露光(黄光)制程介绍
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1、PR前清洗ITOGLASS清洗指用物理的方法(磨刷喷洗)和化学的方法(去离子水DI 水和KOH)将玻璃表面的脏污和油污、杂质除去并干燥的过程2、PR涂佈指在玻璃的导电层表面均匀涂上一层光刻胶3. 前烘指在一定温度下将涂有光刻胶的玻璃烘一段时间、使光刻胶的溶剂挥发,形行成固体的PR层4. 曝光指用紫外线通过预先设置好的菲林垂直照射光刻胶表面,使被照射部分的光刻胶发生反应5、显影指用弱KOH溶液去离玻璃表面将径光照射部分的光刻胶除去,保留未照射部分的光刻胶6、坚膜指将玻璃在径一次高温处理,使光刻胶膜更加坚固。
7、蚀刻指用适当的酸液将无光刻胶覆盖的ITO层除去,这样就得到了我们所需要的ITO 电极图形。
8、脱膜指用较强的KOH剥膜液将残留光刻胶除去,将玻璃表面清洗干燥1. PR前清洗A.清洗:指清除吸附在玻璃表面的各种有害杂质或油污。
清洗方法是利用各种化学浓剂(KOH)和有机浓剂与吸附在玻璃表面上的杂质及油污发生化学反应和浓解作用,或以磨刷喷洗等物理措施,使杂质从玻璃表面脱落,然后用大量的去离子水(DI水)冲洗,从而获得洁净的玻璃表面。
(风切是关键)B.干燥:因经过清洗后的玻璃,表面沾有水或有机浓剂等清洗液。
这样会对后续工序造成不良影响,特别是对后续光刻工艺会产生浮胶、钻蚀、图形不清晰等不良现象。
因此,清洗后的玻璃必须经过干燥处理。
目前常采用的方法是烘干法,而是利用高温烘烤,使玻璃表面的水分气化变为水蒸气而除去的过程,此方法省时又省力。
但是如果水的纯度不变,空气净化等不多或干燥机温度不够,玻璃表面残存的水分虽经气化为蒸气,但在玻璃表面还会留下水珠,这种水珠将直接影响后续工序的产品质量C. 十槽清洗机PR清洗机制程参数设定1---3槽KOH溶液为0.4~0.7N,温度为60±5℃,浸泡时间为2~3min/槽纯水溢流量为0.5±0.2㎡/n. KOH溶度为1.0N~1.6N,温度为40±5℃,喷洗压为0.2~1.0kgf/c㎡,传动速度为3.0~4.5m/min,磨刷转速为85~95rpm,压力为0.2~1.0kg/c㎡,纯水温度为40±5℃,干燥机1.2.3段温度为110℃±10℃。
黄光制程
黄光制程(also known as黄色光刻技术)是一种微电子制程中常用的制造技术,它广泛应用于芯片制造和半导体工业。
黄光制程利用光刻和影像传输来定义微电子设备中的图案和结构。
黄光制程包括以下几个步骤:
1. 制备底片:将待制造的芯片涂覆在一个平坦的基片(通常是硅片)上。
2. 涂覆光刻胶:将光刻胶均匀涂覆在芯片上。
光刻胶可以在曝光后形成所需的图案。
3. 曝光:使用光刻机将芯片暴露在特定的光源下,光刻胶将在所暴露的区域发生化学反应。
4. 显影:用显影剂将未暴露的部分光刻胶去除,形成所需的图案。
5. 蚀刻:使用化学或物理的腐蚀方法去除裸露的芯片表面材料,形成所需的结构。
6. 清洗和检验:将芯片清洗干净并进行质量检验,以确保芯片制造的质量与要求相符。
黄光制程是制造集成电路和其他微电子器件的核心技术之一,它可以实现高精度和高分辨率的图案定义。
随着微电子技术的不断发展,黄光制程也在不断改进和演进,以满足日益复杂和精细的设备制造需求。
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黄光工艺触摸屏
黄光工艺触摸屏是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置,当接触了屏幕上的图形按钮时,屏幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动各种连结装置,可用以取代机械式的按钮面板,并借由液晶显示画面制造出生动的影音效果。
原理特征
利用压力感应进行控制触摸屏。
触摸屏作为一种最新的电脑输入设备,它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。
它赋予了多媒体以崭新的面貌,是极富吸引力的全新多媒体交互设备。
黄光工艺
微影技术说起,即可略知一二。
微影技术是将光罩上的主要图案先转移至感光材料上,利用光线透过光罩照射在感光材料上,再以溶剂浸泡将感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留,如此所形成的光阻图案会和光罩完全相同或呈互补。
由于微影制程的环境是采用黄光照明而非一般摄影暗房的红光,所以这一部份的制程常被简称为“黄光”。
微影制程很好地实现了黄光工艺触摸屏视觉上的精准度。
应用
主要应用于公共信息的查询、领导办公、工业控制、军事指挥、电子游戏、点歌点菜、多媒体教学、房地产预售等。
iphone5感应线路就是采用黄光工艺的触摸电容屏,此种电容屏有助于手机在超窄边框上面布线,使手机工艺如钟表般精细,更薄,身材更漂亮,更有利于超窄边款手机的散热,更是贴合技术的绝配。
触摸屏黄光制程介绍触摸屏黄光制程介绍高精度网印制版及印刷技术是触摸屏制程中的核心技术,随着触摸屏市场的迅猛发展,对触摸屏生产成本和技术的要求也越来越高,谁的成本低、技术精,谁就能抢先占领市场,这同时也给触摸屏厂家就选择什么制程更能符合公司长远发展提出了疑问,那么触摸屏厂家到底是选择黄光制程还是印刷制程呢?11. 51Touch:利满洋行主要从事滚筒印刷制程,是这方面的专家,请您就目前黄光制程和滚筒印刷制程的区别做一个详细的介绍吧。
利满洋行:黄光制程和滚筒印刷制程就印刷制程而言,在成本和工艺上还是有很大区别的,我这里有一个比较详细的描述与大家分享一下:一、TP厂 : 黄光制程 vs 印刷制程黄光制程 vs 印刷制程二、黄光制程与滚筒网印的投资评估比较.1.) 黄光制程设备投资成本昂贵.- 黄光制程投资额由RMB 20M-70M不等,如卷对卷制式更不止此数,- 上下游工序、材料均须另作配合,- 樱井滚筒机的投资额相对是小巫见大巫了。
2.) 黄光制程设备占地面积较大, 影响生产厂使用的灵活性.任何工厂需要生产安排的灵活性,纵使黄光制程有其优点,而优点往往从接“大单“中才能反映出来,因其制程必须使用一定的蚀刻用化学剂,TP工厂接单的“单头量”直接影响每件成本,而现今电子产品讲求多花样,推陈出新是生存之道,所以TP厂的灵活性不是任何先进生产方式可以代替的。
樱井滚筒机设备摆放也不需要特定的楼层/位置, 而生产时只需要换网板就能马上生产不同尺寸的型号机种了。
3.) 制程设备投资与长远使用性风险评估.黄光制程是30多年前由MEMS 开始在半导体业界采用,20多年前TFT LCD厂家也开始使用,后来应用面扩展到PV 和TP,相对于PV 和TFT , TP结构比较有多变的空间,尤其各品牌都追求薄和轻,这趋势都直接引伸出不同的工艺模式,高昂的黄光制程投资额使投资风险一直成为决策的最大障碍。
在国内TFT 用黄光也不到10年,TP就更不用说了,但网印在国内累积了大量经验和人材,而TP厂的网印技术与人才皆是公司的重要资产,企业投资在现成和累积的资产上,使它延伸及增值,对长线企业发展最为有利。
黄光工艺1. 介绍黄光工艺(Golden Photolithography)是一种常用于集成电路制造过程中的生产工艺,主要用于芯片上的图案形成和微影扩大。
它是将光通过透镜传导到光刻胶上,通过光刻胶的化学反应将图案转移到硅片上的一种技术。
黄光工艺在现代芯片制造过程中起着重要的作用,它可以制造出高分辨率、高精度的微细图案,使得芯片性能得到提升。
本文将介绍黄光工艺的原理、步骤和应用。
2. 工艺步骤黄光工艺主要包括以下步骤: 1. 制备硅片:首先,需要选择适当纯度的硅片,并进行表面处理,以确保图案能够精准地转移到硅片上。
2. 涂覆光刻胶:将光刻胶均匀地涂覆在硅片表面,形成一层厚度均匀的光刻胶薄膜。
3. 预烘烤:将涂覆有光刻胶的硅片进行预烘烤,使得光刻胶在硅片表面形成薄膜,并且排除其中的气泡。
4. 掩膜/曝光:在光刻胶表面放置一张掩膜,掩膜上有所需的图案,然后利用光刻机进行曝光,使得掩膜上的图案转移到光刻胶上。
5. 显影:将曝光后的硅片浸泡在显影液中,使得未曝光的光刻胶被溶解掉,形成所需的图案。
6. 清洗:清洗已经显影完毕的硅片,去除掉余下的光刻胶和显影液。
7. 退火:通过高温退火的过程,使得光刻胶更加牢固地附着在硅片上。
8. 重复以上步骤:根据需要,可以重复以上步骤,逐步形成复杂的图案。
3. 黄光工艺的原理黄光工艺的原理是利用光的作用,将图案转移到光刻胶上。
其基本原理如下:1. 光刻胶的感光性:光刻胶在曝光的过程中会发生化学反应,可被光的能量激发。
2. 掩膜的功能:掩膜上有所需的图案,它会在光的照射下,将图案投射到光刻胶上。
3. 光的传导:通过光刻机中的透镜和光源,使得光能被聚焦并传导到掩膜上。
4.显影液的作用:显影液能够溶解掉未经曝光的光刻胶,使得图案出现。
4. 应用领域黄光工艺广泛应用于集成电路制造、光电子器件制造、传感器制造等领域。
它可以高精度地制造出微细的芯片结构,实现更小、更快的集成电路和传感器等器件。