四点探针测试技术44页
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SDY-5型双电测四探针测试仪技术说明书一、概述二、技术指标三、测量原理四、仪器结构说明五、使用方法六、注意事项七、打印机操作方法一、概述SDY-5型双电测四探针测试仪采用了四探针双位组合测量新技术,将范德堡测量方法推广应用到直线四探针上,利用电流探针、电压探针的变换,进行两次电测量,能自动消除样品几何尺寸、边界效应以及探针不等距和机械游移等因素对测量结果的影响。
因而不必知道探针间距,样品尺寸及探针在样品表面上的位置。
由于每次测量都是对几何因素的影响进行动态的自动修正,因此显著降低了几何因素影响,从而提高了测量准确度。
用目前大量使用的常规四探针测量方法所生产的仪器是根本办不到的。
使用本仪器测量时,由于不需要进行几何边界条件和探针间距的修正,因而对各种形状的薄膜材料及片状材料有广泛的适用性。
仪器适用于测量片状半导体材料电阻率及硅扩散层、离子注入层、异型外延层等半导体器件和液晶片导电膜、电热膜等薄层(膜)的方块电阻。
仪器以大规模集成电路为核心部件,并应用了微计算机技术。
利用HQ-710F型微计算机作为专用测量控制及数据处理器,使得测量、计算、读数更加直观、快速,并能打印全部预置和测量数据。
二、技术指标1.测量范围:硅片电阻率:0.01—200Ω.cm (可扩展)薄层电阻:0.01—2000Ω/口(可扩展)(方块电阻)可测晶片直径:最大直径100 mm(配J-2型手动测试架)200 mm(配J-5型手动测试架)可测晶片厚度:≤ 3.00 mm2.恒流电源:电流量程分为100μm、1mA、10mA、100mA四档。
各档电流连续可调。
稳定度优于0.1% 3.数字电压表:量程:0-199.99mV;分辨率:0.01 mV显示:四位半红色发光管数字显示.极性、小数点、超量程自动显示。
精度:±0.1%4.模拟电路测试误差:(用1、10、100、1000Ω精密电阻)≤±0.3%±1字5. 整机准确度:(用0.01—200Ω.cm 硅标样片测试)<5%6. 微计算机功能:(1)键盘控制测量取数,自动控制电流换向和电流、电压探针的变换,并进行正、反向电流下的测量,显示出平均值。
实验七四探针法测量材料的电阻率一、实验目的(1)熟悉四探针法测量半导体或金属材料电阻率的原理(2)掌握四探针法测量半导体或金属材料电阻率的方法二、实验原理半导体材料是现代高新技术中的重要材料之一,已在微电子器件和光电子器件中得到了广泛应用。
半导体材料的电阻率是半导体材料的的一个重要特性,是研究开发与实际生产应用中经常需要测量的物理参数之一,对半导体或金属材料电阻率的测量具有重要的实际意义。
直流四探针法主要用于半导体材料或金属材料等低电阻率的测量。
所用的仪器示意图以及与样品的接线图如图1所示。
由图1(a)可见,测试过程中四根金属探针与样品表面接触,外侧1和4两根为通电流探针,内侧2和3两根是测电压探针。
由恒流源经1和4两根探针输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其它两根探针(探针2和探针3)之间的电压V23。
a b图1 四探针法电阻率测量原理示意图若一块电阻率为 的均匀半导体样品,其几何尺寸相对探针间距来说可以看作半无限大。
当探针引入的点电流源的电流为I ,由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面,则在半径为r 处等位面的面积为22r π,电流密度为2/2j I r π= (1)根据电流密度与电导率的关系j E σ=可得2222jI I E r rρσπσπ=== (2) 距离点电荷r 处的电势为 2I V r ρπ=(3) 半导体内各点的电势应为四个探针在该点所形成电势的矢量和。
通过数学推导,四探针法测量电阻率的公式可表示为123231224133411112()V V C r r r r I Iρπ-=--+∙=∙ (4) 式中,11224133411112()C r r r r π-=--+为探针系数,与探针间距有关,单位为cm 。
若四探针在同一直线上,如图1(a)所示,当其探针间距均为S 时,则被测样品的电阻率为1232311112()222V V S S S S S I Iρππ-=--+∙=∙ (5) 此即常见的直流等间距四探针法测电阻率的公式。
实验七四探针法测量材料的电阻率一、实验目的(1)熟悉四探针法测量半导体或金属材料电阻率的原理(2)掌握四探针法测量半导体或金属材料电阻率的方法二、实验原理半导体材料是现代高新技术中的重要材料之一,已在微电子器件和光电子器件中得到了广泛应用。
半导体材料的电阻率是半导体材料的的一个重要特性,是研究开发与实际生产应用中经常需要测量的物理参数之一,对半导体或金属材料电阻率的测量具有重要的实际意义。
直流四探针法主要用于半导体材料或金属材料等低电阻率的测量。
所用的仪器示意图以及与样品的接线图如图1所示。
由图1(a)可见,测试过程中四根金属探针与样品表面接触,外侧1和4两根为通电流探针,内侧2和3两根是测电压探针。
由恒流源经1和4两根探针输入小电流使样品内部产生压降,同时用高阻抗的静电计、电子毫伏计或数字电压表测出其它两根探针(探针2和探针3)之间的电压V23。
a b图1 四探针法电阻率测量原理示意图若一块电阻率为 的均匀半导体样品,其几何尺寸相对探针间距来说可以看作半无限大。
当探针引入的点电流源的电流为I ,由于均匀导体内恒定电场的等位面为球面,则在半径为r 处等位面的面积为22r π,电流密度为2/2j I r π= (1)根据电流密度与电导率的关系j E σ=可得2222jI I E r rρσπσπ=== (2) 距离点电荷r 处的电势为 2I V r ρπ=(3) 半导体内各点的电势应为四个探针在该点所形成电势的矢量和。
通过数学推导,四探针法测量电阻率的公式可表示为123231224133411112()V V C r r r r I Iρπ-=--+•=• (4) 式中,11224133411112()C r r r r π-=--+为探针系数,与探针间距有关,单位为cm 。
若四探针在同一直线上,如图1(a)所示,当其探针间距均为S 时,则被测样品的电阻率为1232311112()222V V S S S S S I Iρππ-=--+•=• (5) 此即常见的直流等间距四探针法测电阻率的公式。