CMOS模拟集成电路设计第5章—电流镜
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《模拟CMOS集成电路设计》5无源与有源电流镜
CMOS集成电路设计中,电流镜是一种重要的特性。
有源电流镜和无
源电流镜是典型的两种电流镜,它们的特性、使用和应用有以下不同:有源电流镜通常是指CMOS集成电路中的四期电流镜。
它包括一个有
源放大器、一个有源稳压器、三个有源电流源(I1、I2和I3)和一个有
源电流汇(I4)。
I1、I2和I3是输入端的电流源,I4是输出端的电流汇,且I4=I1+I2+I3、有源电流镜可以在输出端提供一个高精度、一致的电流值,具有良好的纹波抑制能力。
因此它非常适合于用于高精度的运算放大器、运放电路和低噪声稳压电路。
二、无源电流镜
无源电流镜是指CMOS集成电路中的二期电流镜,它只包括两个无源
电流源(I1和I2)和两个无源电流汇(I3和I4),且I4=I1+I2、无源
电流镜比有源电流镜结构简单,占用的空间少,具有较低的成本,因此用
于普通的运算放大器、运放电路和稳压电路。
但无源电流镜的精度低于有
源电流镜,并且具有较大的纹波和噪声。
总之,有源电流镜与无源电流镜在CMOS集成电路设计中有着不同的
应用和特性。
《CMOS模拟集成电路设计》课程设计项目:有源电流镜差分放大器的设计+-基本目标:设计一个有源电流镜作为负载,输入管为NMOS的差动输入到单端输出的放大器,要求尽可能满足下列要求。
不要求设计偏置电流电路,可以用3uA的恒流源替代。
工艺0.35um Psub Twin-Well CMOS Process A V >140 VDD 3.3V CMRR >30dBVSS 0V PSRR >30dB(V in,com=1.6V)P D越小越好V Out,DC 1.6VRate >1V/usCL 5pF Slew设计要求:(1) 给出满足题目要求的完整电路图(2) 根据设计目标,手工计算各MOS管的尺寸(3) 根据MOS管尺寸,手工验算设计指标是否满足(4) 利用Hspice对电路进行仿真,仿真内容包括:直流输入范围、直流输出范围、交流小信号增益、共模抑制比、电源抑制比、功耗。
(5) 对结果进行分析(6) 比较各项指标,完成下表工艺设计指标计算值仿真值是否达到指标(V IDC=01.6V)V ODC 1.6VP D <33uWA V >140CMRR >30dBPSRR >30dB报告要求:第一部分:题目要求第二部分:设计过程(1) 电路图(2) 详细的计算过程(3) MOS管尺寸汇总表(4) 手工推导验算设计指标(5) 讨论第三部分:仿真过程(1) 仿真电路图(2) 电路网表(3) 直流分析(每一种仿真的电路图、激励、仿真波形、结果分析)(4) 交流分析(每一种仿真的电路图、激励、仿真波形、结果分析)第四部分:结论完成各项指标的设计指标、计算值和仿真值的比较。
给出设计结论。
第五部分:心得体会补充说明:1、仿真报告撰写中波形图的张贴:安装Adobe Acrobat,将波形打印成黑白颜色的pdf,再将pdf中的波形图拷贝到报告中。
不要直接拷屏。
下图是一个波形实例:2、格式:采用本科毕业论文格式要求。
聊聊电流镜作者:131v1vv 本⽂来源于作者EETOP论坛帖⼦及作者公众号:不忘初⼼的模拟⼩⽜⽜这期来点轻松的,聊⼀聊你知道的和不知道的电流镜。
电流源可算是模拟集成电路中最基础的内容,也是有很多花样的基本单元。
电流源是笼统的叫法,具体会根据电流的流向,分别叫做电流源(Current Source)和电流沉(Current Sink),如图1所⽰。
图1电流源通常都是以电流镜(Current Mirror)的形式实现,可以看做是双端⼝电流放⼤器。
关注的指标为输⼊侧的最⼩输⼊电压和输⼊阻抗,输出侧的输出摆幅和输出阻抗,同时还有电流增益,如图2所⽰。
图2简单的NMOSFET的I-V特性如图3所⽰。
在线性区是向下开⼝的抛物线,在饱和区会有所区别。
理想情况下,电流不随Vds的变化⽽变化,实际情况会表现出有限甚⾄很⼩的输出阻抗。
图3随着先进⼯艺向低压低功耗的⽅向演进,MOS的⾮理想因素越来越多,如图4所⽰,这也对最简单的电流镜的设计提出了挑战。
图4电流镜改进设计中,有许多很好的结构。
我们把常见的都列出来,如图5~图8所⽰。
图5(a)是最基本的电流镜结构,图5(b)是加⼊了负反馈的威尔逊电流镜。
图5图6中为Cascode结构的电流镜及其改进形式。
其中的(e)算是⽤的⽐较多的,性能⽐较好的⼀种结构,其缺点就是需要额外的⼀路偏置电流。
图6图7(f)是贝尔实验室的Sooch于1985年,申请的专利号为4550284的美国专利提到的结构,当然图7(f)中Q3a⼯作临界饱和状态,其简单的等效原理可以表⽰为图7(g),电阻32实现⾃偏置的功能。
图7图8(h)是Aashi公司的Ichiro于1999年,申请的美国专利中提到的结构,专利号为5966005,有兴趣的可以查阅看⼀下。
在原始的专利中,Ichiro提到利⽤短沟道效应,通过使⽤不同的沟道长度,配合不同的阈值电压。
实现Q2⼯作在饱和区,从⽽实现较⾼的输出阻抗(反向短沟道效应,会使阈值随沟道长度减⼩⽽增⼤,貌似这样该结构就⽆法保证Q2⼯作在饱和区。