下载文档原格式
沉积气压对相变域硅薄膜性能的影响郝会颖;李伟民;曾湘波;孔光临;廖显伯【摘要】采用甚高频等离子体增强化学气相沉积（VHF-PECVD）法,成功制备出一系列从非晶到微晶过渡区域的硅薄膜。
研究了气体压强对样品的微结构、光电特性、输运性质以及沉积速率的调控作用。
结果表明,增大沉积气压可以提高材料的光敏性及沉积速率,但材料的结构有序度以及输运特性变差。
%A series of transition films from amorphous to microcrystalline silicon was successfully prepared by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition（VHF-PECVD）.Effects of gas pressure on the microstructure,photoelectric and transport properties of the films were investigated.The results indicate that increase of gas pressure improve the photosensitivity and deposition rate,while the order degree of the microstructure and transport properties get worse.【期刊名称】《功能材料》【年(卷),期】2011(042)008【总页数】3页(P1489-1491)【关键词】相变域硅薄膜;微结构;光电特性;输运特性【作者】郝会颖;李伟民;曾湘波;孔光临;廖显伯【作者单位】中国地质大学材料科学与工程学院,北京100083;中国地质大学材料科学与工程学院,北京100083;中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京100083;中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京100083;中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京100083【正文语种】中文【中图分类】O472能源危机是一个世界性的严峻问题，开发利用太阳能已成为世界各国可持续发展的战略决策。
聚氯代对二甲苯薄膜表面用紫外光固化漆的制备与表征李永升;帅茂兵;周元林;陈慧;唐贤臣;董发勤;肖斌【期刊名称】《功能材料》【年(卷),期】2013(044)008【摘要】采用化学气相沉积聚合制备的聚氯代对二甲苯膜(简称PC膜)具有优异的阻隔性能,在多个行业得到广泛的应用.但其耐冲击性能较差,影响了其在某些领域的应用.通过在其表面涂覆柔韧性好的材料以提高其耐冲击性能是一种可选的改进方案.针对PC膜保护研制了一种紫外光固化漆并对其相关性能进行了表征.结果表明,研制的漆膜具有优异的附着力(0级)、柔韧性、耐酸碱性,漆膜对PC膜断裂伸长率和耐冲击强度都有显著提高；固化漆膜不降低PC膜对水蒸气的阻隔性能,而复合膜对空气和氢气阻隔性能有所增强.【总页数】4页(P1094-1097)【作者】李永升;帅茂兵;周元林;陈慧;唐贤臣;董发勤;肖斌【作者单位】西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室-省部共建国家重点实验室培育基地,四川绵阳621010;西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室-省部共建国家重点实验室培育基地,四川绵阳621010;表面物理与化学重点实验室,四川绵阳621907;西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室-省部共建国家重点实验室培育基地,四川绵阳621010;表面物理与化学重点实验室,四川绵阳621907;表面物理与化学重点实验室,四川绵阳621907;西南科技大学四川省非金属复合与功能材料重点实验室-省部共建国家重点实验室培育基地,四川绵阳621010;表面物理与化学重点实验室,四川绵阳621907【正文语种】中文【中图分类】TQ630【相关文献】1.化学改性聚氯代对二甲苯薄膜表面润湿性的研究 [J], 张立生;周元林;刘剑;王恩泽2.聚氯代对二甲苯薄膜表面湿化学改性与应用研究 [J], 周元林;刘剑;张立生3.聚氯代对二甲苯薄膜用常温固化氟碳涂料的制备 [J], 李迎军;周元林;刘剑;吴晓华;唐贤臣4.130级紫外光固化型漆包线用环保绝缘漆的制备与性能研究 [J], 马素德;赵利斌5.聚氯代对二甲苯/石墨烯高阻水复合膜的制备与性能 [J], 景泽坤;郭亚昆;赵星滔;任猛;周元林;帅茂兵因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
沉积气压对ZnO薄膜的结构与光学性能影响的开题报告
一、选题背景和意义
ZnO是一种广泛应用于电子学、能源和生物学等领域的半导体材料。
ZnO薄膜作为一种重要的化学气相沉积薄膜制备技术，其结构和光学性质对其应用具有重要影响。
而沉积气压是制备ZnO薄膜时的重要参数之一，对其微观结构和光学性能具有明显的影响。
因此，深入探究沉积气压对ZnO薄膜的结构和光学性能的影响，有望为其应用提供更加精准的支持。
二、主要内容和研究方法
本文将通过ZnO薄膜的制备和表征，研究沉积气压对其结构和光学性能的影响。
具体内容包括以下几个方面：
1. ZnO薄膜的制备和表征：本研究将采用化学气相沉积技术来制备ZnO薄膜，
并通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见吸收光谱(UV-Vis)等手段
来表征其结构和光学性质。
2. 沉积气压对ZnO薄膜的结构影响：调节沉积气压参数，制备不同条件下的
ZnO薄膜，并研究沉积气压对其结构的影响，包括晶体结构、晶粒大小和取向等。
3. 沉积气压对ZnO薄膜的光学性能影响：利用UV-Vis光谱研究沉积气压对ZnO 薄膜的透过率和能带结构等光学性能的影响，并进一步探究其原理。
三、预期成果
本研究将深入探究沉积气压对ZnO薄膜的结构和光学性能的影响，将有望得到
以下成果：
1. 探究沉积气压对ZnO薄膜的结构和光学性质的影响规律，提高ZnO薄膜制备工艺的可控性和准确性。
2. 为优化ZnO薄膜在电子学、能源和生物学等领域的应用提供理论和实验基础。
3. 对ZnO薄膜的研究将为材料科学和能源学科的发展提供新思路和新方法。
纯锡镀层锡须生长机理及聚氯代对二甲苯膜抑制效果研究李其海;陈玮玮;张伟;黄琨【摘要】The mechanism of tin whisker growth of pure tin coating on lead-free devices and leadframes was analyzed by scanning electron microscopy and energy-dispersive spectroscopy.Parylene C (PC) film was deposited on pure tin coating surface by chemical vapor deposition (CVD) and its suppression effect on tin whisker growth was studied.The results showed that the intermetallic compound (IMC) at Cu/Sn interface usually grows toward tin grain boundaries,leading to an in-situ increase of volume by 44.8％ and the generation of compressive stress,which is increased with the growth of irregular IMC layer at the substrate/coating interface.The tin coating is extruded under the action of compressive stress,resulting in the formation of tin whisker.The PC film can suppress the growth of tin whisker obviously.The thicker the PC film is,the slower the tin whisker and the longer the incubation time are.A 5 μm-thick PC film effectively suppresses the growth of tin whisker.%以无铅器件及无铅引线框架为研究对象,采用扫描电镜、能谱分析了纯锡镀层锡须生长机理.采用化学气相沉积(CVD)法在样品表面镀聚氯代对二甲苯(PC)膜,研究了PC膜对锡须生长的抑制效果.结果表明:Cu/Sn界面处金属间化合物(IMC)易于向Sn晶界处生长,使得原位体积增加44.8％,因此界面处会产生较大压应力.此压应力会随着镀层/基体界面IMC层的不规则形成而增大.在压应力的作用下,Sn被挤出,从而形成锡须.PC膜对锡须的生长具有明显的抑制作用,且随着PC膜厚度的增大,锡须生长变慢,孕育期更长.5 μm厚的PC膜能有效抑制锡须生长.【期刊名称】《电镀与涂饰》【年(卷),期】2017(036)011【总页数】9页(P553-561)【关键词】纯锡镀层;锡须;金属间化合物;晶界;聚氯代对二甲苯膜;抑制【作者】李其海;陈玮玮;张伟;黄琨【作者单位】中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900;中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900;中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900;中国工程物理研究院电子工程研究所,四川绵阳621900【正文语种】中文【中图分类】TQ153.13电子元器件引脚表面通常会电镀一层Sn基合金(如Sn–Pb)，以改善引脚的可焊性。
77号材料的化学气相沉积与薄膜生长材料科学领域中的77号材料，由于其独特的物性与广泛的应用前景，一直备受关注。
特别是在能源存储、电子器件和光学应用中，77号材料呈现出了巨大的潜力。
为了实现77号材料的高效制备，化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）成为了利用其薄膜生长的重要方法。
一、化学气相沉积的基本原理化学气相沉积是一种采用气体前驱体在高温下分解反应，生成所需材料的方法。
77号材料的化学气相沉积过程中，通过设计合适的气体组成和反应条件，可以控制薄膜的成分、晶体结构以及厚度等参数，从而实现所需材料的制备。
在化学气相沉积中，关键的步骤是气体前驱体的分解反应。
通常，气体前驱体会通过热解或解离反应，分解成所需元素的气体，并在基底表面发生扩散和重组，最终形成凝聚态的薄膜。
这种分解反应的选择和控制是实现77号材料薄膜生长的关键。
二、影响化学气相沉积过程的因素1. 温度：温度是化学气相沉积中最重要的参数之一。
温度的选择会影响气体前驱体的分解速率，进而影响薄膜的生长速率和晶体质量。
过高的温度可能会导致反应过热，产生非均匀的薄膜生长；过低的温度则可能导致反应速率过慢，无法得到理想的薄膜。
2. 气体组成：选择合适的气体前驱体组成对薄膜的生长至关重要。
不同的气体组合可以产生不同的反应路径和产物。
在77号材料的制备中，常用的气体前驱体包括金属有机化合物、金属卤化物和金属的氢氧化物等。
3. 压力：压力的调整对薄膜生长的均匀性和晶体质量有重要影响。
较高的气体压力可以促进气体分子之间的碰撞和反应，但过高的压力可能导致堆积和非均匀生长。
因此，在实践中需要根据具体材料的要求进行合理的选择。
三、提高薄膜质量的方法1. 基底表面处理：为了提高77号材料薄膜的质量，基底表面的处理非常重要。
常用的表面处理方法包括温度热处理、机械抛光和表面氧化等。
经过表面处理后，基底表面的平整度和化学活性会得到提高，有利于薄膜的均匀生长和结晶质量的提高。
新型涂层聚氯代对二甲苯的性能及其应用研究2008/2/27/08:18 来源：涂料涂装资讯网摘要 : 用真空沉积技术制备了聚氯代对二甲苯 ( Parylene C) 涂膜 , 考核了聚氯代对二甲苯涂膜与特种材料的附着力及涂膜的拉伸性能、耐化学介质性能、表面抗静电性能 , 并对具有复杂形状的工件表面进行均匀涂覆作了探索研究。
结果表明聚氯代对二甲苯涂膜具有优异的综合性能 , 可以在复杂形状工件表面形成均匀涂膜 , 对被涂覆材料起到很好的保护作用。
关键词: 真空沉积; 聚氯代对二甲苯; 性能; 保护作用0 引言据有关文献报道, 分子级沉积保护涂层是一种由真空沉积形成的独特的热塑性高分子化合物, 其涂层厚度可以按 5 μ m /min 的沉积速度从1 μ m 到几百微米进行精确控制。
分子级沉积过程是在25 ℃左右、0 . 133 3 Pa 左右的压力条件下进行的。
在这种条件下, 气相分子在沉积腔内的平均自由程在0 . 1 cm 左右, 因此, 与喷镀技术不同, 沉积不受视线的阻碍, 在被封装物体的所有表面都可以涂覆, 从而形成致密、均匀的保护涂膜[ 1 - 3 ] 。
聚对二甲苯( Parylene) 系列涂膜的形成过程如图1 所示, 包括三个不同的步骤[ 4 - 5 ] :图 1 聚对二甲苯系列涂膜的沉积过程点击此处查看全部新闻图片第一步是在约150 ℃, 130 Pa 下将固态的二聚物蒸发; 第二步是在约680 ℃, 60 Pa 下两个侧链碳碳键裂解, 从而生成稳定的活性单体———对二甲苯撑; 最后, 单体进入室温下约10 Pa 的沉积腔体内, 在这里瞬间吸附在被涂覆物上并进行聚合。
用分子级沉积技术可以形成致密、无气孔的匀质涂层, 使其能够在恶劣的环境, 如沙漠及外空环境下保护被涂覆件。
分子级沉积保护涂层还具有优良的耐酸碱性、耐溶剂性( 不溶于常用有机溶剂) 、良好的热稳定性能( 达275 ℃ ) 和耐低温性能( - 200 ℃ ) 。
