HDI_制作流程
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HDI基本知识制作流程随着电子行业日新月异的变化,电子产品向着轻、薄、短、小型化发展,相应的印制板也面临高精度、细线化、高密度的挑战。
全球市场印制板的趋势是在高密度互连产品中引入盲、埋孔,从而更有效的节省空间,使线宽、线间距更细更窄。
一.HDI定义HDI:high Density interconnection的简称,高密度互连,非机械钻孔,微盲孔孔环在6mil以下,内外层层间布线线宽/线隙在4mil以下,焊盘直径不大于0.35mm的增层法多层板制作方式称之为HDI板。
盲孔:Blind via的简称,实现内层与外层之间的连接导通埋孔:Buried via的简称,实现内层与内层之间的连接导通盲埋孔大都是直径为0.05mm~0.15mm的小孔,埋孔在內層薄板上按正常雙面板製作,而盲孔成孔方式有激光成孔,等离子蚀孔和光致成孔,通常采用激光成孔,而激光成孔又分为CO2和YAG紫外激光机(UV)。
二.HDI板板料1.HDI板板料有RCC, FR4,LD PP1)RCC:Resin coated copper的简称,涂树脂铜箔。
RCC是由表面经粗化、耐热、防氧化等处理的铜箔和树脂组成的,其结构如下图所示:(我司要求樹脂厚度需>4mil时才使用RCC)RCC的树脂层,具备与FR一4粘结片(Prepreg)相同的工艺性。
此外还要满足积层法多层板的有关性能要求,如:(1)高绝缘可靠性和微导通孔可靠性;(2)高玻璃化转变温度(Tg);膨脹係數CTE較大(3)低介电常数和低吸水率;(4)对铜箔有较高的粘和强度;但其peel strenth較差(5)固化后绝缘层厚度均匀同时,因为RCC是一种无玻璃纤维的新型产品,有利于激光、等离子体的蚀孔处理,有利于多层板的轻量化和薄型化。
另外,涂树脂铜箔具有9um,12um,18um等薄铜箔,容易加工。
2)FR4板料:我司要求樹脂厚度<=4mil时需使用FR4。
使用PP时一般采用1080, 尽量不要使用到2116的PP3)LD PP:一種可激光鑽孔的粘結片2. 铜箔要求:当客户无要求时,基板上铜箔在传统PCB内层优先采用1 OZ,HDI板优先使用HOZ,内外电镀层铜箔优先使用1/3 OZ。
pcb行业hdi生产工艺HDI(High Density Interconnect)是PCB行业中一种生产工艺,其主要特点是相对于传统的PCB,具有更高的线路密度和更小的尺寸。
本文将介绍HDI生产工艺的主要步骤和特点。
HDI生产工艺主要包括以下几个步骤:设计,材料准备,制造和测试。
在设计阶段,设计师将根据产品要求绘制PCB线路图,并确定使用HDI工艺进行制造。
设计师还需要考虑电路板上各个组件的布局,以最大程度地提高线路密度,并减少电路板的尺寸。
此外,还需要考虑信号完整性和电磁兼容性等方面的需求。
在材料准备阶段,制造商将根据设计要求选择相应的材料。
HDI生产工艺通常使用厚膜、薄膜和微细孔填充材料。
这些材料具有良好的导电性能和粘附性能,能够满足高密度线路的需求。
此外,还需要准备其他必要的物料,如镀铜液、镀锡液等。
在制造阶段,制造商将使用一系列工艺步骤来制造HDI电路板。
首先,将预先铺好的基材放入数控铣床中进行切割,得到板材的形状和尺寸。
然后,通过激光钻孔或机械钻孔的方式在板材上进行孔的加工。
接下来,在表面上涂覆层厚膜材料,以增加线路的导电性能。
然后,在细孔中填充微细孔填充材料,以便后续的线路连接。
最后,在电路板表面涂覆薄膜材料作为保护层,并使用镀铜和镀锡工艺对电路板进行加工。
整个制造过程需要高度精密的机器和设备来确保产品的质量。
最后,通过测试阶段对制造好的HDI电路板进行测试。
测试人员将使用专用的测试设备来测试电路板的性能和功能。
测试过程包括电气测试、可靠性测试和外观检查等。
如果电路板通过测试,将继续进行下一步的组装工艺,如焊接电子元件等。
如果电路板未通过测试,则需要进行修复或重新制造。
HDI生产工艺具有以下几个特点:1. 高线路密度:HDI电路板的线路密度远高于传统的PCB。
这使得HDI电路板可以在更小的尺寸上容纳更多的电子组件,从而满足了如今电子产品对小型化和轻量化的需求。
2. 优异的电性能:HDI生产工艺中使用的材料具有良好的导电性能和粘附性能,可以有效地减少信号损失和干扰,提高信号完整性和电磁兼容性。
基本知识及制作流程随着电子行业日新月异的变化,电子产品向着轻、薄、短、小型化发展,相应的印制板也面临高精度、细线化、高密度的挑战。
全球市场印制板的趋势是在高密度互连产品中引入盲、埋孔,从而更有效的节省空间,使线宽、线间距更细更窄。
一.HDI定义HDI:high Density interconnection的简称,高密度互连,非机械钻孔,微盲孔孔环在6mil以下,内外层层间布线线宽/线隙在4mil以下,焊盘直径不大于0.35mm的增层法多层板制作方式称之为HDI板。
盲孔:Blind via的简称,实现内层与外层之间的连接导通埋孔:Buried via的简称,实现内层与内层之间的连接导通盲进孔大都是直径为0.05mm~0.15mm的小孔,埋盲孔成孔方式有激光成孔,等离子蚀孔和光致成孔,通常采用激光成孔,而激光成孔又分为CO2和YAG紫外激光机(UV)。
二.HDI板板料1.HDI板板料有RCC,LDPE,FR41)RCC:Resin coated copper的简称,涂树脂铜箔。
RCC是由表面经粗化、耐热、防氧化等处理的铜箔和树脂组成的,其结构如下图所示:(厚度>4mil时使用)RCC的树脂层,具备与FR一4粘结片(Prepreg)相同的工艺性。
此外还要满足积层法多层板的有关性能要求,如:(1)高绝缘可靠性和微导通孔可靠性;(2)高玻璃化转变温度(Tg);(3)低介电常数和低吸水率;(4)对铜箔有较高的粘和强度;(5)固化后绝缘层厚度均匀同时,因为RCC是一种无玻璃纤维的新型产品,有利于激光、等离子体的蚀孔处理,有利于多层板的轻量化和薄型化。
另外,涂树脂铜箔具有12pm,18pm等薄铜箔,容易加工。
2)LDPE:3)FR4板料:厚度<=4mil时使用。
使用PP时一般采用1080, 尽量不要使用到2116的PP2. 铜箔要求:当客户无要求时,基板上铜箔在传统PCB内层优先采用1 OZ,HDI板优先使用HOZ,内外电镀层铜箔优先使用1/3 OZ。
HDI制作流程培训教程(增加附录条款)HDI(HighDensityInterconnector)制作流程培训教程1.前言本教程旨在为初学者提供HDI(HighDensityInterconnector)制作的详细流程,帮助读者掌握HDI制作的基本知识和技能。
通过本教程的学习,读者将能够了解HDI的制作原理、流程和关键环节,为从事相关工作奠定基础。
2.HDI简介HDI(HighDensityInterconnector)是一种高密度互连技术,主要用于印刷电路板(PCB)的制作。
HDI技术可以提高PCB的布线密度,减小PCB尺寸,降低信号传输延迟,提高信号完整性,从而满足高性能电子产品对PCB的要求。
HDI技术在方式、笔记本电脑、服务器等电子产品中得到了广泛应用。
3.HDI制作流程3.1材料准备1.基材:通常采用FR-4环氧玻璃布基材,具有良好的绝缘性能和机械强度。
2.铜箔:用于制作PCB的导电层,分为压延铜箔和电解铜箔两种。
3.焊接掩模:用于保护铜箔在焊接过程中不受氧化,提高焊接质量。
4.抗剥油:用于防止铜箔在后续工序中被剥离。
5.线路油墨:用于绘制线路图案。
6.抗焊油墨:用于保护线路在焊接过程中不受氧化。
7.焊接材料:如焊锡膏、助焊剂等。
3.2基材处理1.剪裁:根据设计要求,将基材剪裁成所需尺寸。
2.清洗:去除基材表面的污渍、油渍等,以保证后续工序的顺利进行。
3.打磨:对基材表面进行打磨,提高基材与铜箔的结合力。
3.3铜箔贴附1.涂覆抗剥油:在基材表面涂覆一层抗剥油,防止铜箔在后续工序中被剥离。
2.贴附铜箔:将铜箔贴附在基材上,采用热压或真空吸附等方式。
3.4线路制作1.涂覆线路油墨:在铜箔表面涂覆一层线路油墨,用于绘制线路图案。
2.曝光:将涂覆有线路油墨的铜箔暴露在紫外光下,使线路图案固化。
3.显影:将未固化的线路油墨清洗掉,露出铜箔上的线路图案。
4.蚀刻:将铜箔上未涂覆线路油墨的部分腐蚀掉,形成线路。