晶体缺陷的概念
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一、概述1、晶体缺陷:晶体中原子(离子、分子)排列的不规则性及不完整性。
种类:点缺陷、线缺陷、面缺陷。
1) 由上图可得随着缺陷数目的增加,金属的强度下降。
原因是缺陷破坏了警惕的完整性,降低了原子间结合力,从宏观上看,即随缺陷数目增加,强度下降。
2) 随着缺陷数目的增加,金属的强度增加。
原因是晶体缺陷相互作用(点缺陷钉扎位错、位错交割缠结等),使位错运动的阻力增加,强度增加。
3) 由此可见,强化金属的方向有两个:一是制备无缺陷的理想晶体,其强度最高,但实际上很难;另一种是制备缺陷数目多的晶体,例如:纳米晶体,非晶态晶体等。
二、点缺陷3、点缺陷:缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子尺寸相当的缺陷(或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷),称为点缺陷或零维缺陷。
分类:空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。
4、肖特基空位:原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。
5、弗仑克尔空位:原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子,该空位叫做弗仑克尔空位。
6、空位形成能EV:在晶体中取出一个原子放在晶体表面上(不改变晶体表面积和表面能)所需的能量。
间隙原子形成能远大于空位形成能,所以间隙原子浓度远小于空位浓度。
7、点缺陷为热平衡缺陷,淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。
8、复合:间隙原子和空位相遇,间隙原子占据空位导致两者同时消失,此过程成为复合。
9、点缺陷对性能的影响:点缺陷使得金属的电阻增加,体积膨胀,密度减小;使离子晶体的导电性改善。
过饱和点缺陷,如淬火空位、辐照缺陷,还可以提高金属的屈服强度。
三、线缺陷10、线缺陷:线缺陷在两个方向上尺寸很小,另外一个方向上延伸较长,也称为一维缺陷。
主要为各类位错。
11、位错:位错是晶体原子排列的一种特殊组态;位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象;位错是已滑移区和未滑移区的分界线;位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。
晶体缺陷名词解释
晶体缺陷是指因晶体的原子不能有序排列,或因晶体中存在多余或欠缺的原子,或晶体中存在附加的离子,而使晶体的特性发生变化的状态。
主要分为四类:位错、衬底格点缺陷、位错团和晶体区域失活。
位错指晶体中原子离开了正常构型排列,进入到其他构型排列中所产生的现象,起到晶体构型的破坏作用。
衬底格点缺陷指在固定位置存在具体数量的空位,从而改变晶体表面的衬底格点,以及晶体面积和晶格常数。
位错团指离子或原子被狭义放射入晶体,它们互相吸引,形成一个团簇。
晶体区域失活指晶体因内部缺陷而导致的情况,使得某些晶格在晶体结构中失去活性,从而增加晶格衰减。
晶体缺陷的概念
晶体缺陷是指晶体中存在的一种结构性缺陷,它可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三种类型。
点缺陷是指晶体中存在的一些点状的缺陷,比如说晶格中的原子缺失、杂质原子等。
这些点缺陷会导致晶体的物理和化学性质发生变化。
线缺陷是指晶体中存在的一些线状的缺陷,比如说晶格中的排列错误、晶面错位等。
这些线缺陷会影响晶体的弹性、导电性等性质。
面缺陷是指晶体中存在的一些面状的缺陷,比如说晶面的错位、晶面的扭曲等。
这些面缺陷会影响晶体的力学、光学等性质。
晶体缺陷是晶体中不可避免的存在,它们与晶体的物理和化学性质密切相关,因此对晶体缺陷的研究对于认识晶体的性质、制备高质量晶体具有重要的意义。
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