光学镀膜基础知识
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光学镀膜基础知识
光学镀膜是一种在物体表面上形成一层薄膜,以改变光在物体表面上的反射、透射和吸收的特性的技术。
它可以提高光学元件的透光率、抗反射能力和耐刮擦性能,同时还可以改变光的颜色和光谱特性。
以下是光学镀膜的基础知识:
1. 光学镀膜类型:有透射镀膜、反射镀膜和滤光镀膜等不同类型的光学镀膜。
2. 镀膜材料:常用的镀膜材料包括金属、氧化物、硫化物和氟碳化物等。
不同的材料可以实现不同的功能,如增强透射、减少反射、调节色彩等。
3. 镀膜原理:基本的镀膜原理是利用光学干涉的现象。
通过控制镀膜材料的厚度,可以实现不同波长光的干涉效果,从而达到改变光的传输和反射性能的目的。
4. 镀膜性能评价:光学膜层的性能评价常包括透射率、反射率、满足特定光学要求的光谱特性等。
5. 常见的光学镀膜技术:包括真空蒸发、溅射镀膜、离子镀膜等不同的技术。
每种技术都有其特点和适用性,选择合适的技术可以获得高质量的光学镀膜。
6. 应用领域:光学镀膜广泛应用于光学元件、光学仪器、电子
设备、眼镜等领域。
它可以改善光学仪器的性能,提高成像和传输质量,也可以实现特定的光学效果和功能。
总之,光学镀膜是一门复杂而重要的技术,通过掌握光学镀膜的基本知识,可以更好地理解和应用光学元件。
DWDM光学镀膜介绍与解析前言随着行动电话与网际网路等通信量急速增加,连接干线及都会之区间的光纤传输容量亦随之暴涨。
增加通信容量有两种方法,一种是提高变频速度的多重时间光增幅器广波域技术提升相对分割法(TDM, Time Division Multiplexing),另外一种是以单一光纤传输不同波长光信号之多波长方式(WDM, Wavelenght Division Multiplexing)。
由於地也带动着高速化与高密度波长多重化演进,换言之它所使用的Filter种类与波长亦随之多样化。
Filter镀膜基於耐环境、温度、稳定性等系统考量,通常采用离子(Ion)/等离子枪(Plasma Gun)与溅镀(Suptter)或电子束(EB,Electric Beam)等方式。
然而镀膜时有关膜厚监控(Monitor)、重复再现性、良率改善、自动化等诸多问题仍有待镀膜厂商突破。
镀膜方法电子束(EB)蒸镀方式容易形成柱状膜结构,为获高充填率(Packing Density)的膜层,通常会采用Ion照射基板方式,经Ion照射後由於离子(Ion)的能量使基板上形成活性核,同时促进核成长及核凝缩(Coalescence),进而获得高充填率的膜层。
电子束(EB)蒸镀源与离子/等离子枪(Plasma Gun)的组合又可分为离子辅助(IAD, Ion Assisted Deposition)及离子镀(IP, Ion Plating),这两种方法常用於有耐环境需求的通信元件镀膜工程。
Leybold公司的APS(Advanced ?Plasma System)为典型代表。
IAD的电子束蒸镀源与Ion产生器可个别独立控制,因此IAD方式较易找出最合适的镀膜条件。
基於EB枪需长时间操作,因此有些厂商修改Filament的尺寸与外形,用来降低电子束270°偏向时所产生的离子冲击对Filament造成的耗损。
如此一来由高周波放电所构成的离子枪,在DC放电时无法避免的Filament Suptter不纯物产生会完全消失,同时离子枪可作长时间运转。
光学镀膜基础知识概述及解释说明1. 引言1.1 概述光学镀膜是一种在光学器件上应用的技术,通过在物体表面涂覆一层薄膜来改变物体对光的反射、折射和透过性质。
这项技术被广泛应用于激光器、太阳能电池、眼镜镜片等领域。
本文将介绍光学镀膜的基础知识,并解释其原理和应用。
1.2 文章结构本文分为四个部分进行论述。
首先,在引言中我们将简要概述光学镀膜技术,并介绍文章的结构。
其次,在第二部分中,我们将深入探讨光学镀膜的基础知识,包括原理介绍、材料选择和镀膜工艺流程。
接着,在第三部分中,我们将详细解释光学镀膜的相关概念和现象,包括反射和折射现象解释、光学薄膜的工作原理解析以及镀膜在光学器件中的应用解读。
最后,在结论部分中,我们将总结所述的光学镀膜基础知识,并强调其在光学领域中的重要性和应用前景,同时提出未来研究方向建议。
1.3 目的本文旨在提供关于光学镀膜的基础知识,帮助读者了解光学镀膜技术的原理、材料选择以及镀膜工艺流程。
通过解释光学现象和光学器件中的应用,我们希望读者可以更好地理解并应用光学镀膜技术。
此外,本文也将探讨该技术在未来的研究方向,并引导读者进一步深入相关领域的研究。
2. 光学镀膜基础知识:2.1 原理介绍:光学镀膜是一种通过在物体表面涂覆一层光学材料来改变其光学性质的技术。
其原理基于反射、折射和干涉等现象。
当光线从一个介质进入另一个介质时,由于两个介质的光密度不同,会发生反射和折射的过程。
利用这些现象,可以通过选择合适的材料并采用适当的工艺流程,在物体表面生成具有特定光学性能的镀膜层。
2.2 材料选择:在进行光学镀膜时,需要选取合适的材料作为镀膜层。
常用的材料包括金属、半导体和二氧化硅等。
根据需要调节器件的反射率、透过率以及波长选择性等要求,选择不同的材料组合来达到预期效果。
2.3 镀膜工艺流程:实施光学镀膜涉及多个工序,包括基片清洗、底层/高反射层沉积、保护层应用等步骤。
首先,需要对待处理的基片进行清洗,以确保表面没有杂质影响膜层的质量。