半导体数值分析
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主要内容2.12.22.32.1 器件模拟的基本方程组2.1.3 载流子输运的基本方程2.1.3.2小尺寸半导体器件的载流子输运方程(a) (b)图2.1 半导体中的载流子过冲. (a) GaAs材料, (b) Si材料2.1 器件模拟的基本方程组2.1.6光波导方程由Maxwell 方程组同样可以导出在半导体材料中传输的光波的电场分量E 所满足的方程:式中n 为材料的折射率,k 0 =2π/λ,λ是波长。
对于沿z 方向传播的波,式中β是波沿z 方向的传播常数,可得到Helmholtz 方程为,2022=+∇E E k n )(exp ),,(),,,(z t j E E E t z y x z y x βω−=E 222/,/ββ−=∂∂−=∂∂z j z 所以,)(22022=−+∇E E βk n T 式中,22222//y x T ∂∂+∂∂=∇2.3 半导体器件的分级模拟2.3.1 问题目的提出判断一个半导体器件模拟软件优劣的指标是功能全、精度高、速度快和便于用户使用。
功能全主要指能处理问题面广,便于用户使用则主要指程序输入参数形式简单,并以交互或对话方式工作。
实际开发半导体器件模拟软件时要考虑这两点,但这不是衡量半导体器件模拟方法本身优劣的指标。
衡量半导体器件模拟方法优劣的指标是速度快、精度高。
在半导体器件的计算机模拟中,除了从指标要求出发选取好的方法外,在给定精度的条件下,还经常使用分级模拟技术以减少计算时间和提高计算速度。
2.3 半导体器件的分级模拟2.3.3 分级模拟的意义随着工件条件的变化,模型方程的复杂性越来越高,相应地,模拟的复杂性也越来越高。
对于复杂的模拟问题,往往需要采用分级模拟的方法,该方法包括两点:(1)根据具体的工作条件,选用级别较低的模型方程,以在保证精度的条件下大大减少计算时间。
(2)利用低一级的解作为初值。
由于低一级的解是本级的很好近似,这样做将有效减少计算时间。
(12).―1238~1243.研究了一种利用钽酸锂热释电探测器实现的实用化双波长光纤测温仪。
该测温仪由光学接收系统、信号放大与处理系统及显示系统三部分组成。
依照单个探测器的温度分辨力和相对温度灵敏度、R(T)~T曲线的温度灵敏度以及抗反射辐射能力与各主要技术参数之间的关系,在考虑光路中的选择性吸收气体的影响及探测器的最小可探测功率的基础上,对其工作波长及波长带宽进行了优化设计。
同时也分析了仪器的工作波长及波长带宽对温度分辨力及测温灵敏度的影响。
结果表明,在测温范围400~1300℃内,当λ1=2.1μm、λ2=2.3μm、Δλ=20nm时,其测温精度优于0.20%,满足实际需要。
图6表1参127、半导体技术O472006060500空间有序的量子点超晶格的红外吸收/孙永伟,马文全,杨晓杰,屈玉华,侯识华,江德生,孙宝权,陈良惠(中国科学院半导体研究所纳米光电子实验室)//半导体学报.―2005,26(11).―2092~2096.利用分子束外延技术,在高温下(540℃)生长了具有三维空间有序的白组织InGaAs/GaAs量子点超晶格结构,利用傅里叶变换红外光谱仪测量到了明显的垂直人射吸收峰,中心响应波长在11μm。
作为对比,在低温下(480℃)生长了相同的结构,傅里叶变换红外光谱几乎没有测量到明显的垂直人射吸收峰。
高分辨率X射线双晶衍射测量表明高温生长的量子点超晶格具有更好的晶体质量,原子力显微镜测量表明在高温540℃下生长的量子点具有明显的横向有序;而在低温480℃下生长的量子点并没有显示出横向有序。
在进行垂直人射的吸收测量时,为了扣除量子点超晶格的周期结构带来的干涉效应,提出使用生长条件完全相同但量子点区没有掺杂的样品作为背景,提高了测量的准确性及分辨率。
结果表明空间有序的量子点超品格结构比空间无序的量子点超晶格更适宜作红外探测器结构。
图6表0参13O472006060501导带的非抛物线性对应变I n x G a1-x A s/A l A s量子阱红外谱的影响/杨晓峰,温廷敦,张文栋(中北大学物理系)//半导体学报.―2005,26(10).―1949~1953.研究了导带非抛物线性对应变In0.84Ga0.16As/AlAs/In0.52Ga0.48As量子阱红外谱的影响。
半导体技术的关键指标与性能评估方法在当今的科技领域,半导体技术被广泛应用于各个领域,包括通信、电子设备、能源、医疗等。
为了确保半导体产品的质量和性能,在开发和生产过程中,我们需要关注一些关键指标和使用适当的性能评估方法。
本文将介绍一些常见的关键指标和性能评估方法,以帮助读者更好地理解和应用半导体技术。
一、关键指标1. 器件尺寸:半导体器件尺寸是衡量其性能和功能的重要指标之一。
通常使用纳米单位(nm)来表示器件的尺寸,如纳米级晶体管(NMOS)和互补金属氧化物半导体(CMOS)等。
2. 衰减系数:衰减系数是指半导体材料在电磁波传输过程中对信号强度的减弱程度。
衰减系数越小,半导体器件的信号传输能力越好。
3. 效率:半导体器件的效率决定了其能量转换的效率。
在太阳能电池和发光二极管(LED)等应用中,高效率是一个重要的考虑因素。
4. 噪声:噪声是指在半导体器件中产生的干扰信号。
噪声水平对于电子设备的性能和可靠性起着重要的影响。
二、性能评估方法1. 电性能测试:电性能测试是评估半导体器件的主要方法之一。
通过测量器件的电阻、电容、电流和电压等参数,可以评估其电气特性和性能。
2. 温度测试:温度是影响半导体器件性能的重要因素之一。
通过在不同温度下对器件进行测试,可以评估其在不同条件下的工作性能和稳定性。
3. 可靠性测试:可靠性测试用于评估半导体器件的寿命和可靠性。
常见的可靠性测试方法包括加速寿命测试和热循环测试等。
4. 光谱测试:光谱测试是评估光学性能的一种方法。
通过测量器件在不同波长下的反射、透射和发射等光学性能,可以评估其在光学应用中的性能。
三、结论本文介绍了半导体技术的关键指标和性能评估方法。
了解和应用这些指标和方法对于开发和生产高质量的半导体产品至关重要。
通过电性能测试、温度测试、可靠性测试和光谱测试等方法,我们能够全面评估半导体器件的性能和可靠性,确保其在各个领域中的应用效果。
希望本文能为读者提供有益的信息,促进半导体技术的发展和应用。
半导体k值
半导体K值是半导体材料在不同温度下热导率的变化量,是描述半导体温度特性的重
要参数之一。
K值越小,半导体的热导率随温度变化的越小,也就越适合用于高温环境下
的应用。
半导体的热导率是指单位时间内单位面积的热流通过材料的能力,通常用单位时间内
通过 1m2 的面积时,材料厚度为 1m 时,温度差为1℃ 时的热流量来表示,单位是
W/(m·K),即热流量每秒通过 1m2 的面积时,使温度差为1℃。
对于半导体器件来说,随温度升高,晶体中电子与晶格的相互作用加强,晶格振动增强,从而热传导受到抑制,因此热导率会随温度升高而降低。
K值就是描述这种变化的参数。
在半导体器件的设计和应用中,K值的测量是非常重要的一项工作。
K值的测量通常采用热电偶法或热电阻法。
热电偶法是在微囊中包含有待测材料和参比材料,通过将微囊暴
露于不同温度下,通过计算微囊中参比材料和待测材料之间的温度差来计算K值。
热电阻
法则是通过量测不同温度下的电阻值来计算K值。
不同半导体材料的K值不同,通常情况下,K值的大小与半导体材料的能隙大小有关。
大能隙半导体通常具有较小的K值,而小能隙半导体则具有较大的K值。
经过多年的研究
和实践,半导体器件生产商已经发展出许多不同系列的半导体材料,以适应不同用途和不
同温度范围下的应用需求。
利用K值的差异,可以进行材料的筛选和性能的优化。
在半导体器件的设计和制造中,需要注意K值的影响,制定合理的工艺和工作条件,以保证半导体器件的稳定性和可靠
性。
半导体的数值计算公式引言。
半导体材料是一类在电子学和光电学中具有重要应用的材料,其电子输运性质的计算对于半导体器件设计和性能优化具有重要意义。
本文将介绍半导体的数值计算公式,包括载流子浓度、载流子迁移率和载流子扩散系数等重要参数的计算方法。
载流子浓度的计算。
半导体中的载流子浓度是指单位体积内自由载流子的数量,其计算公式为:\[n = N_c \exp\left(\frac{E_c E_f}{kT}\right)\]\[p = N_v \exp\left(\frac{E_f E_v}{kT}\right)\]其中,\(n\)表示电子浓度,\(p\)表示空穴浓度,\(N_c\)和\(N_v\)分别为价带和导带的有效状态密度,\(E_c\)和\(E_v\)分别为导带和价带的能量,\(E_f\)为费米能级,\(k\)为玻尔兹曼常数,\(T\)为温度。
通过这些公式,可以计算出半导体中的电子和空穴浓度。
载流子迁移率的计算。
载流子迁移率是指载流子在半导体中移动的速度,其计算公式为:\[μ_n = \frac{eτ_n}{m_n}\]\[μ_p = \frac{eτ_p}{m_p}\]其中,\(μ_n\)和\(μ_p\)分别表示电子和空穴的迁移率,\(e\)为电子的电荷,\(τ_n\)和\(τ_p\)分别为电子和空穴的平均寿命,\(m_n\)和\(m_p\)分别为电子和空穴的有效质量。
通过这些公式,可以计算出半导体中电子和空穴的迁移率。
载流子扩散系数的计算。
载流子扩散系数是指载流子在半导体中扩散的速度,其计算公式为:\[D_n = \frac{kT}{e}μ_n\]\[D_p = \frac{kT}{e}μ_p\]其中,\(D_n\)和\(D_p\)分别表示电子和空穴的扩散系数,\(k\)为玻尔兹曼常数,\(T\)为温度,\(e\)为电子的电荷,\(μ_n\)和\(μ_p\)分别为电子和空穴的迁移率。
通过这些公式,可以计算出半导体中电子和空穴的扩散系数。
半导体应变片参数引言:半导体应变片是一种用于测量物体变形和应变的传感器。
它广泛应用于工程领域,如机械工程、材料科学和电子工程等。
本文将介绍半导体应变片的几个重要参数,包括灵敏度、线性度、温度效应和最大应变范围等。
一、灵敏度灵敏度是衡量半导体应变片对外界应变变化的敏感程度。
它通常用电阻变化率来表示,单位为μV/με。
灵敏度越高,说明应变片对应变的检测能力越强。
一般来说,半导体应变片的灵敏度在2-10μV/με之间。
二、线性度线性度是指半导体应变片输出电压与应变之间的关系是否呈线性关系。
线性度越高,说明应变片的输出更准确可靠。
一般来说,半导体应变片的线性度在0.1%-0.5%之间。
三、温度效应温度效应是指半导体应变片输出的电压随温度的变化情况。
由于半导体材料的温度敏感性,温度变化会对应变片的输出产生影响。
因此,要准确测量应变,需要考虑和补偿温度效应。
一般来说,半导体应变片的温度效应在0.01%/°C左右。
四、最大应变范围最大应变范围是指半导体应变片能够测量的最大应变值。
超过最大应变范围的应变会导致应变片输出不准确甚至损坏。
因此,在选用应变片时,需要根据具体应用场景确定最大应变范围。
一般来说,半导体应变片的最大应变范围在1000-10000με之间。
五、应变灵敏度应变灵敏度是指半导体应变片输出电压变化与应变之间的比值。
它是灵敏度和线性度的综合指标,可以反映应变片的整体性能。
一般来说,应变灵敏度越高,说明应变片对应变的检测能力越强。
六、响应时间响应时间是指半导体应变片从受到应变到输出电压稳定的所需时间。
响应时间越短,说明应变片对应变的响应速度越快。
一般来说,半导体应变片的响应时间在几微秒到几毫秒之间。
七、工作电压工作电压是指半导体应变片工作时所需的电压范围。
要保证应变片正常工作,需要给予适当的电压供应。
一般来说,半导体应变片的工作电压在2-10V之间。
八、稳定性稳定性是指半导体应变片长时间使用时输出电压的稳定程度。