半导体物理_第六章学习资料
- 格式:ppt
- 大小:1.77 MB
- 文档页数:91
第六章 非平衡载流子处于热平衡状态的半导体在一定温度下载流子密度是一定的。
但在外界作用下,热平衡状态将被破坏,能带中的载流子数将发生明显改变,产生非平衡载流子。
在半导体中非平衡载流子具有极其重要的作用,许多效应都是由它们引起的,如晶体管电流放大,半导体发光和光电导等都与非平衡载流子密切相关。
在大多数情况下,非平衡载流子都是在半导体的局部区域产生的,这些载流子除了在电场作用下作漂移运动外,还要作扩散运动。
本章主要讨论非平衡载流子的运动规律及其产生和复合机理。
§6-1 非平衡载流子的产生和复合一.非平衡载流子的产生。
若用n 0和p 0分别表示热平衡时的电子和空穴密度,则当对半导体施加外界作用使之处于非平衡状态时,半导体中的载流子密度就不再是n 0和p 0了,要比它们多出一部分。
比平衡态多出的这部分载流子称过剩载流子,习惯上也称非平衡载流子。
设想有一块n 型半导体,若用光子能量大于其禁带宽度的光照射该半导体,则可将其价带中的电子激发到导带,使导带比热平衡时多出了一部分电子n ∆,价带多出了一部分空穴p ∆,从而有:0n n n -=∆ (6-1) 0p p p -=∆ (6-2) 且 n ∆=p ∆ (6-3) 式中,n 和p 分别为非平衡状态下的电子和空穴密度,n ∆称非平衡多子,p ∆称非平衡少子,对于p 型半导体则相反。
n ∆和p ∆统称非平衡载流子。
图6-1为光照产生非平衡载流子的示意图。
通过光照产生非平衡载流子的方法称光注入,如果非平衡载流子密度远小于热平衡多子密度则称小注入。
虽然小注入对多子密度的影响可以忽略,但是对少子密度的影响却可以很大。
光注入产生的非平衡载流子可以使半导体的电导率由热平衡时的0σ增加到σσσ∆+=0,其中,σ∆称附加电导率或光电导,并有:p n pe ne μμσ∆+∆=∆ (6-4) 若n ∆=p ∆,则 )(p n pe μμσ+∆=∆ (6-5) 通过附加电导率的测量可直接检验非平衡载流子是否存在。
山东大学《半导体物理》期末复习知识点第六章 pn结6.1 理论概要与重点分析(1)pn结是将同种半导体材料的n型和p型两部分紧密结合在一起,在交界处形成一个结,即称为pn结。
为使性能优越,一般采用合金法、扩散法、外延生长法和离子注入法等,改变其掺杂性质来实现这种“紧密接触”的。
pn结是重要半导体器件,如结型晶体管及其相应的集成电路的工作核心。
设两种杂质的交界面为xj,如果杂质有一个较宽的补偿过度阶段,为缓变结,较深的扩散法一般属此种情况。
(2)由于在结的两边两种载流子相差悬殊而发生扩散。
n区中的电子流入p区,在结附近留下不可以移动的电离施主;同样p区中的空穴流入n区在结的附近留下不可移动的电离受主,形成一个n区为正,p区为负的电偶极层,产生由n区指向p区的自建电场,此电场的作用是阻止载流子进一步相互扩散。
或者说产生了一个与扩散相反的载流子漂移,当两者达到平衡时,载流子通过结的净流动为零,达到平衡。
建立起一个稳定的空间电荷区和一个稳定的自建电场。
n型的一边带正电,电动势高;p型一边带负电,电势低,所产生电动势差称为pn结接触电动势差。
这个电动势差对n型区的电子和p型区的空穴各自向对方,运动都形成势垒,使整个结构在结区形成能带弯曲,其弯曲的高度称为势垒高度,它恰恰补偿了原来两边半导体中费米能级的高度差,使两边达到等高的统一费米能级。
山东大学《半导体物理》期末复习知识点(3)pn结上加正向电压V(p型一端接正,n型一端接负)时,外加电压电场与内建电场的方向相反,使内建电场减弱,势垒区变窄,势垒高度由平衡时的q VD变为q(VD-V)。
两区的费米能级分开为EnF-EpF=qV这时由内建电场引起载流子的漂移减弱,扩散相对增强。
于是有一个净的扩散电流从p区通过结流入n区,这便是pn结的正向电流。
随外加电压V的增加,势垒高度越来越小,载流子漂移越来越小,扩散进一步增加。
因此随外加正向电压的增加,正向电流迅速增大。