甲基硅醚 (TMS-OR)
叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR )
苄醚保护基 烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
其他保护基 2020/3/24
3
硅醚保护的优点
硅醚是最常见的保护羟基的方法之一。主要优点有：
易保护，也容易去保护
非芳性的胺可以使催化剂活性降低，阻碍O-脱苄； 在氢化体系中加入Na2CO3可以防止苄基被裂解，但可使 双键发生还原。
2020/3/24
14
A cH N
O B n
N H A c M eO O
H
10% Pd/C /H 2
A cH N
O H
N H A c M eO O
H
J. A m . C hem . Soc. 1971, 93, 1746
C6H5
J .O r g . C h e m , 1 9 9 2 , 5 7 , 1 7 2 2
Bu4N+F-/THF
O Si
O THP
HO THPO
C6H5
Ph Ph
Can. J. Chem . 1975, 53, 2975
2020/3/24
10
三异丙基硅醚保护 ---(TIPS-OR)
酸性水解时，有较大体积的TIPS醚比叔丁基二甲基硅醚 要更稳定些。但稳定性比叔丁基二苯基硅基差。TIPS基碱 性水解时比TBDMS基或TBDPS基稳定。相对于仲羟基， TIPS基对伯羟基有更好的选择性。
2020/3/24
12
OTr
HO
O
AcHN OM e
BnBr, NaH
DM F
OTr
BnO
O
AcHN OM e
Bull. Chem. Soc. Jpn. 1987, 60, 1529
O
O H B n C l
K 2C O 3/E tO H
O
O
2020/3/24
13
苄基的脱保护:
B:苄基醚的裂解主要是通过催化加氢的方法，Pd是理想 的催化剂，用Pt时会产生芳环上的氢化作用。
一般情况下，在TBDMS基团存在时，断裂DEIPS( 二乙基异 丙基硅基) 基团是较容易的。但实际得出的一些结果是相反的。 在这些例子中，分子结构中空间阻碍是产生相反选择性的原因。
烷基硅醚在酸中容易去保护，而酚基醚在碱性条件下更容易
去保护。降低硅的碱性还可以用于改变Lewis酸催化反应的结
果，并且有助于选择性去保护。在硅原子上引入吸电子取代基
Si O R '
Si O R '
Si O R '
Ph Si O R ' Ph
T M S-O R ' T E S-O R ' T B D M S-O R ' T IPS-O R ' T B D PS-O R '
一般而言，对于没有什么位阻的伯醇和仲醇，尽量不 要选用TMS作为保护基团，因为得到的产物一般在硅胶 这样弱的酸性条件下也会被裂解掉。
SEM-作为羟基的保护基，其主要特点为：脱保护 可以通过四烷基氟化胺来脱去。SEM醚对分解四氢吡 喃基(THP)和叔丁基二甲基硅醚(TBS)的酸性条件 (AcOH-H2O, THF, 45oC, 7小时)是稳定的。
R OH
+
TM SOCH2CH2OCH2Cl
DIEA,CH2Cl2
TM S RO O
RO O
2020/3/24
8
C:它对碱稳定, 在碱性水解时的稳定性约为三甲基硅醚的 104倍。相对来说对酸敏感些。TBS醚的生成和断裂的难 易取决于空间因素，因此常常用于对多官能团，位阻不 同的分子进行选择性保护。
E:TBS醚的断裂除了常用的四烷基氟化胺外，许多情况下 也可用酸来断。当分子内没有对强酸敏感的官能基存在时， 可用 HCl-MeOH, HCl-Dioxane 体系去除TBS，若有对强 酸敏感的官能基存在时，则可选用AcOH-THF体系去除。
TBDPSO HO
C6H5
DHP/PPTS
TBDPSO THPO
C6H5
RCC
PPTS/EtOH/50oC
C6H5
R
2020/3/24
OH OTHP
C C C6H5
OH OH
20
3.2 MOM保护羟基
MOM是一般是通过MOMCl-DIEA 引入；其对 酸还是较为稳定的，一般它的脱除需要在强酸条件下 进行。
（约100倍），而TBDPS保护基对碱的稳定性比TBDMS要
差。
B:由于该保护基的分子量较大，容易使底物固化而易于
分离。TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂
显出比TBDMS基团更好的稳定性。
H O
O H i-P r2 N E t/t-B D P S iC l/C H 2 C l2
T B D P S O O H
但它在中等强度的酸性条件（1N HCl，回流，10小时）下
的挥发度而利于气相色谱和质谱分析。
AcO O OTES
AcO O OTES
HO
TMSCl, imdazole
HO HOBzO OAc
1
TMSO HO
Me2HSiOBzO OAc 2
J. Org.Chem. 1996, 61, 2065
C H 2O B n T M S C l, im d azo le
在含有多官能团复杂分子的合成中，如何选择性保护羟基 和脱保护往往是许多新化合物开发时的关键所在，如紫杉醇 的全合成。
2020/3/24
2
应用最广泛的几种保护基
羟基保护主要将其转变为相应的醚或酯，以醚更为常 见。一般用于羟基保护的醚主要有硅醚、甲基醚、烯丙基 醚、苄基醚、烷氧甲基醚、烷巯基甲基醚、三甲基硅乙基 甲基醚等等。羟基的酯保护一般用的不多，但在糖及核糖 化学中较为多见。
TM S Bu4N+F-
ROH+ CH2O+H2CCH2 + M e3SiF
TL, 1980,3343
2020/3/24
23
其他羟基保护基
4.1 烯丙基保护羟基
有关碳水化合物的文献中，烯丙醚用来保护醇是很常见 的，原因在于烯丙醚通常可用各种方法形成糖苷。显然，烯 丙醚不能与强的的亲电试剂共存，如溴、催化氢化的试剂。
2020/3/24
4
硅醚保护的稳定性
硅醚对酸和碱都敏感； 但是不同的硅醚对酸，碱有相 对的稳定性。空间效应及电子效应是主要的影响因素 。
在酸中的稳定性为：
TMS (1)<TES (64)<TBDMS (20,000)<TIPS (700,000)<TBDPS (5,000,000)
Si O R '
羟基的保护与去保护
2020/3/24
1
羟基的保护
羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中 ，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、 聚醚、某些氨基酸的侧链。另外，羟基也是有机合成中一个 很重要的官能基，其可转变为卤素、氨基、羰基、羧基等多 种官能团。
在化合物的氧化、酰基化、用卤代磷或卤化氢的卤化、脱 水的反应或许多官能团的转化过程中，我们常常需要将羟基 保护起来。
O
TB S O
O
A cO H /H 2O /TH F H O
O O
2020/3/24
TB S O N H B oc
TB S O N H B oc
TetrahedronLett.1988,29,6331
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叔丁基二苯基硅醚 ---(TBDPS-OR)
A:在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加稳定
X M e O
X P hP h X
P h
2.1 苄基醚保护羟基
A:一般烷基上的羟基在用苄基醚保护时需要用强碱，但酚 羟基的苄基醚保护一般只要用碳酸钾在乙腈或丙酮中回流 即可。回流情况下，这类烷基化在乙腈中速度比丙酮中要 快四倍左右，因此一般用乙腈做溶剂居多。若反应速度慢 可用DMF做溶剂，提高反应温度，或加NaI,KI催化反应。
H O
O PM B
M O M O
N(O CH 3)CH 3
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O PM B
TIPSO Tf/CH 2Cl2
TIPSO
M O M O
2,6-lutidine
N(O CH 3)CH 3
J. Org. Chem . 1995, 60, 7796
11
苄醚类保护及脱除
苄醚类主要有苄基，对甲氧苄基及三苯甲基醚
可以提高碱性条下水解反应的灵敏性，而对酸的敏感性降低。
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三甲基硅醚(TMSOR)
许多硅基化试剂(如TMSCl，TMSOTf)均可用于在各种
醇中引入三甲基硅基。一般来说，空间位阻较小的醇最容
易硅基化，但同时在酸或碱中也非常不稳定易水解,三甲基
硅基化广泛用于多官能团化合物，生成的衍生物具有较高
Байду номын сангаас
C H 2O B n
O O
O H
D M F
O O
O T B D M S