光学镀膜基础知识PPT共63页.pdf
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经典教材出品薄膜光學與鍍膜技術薄膜光學與鍍膜技術前言:光學薄膜是指在光學元件上或獨立的基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜來改變光波傳遞的特性。
即應用光波在這些薄膜中進行的現象與原理,如透射、吸收、散射、反射、偏振、相位變化等,進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學與工程上的應用。
在本廠的實際應用上,DM半透板與ITO鍍膜屬於這個領域。
光學薄膜雖早於1817年Fraunhofer已經開始利用酸蝕法製成了抗反射膜,但是真正的發展是在1930年真空鍍膜設備之後。
而軍事的需求(望遠鏡、飛彈導向鏡頭、監視衛星、夜視系統等)加速了光學薄膜的開發與研究。
計算機的出現使得設計更為方便,相對的各種理論及設計方法因應而出,光學薄膜的研究於是更為進步並充分應用於各種光電系統及光學儀器之中,如光干涉儀、照相機、望遠鏡、顯微鏡、投影電視機、顯示器、光鑯通訊、汽車工業、眼鏡等。
光學薄膜基本上是藉由干涉作用達到其效果的。
簡單的如肥皂泡沫膜、金屬表層的氧化膜、水面油層的顏色變化,都可以視為單層干涉的效果。
因此,當光在膜層中的干涉現象可以被偵測到時,我們就說這層模是薄的,否則是厚的(k值消散掉)。
由於干涉現象不僅跟膜層的厚度有關,而且光源的干涉性和偵測性的種類也有關。
接下來為各位介紹幾個主題1.波動光學基本理論2.薄膜光學的應用及產品介紹3.薄膜設計方法4.金屬鍍膜材料5.光學薄膜的鍍製方法及設備6.光學薄膜材料。
光學薄膜的製作是理論設計的實現,它不僅和蒸鍍方法及材料有關亦與薄膜支撐者,即基板之表面狀況及材質有密切的關係,事實上光學薄膜的研製的主要困難已經比較少是在設計上,而是在製鍍上,亦即要製造出預期中的光學常數及厚度之薄膜,因此新的製膜方法及監控方式在工程上更顯的重要。
1.波動光學基本理論繞射和干涉的現象常常會被拿在一起來討論,繞射可視為很多光源互相干涉,但其數學處理的方式仍然與干涉不太一樣。
例如全像或光柵,可以用繞射也可以用干涉來解釋,也各有其數學模式。
光学镀膜基础知识概述及解释说明1. 引言1.1 概述光学镀膜是一种在光学器件上应用的技术,通过在物体表面涂覆一层薄膜来改变物体对光的反射、折射和透过性质。
这项技术被广泛应用于激光器、太阳能电池、眼镜镜片等领域。
本文将介绍光学镀膜的基础知识,并解释其原理和应用。
1.2 文章结构本文分为四个部分进行论述。
首先,在引言中我们将简要概述光学镀膜技术,并介绍文章的结构。
其次,在第二部分中,我们将深入探讨光学镀膜的基础知识,包括原理介绍、材料选择和镀膜工艺流程。
接着,在第三部分中,我们将详细解释光学镀膜的相关概念和现象,包括反射和折射现象解释、光学薄膜的工作原理解析以及镀膜在光学器件中的应用解读。
最后,在结论部分中,我们将总结所述的光学镀膜基础知识,并强调其在光学领域中的重要性和应用前景,同时提出未来研究方向建议。
1.3 目的本文旨在提供关于光学镀膜的基础知识,帮助读者了解光学镀膜技术的原理、材料选择以及镀膜工艺流程。
通过解释光学现象和光学器件中的应用,我们希望读者可以更好地理解并应用光学镀膜技术。
此外,本文也将探讨该技术在未来的研究方向,并引导读者进一步深入相关领域的研究。
2. 光学镀膜基础知识:2.1 原理介绍:光学镀膜是一种通过在物体表面涂覆一层光学材料来改变其光学性质的技术。
其原理基于反射、折射和干涉等现象。
当光线从一个介质进入另一个介质时,由于两个介质的光密度不同,会发生反射和折射的过程。
利用这些现象,可以通过选择合适的材料并采用适当的工艺流程,在物体表面生成具有特定光学性能的镀膜层。
2.2 材料选择:在进行光学镀膜时,需要选取合适的材料作为镀膜层。
常用的材料包括金属、半导体和二氧化硅等。
根据需要调节器件的反射率、透过率以及波长选择性等要求,选择不同的材料组合来达到预期效果。
2.3 镀膜工艺流程:实施光学镀膜涉及多个工序,包括基片清洗、底层/高反射层沉积、保护层应用等步骤。
首先,需要对待处理的基片进行清洗,以确保表面没有杂质影响膜层的质量。