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EN 1096-2:2001建筑用玻璃------ 镀膜玻璃------第2部分A\B\S 类镀膜玻璃的技术要求及实验方法3术语和定义本欧洲标准中采用以下术语和定义3.1 退火镀膜玻璃; 对退火的玻璃基片进行镀膜的玻璃.3.2 热钢化镀膜玻璃: 必须经过热钢化,以便满足特殊光谱特性要求的镀膜玻璃.(先镀膜后钢化)3.3 镀膜热钢化玻璃: 在已经热钢化了的玻璃基片上进行镀膜的镀膜玻璃. (先钢化后镀膜)4 要求符合本标准的镀膜玻璃应该满足表1 所列的各项性能指标5 样品5.1 样品的准备5.1.1 镀膜退火玻璃每次测试需要300mm⨯300mm的玻璃一片.对于3次化学稳定性实验,实验片按图1所示切裁.耐磨试验的样品为300mm⨯300mm的玻璃片．建议多准备一片样品，以便发现缺陷时替代．图１中的单位：mm注：１为测试片；２为外观检验时的参照片；３为光谱性能测试时的参考片．图１样品切裁平面图５.１.２热钢化镀膜玻璃由于玻璃片不能直接从参考试片切裁，应采用附录Ａ规定的特殊方法．5.1.3 镀膜热钢化玻璃利用镀膜的退火玻璃样品进行测试.5.2存放测试样品应存放于温度(23±5)o C,相对湿度小于80%的房间内.防止粉尘、化学物质、表面结露与样品表面发生化学反应。
存放期超过3个月的样品，不应该再用于测试。
5.3 贴标应该在测试样品的未镀膜一侧贴上具有下列信息的标签：生产厂家、样品编号（1~4）、测试方法。
两面镀膜的玻璃在贴标签时应注意不要损坏膜层。
对两个参考测试样品，应注明“参考”字样。
6 出厂检验6.1 样品的准备所有待检样品都应用去离子水和软布擦拭并以软布擦干。
必要时可重复擦拭。
6.2外观检验在EN 1096-1规定的人造环境下对试样进行外观检验，检验应该既从透射光方向又从反射光方向进行。
检验时观察者距离试样的距离为600mm，所有被检试样都应该无缺陷，无划伤或针孔，若发现缺陷，则应予以更换。
实验十二真空镀膜引言在真空中使固体表面（基片）上沉积一层金属、半导体或介质薄膜的工艺通常称为真空镀膜。
早在19世纪，英国的Grove和德国的Plücker接踵在气体放电实验的辉光放电壁上观察到了溅射的金属薄膜，这就是真空镀膜的萌芽。
后于1877年将金属溅射用于镜子的生产；1930年左右将它用于Edison唱机录音蜡主盘上的导电金属。
以后的30年，高真空蒸发镀膜又取得了飞速发展，这时已能在实验室中制造单层反射膜、单层减反膜和单层分光膜，而且在1939年由德国的Schott等人镀制出金属的FabryPerot干与滤波片，1952年又做出了顶峰值、窄宽度的全介质干与滤波片。
真空镀膜技术历经一个多世纪的发展，目前已普遍用于电子、光学、磁学、半导体、无线电及材料科学等领域，成为一种不可缺少的新技术、新手腕、新方式。
实验目的1.了解真空镀膜机的结构和利用方式。
2.掌握真空镀膜的工艺原理及在基片上蒸镀光学金属、介质薄膜的工艺进程。
3.了解金属、介质薄膜的光学特性及用光度法测量膜层折射率和膜厚的原理。
实验原理从镀膜系统的结构和工作机理上来讲，真空镀膜技术大体上可分为“真空热蒸镀”、“真空离子镀”及“真空阴极溅射”三类。
真空热蒸镀是一种发展较早、应用普遍的镀膜方式。
加热方式主要有电阻加热、电子束加热、高频感应加热和激光加热等。
1.真空热蒸镀的沉积条件（1）真空度由气体分子运动论知，处在无规则热运动中的气体分子要彼此发生碰撞，任意两次持续碰撞间一个分子自由运动的平均路程称为平均自由程，用λ表示，它的大小反映了分子间碰撞的频繁程度。
P d kT22πλ=（8.2-1）式中：ｄ为分子直径，Ｔ为环境温度（单位为Ｋ），Ｐ为气体压强。
在常温下，平均自由程可近似表示为：)(1055m P -⨯≈λ （8.2-2）式中：P 为气体平均压强（单位为Ｔｏｒｒ）。
表8.2-1列出了各类真空度（气体平均压强）下的平均自由程λ及其它几个典型参量。
