NCVM涂装工艺介绍.

镀膜方式
镀膜原理
制程
污染
毒性强 工业污染大 有大量废水废气
生产速度较慢 产能较小
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
生产速度快产能大(90sec/盘) 可连续性生产
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
品质异常难及时管控 产能大
生产性
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五、NCVM （真空溅镀）常见问题与解决方法
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NCVM （真空溅镀）工序八：镭雕

根据客户需求，镭射切割出不同的字符。 易镭雕 字符清晰，可做到局部透光、精美。 不影响后序加工
注意事项 镭雕功率，电流，频率，镭雕速度
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NCVM （真空溅镀）工序九：印刷
可在表面印刷名种字符 需用特殊的油墨； 再喷特殊的UV面漆保护， 达到字符常久耐磨擦； 可丝印，也可移印 用3M600#胶纸完全粘附5分钟后，成90° 角快速拉起。
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NCVM （真空溅镀）工序二：烘烤
• 把清洗干净的产品放入，以设定好温度（ 50~60° C）的 烤箱内烘干， 注意烘烤时间、温度（定时检测）, 检查是否已干透，表面是否清洗干净、有 无刮伤。 • 注意事项 • 1、温度的管控 • 2、时间的管控
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NCVM （真空镀）工序三：上治具
把清洗干净的产品摆放固定在专用的夹具上； 手不可以碰到产品表面； 可用干净的无尘布擦拭表面； 按规定的数量、统一的方向、一定的间距摆放
注意事项 选用特殊油墨
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NCVM工序（真空溅镀）十：喷涂（UV coating）

用全自动喷涂机在金属层表面涂装UV coating，来保护 金属层以及增加产品硬度和保证信赖性，（一般 14~20UM）；

真空镀膜(NCVM)项目 工程师培训教材
编写人：张玉立 核准人：张经理
日期:08年03月20日
前 言：
• 1>.真空镀膜行业兴起背景：随着欧盟RoHS 指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。 传统高污染之电镀行业已不符合环保要求， 必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有 废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势， 必将兴起并普及。
• 因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室 洁净度极高。同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生 产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤 箱、镀膜车间洁净度3000级）。
•
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光
率越差，反射率越高。
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二．真空镀膜的工艺特性:
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• 一．真空镀膜技术及设备两百年发展史(1805-2007)
•1>. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离 子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气 相生成法又可分为物理气相沉积法（physical Vapor Deposition简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
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• 二．真空镀膜的工艺特性:
• 2. 纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数SHI十至数百纳米
(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
• 例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材 相同，银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度， 结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想 的镜面效果。
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室（DCLI）建立，用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开

颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染，膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析，了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构，了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙，影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中，由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题，可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力，导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙，影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中，需要控制真空室的 真空度，以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中，基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响，需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性，需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材，确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质，以确 保镀膜层的附着力。

SNCVM产生背景
深圳市东升真空镀膜有限公司
第二部分： SNCVM工艺流程及技术优势
SNCVM工艺流程
常规塑胶NCVM工艺制程 SNCVM工艺制程
面漆
中涂 NCVM 底漆 塑胶素材
面漆
中涂 SNCVM 底漆 塑胶素材
常规塑胶NCVM产品
SNCVM产品效果
SNCVM工艺流程（细化）
塑胶成型 前处理 UV底漆 真空镀膜 （NCVM ）
SNCVM技术与其它技术整合
双重金属质感SNCVM
渐变喷涂+ SNCVM
深圳市东升真空镀膜有限公司
第四部分： SNCVM工艺的设计要求
SNCVM技术对图案大小的要求

原则上讲，SNCVM的图案可以精密到纳米级，但 在实际生产中，图案越精密，良率越低
一般情况下： 圆点直径不低于0.15mm 线条宽度不低于0.1mm

SNCVM技术对图案间距的要求
SNCVM工艺对图案间距无要求，可以做到零间距， 比如碳纤维图案 但间距太小会造成视觉冲击，影响外观效果，给 人以刺眼的感觉。一般情况下，正方形和圆点图 案的间距设计为不低于0.2mm
SNCVM技术对产品弧面的要求

SNCVM技术对于弧面有图案要求的产品， 产品弧面要小于45度，大于45度则无法 实现规整图案
SNCVM产生背景

为了吸引消费者眼球，提升品牌效应，各手机厂商对 手机电池盖的外观效果提出了新的要求。在此背景下， 一些新的表面处理工艺应时而生。 表面处理新工艺：3D喷墨，凯夫拉贴膜，纹理化塑胶 成型，光学镀，离子镀，钻石镀，SNCVM等
SNCVM工艺凭借其叹为观止的外观效果及无可替代的 技术优势从以上表面处理新工艺中脱颖而出，越来越 受到各大手机厂商重视，并渐渐成为了手机电池盖表 面处理工艺的主流。