陕西科技大学过程装备与控制工程 电工,化工,热工综合复习资料汇总

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2.1.1导体、半导体和绝缘体 自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体。 有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。 另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。 半导体的导电机理不同于其它物质,所以它具有不同于其它物质的特点。比如: 1、当受外界热和光的作用时,它的导电能力明显变化。(制作特殊器件) 2、往纯净的半导体中掺入某些杂质,会使它的导电能力明显改变。(有可控性) 2.1.2 本征半导体 一、本征半导体的结构特点 现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。 完全纯净的、结构完整的半导体晶体,称为本征半导体。 二、本征半导体的导电机理 1、载流子、自由电子和空穴 在绝对0度(T = 0K)和没有外界激发时,价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子,它的导电能力为0,相当于绝缘体。 载流子:运动的带电粒子称为 在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子。同时共价键上留下一个空位,称为空穴。 本征半导体中存在数量相等的两种载流子,即自由电子和空穴。 2、本征半导体的导电机理描述 本征半导体中电流由两部分组成:自由电子移动产生的电流。空穴移动产生的电流。 本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。常温下本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。 温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。(温↑导电能力↑) 2.1.3杂质半导体 在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会使半导体的导电性能发生显著变化。其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大大增加。 N 型半导体:使自由电子浓度大大增加的杂质半导体,也称为(电子半导体)。 P 型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,也称为(空穴半导体)。 (N电P空) 一、N型半导体 自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子) 二、P型半导体 掺入少量的三价元素,如硼(或铟),多产生一个空穴。这个空穴可能吸引束缚电子来填补,使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。(P:空穴+负离子) 2.2PN结及半导体二极管 PN结的形成: 多子扩散(扩散运动)-形成->空间电荷区-产生->内电场(漂移运动)-使->扩散减弱,漂移增加-扩散电流等于漂移电流->动态平衡-形成->稳定的PN结 二、PN结的特性 1.PN结的单向导电性 PN结加上正向电压、正向偏置的意思都是:P区加正、N区加负电压。 PN结加上反向电压、反向偏置的意思都是:P区加负、N区加正电压。 (正向偏置是P接正电压) PN结正向偏置:内电场被削弱,多子的扩散加强能够形成较大的扩散电流(mA),认为PN结导通。注意:串电阻限流。(正极给P提供正电流,促进扩散) PN结反向偏置:内电场被加强,多子的扩散受抑制。少子漂移加强,但少子数量有限,只能形成较小的反向电流。认为PN结截止。形成的微小电流称为反向饱和电流(㎂)。 PN结的导电特性:由上可知,PN结加正向电压时导通,有较大的电流(多子形成);而加反向电压时截止,仅有反向饱和电流(少子形成)。所以, PN结具有单向导点特性。 2、PN结的伏安特性

PN结伏安特性方程:1TUuSeIi 式中:Is为反向饱和电流;UT 为温度电压当量,当T=300K时(绝对温度),UT≈26mV(记住) 加正向电压:u>0,且u >> UT时,伏安特性呈非线性指数规律 ; 加反向电压:u<0,且︱u︱>> UT时,电流基本与u无关; 3、PN结的反向击穿特性 当PN结的反向电压增大到一定值时,反向电流随电压数值的增加而急剧增大,称为反向击穿。 PN结的反向击穿有两类:齐纳击穿和雪崩击穿。无论发生哪种击穿,若对其电流不加以限制,都可能造成PN结的永久性损坏。 4.PN 结电容效应 PN 结之间有电容,此电容由两部分组成:势垒电容CB和扩散电容CD。 *5、PN结温度特性 当温度升高时,PN结的反向电流增大,正向导通电压减小。这也是半导体器件热稳定性差的主要原因。 2.2.2半导体二极管 1二极管的伏安特性 Uth:死区电压。Uth = 0.5 V(硅管)0.1 V(锗管) 正向特性:0UUth,iD = 0;UUth,iD急剧上升。UD=硅管取0.7V,锗管取0.3 V 反向特性:︱U(BR)︱>︱U︱ >0,iD=IS;︱U ︱>︱U(BR)︱,反向电流急剧增大(反向击穿) 2主要参数 (1)最大整流电流 IOM:二极管长期使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。 (2)反向击穿电压VBR:二极管反向击穿时的电压值。 (3)反向电流 IR:指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。 2.3特殊二极管 2.3.1稳压二极管 工作条件:反向击穿(曲线越陡,电压越稳定) 特点: 1)工作于反向击穿状态。 2)利用反向伏安特性上电流在一定范围内变化,稳压管两端的电压基本不变的特点进行稳压。 稳压二极管的参数 1.稳定电压UZ:流过规定电流时稳压管两端的反向电压值。 2.稳定电流IZ:越大稳压效果越好,小于 Imin时不稳压。 3.最大工作电流IZM最大耗散功率 PZM:P ZM=UZIZM

4.动态电阻rZ:ZZIUZr 5.稳定电压温度系数CT(略) 2.4双级型晶体三极管 2.4.1BJT的结构及类型 集电区:面积较大作用是收集载流子。(厚) 基区:较薄,掺杂浓度低作用是控制和传递载流子(薄,浓低) 发射区:掺杂浓度较高,作用是发射载流子(浓高) 集电结,发射结 NPN型三极管,PNP型三极管 二、分类 按材料分:硅管、锗管 按结构分:NPN、PNP 按使用频率分:低频管、高频管 按功率分:小功率管 < 500 mW;中功率管 0.51W;大功率管>1W 2.4.2BJT的电流放大作用 共基极,共集电极,共发射极(略P69) 1. 三极管放大的条件 内部条件:发射区掺杂浓度高,基区薄且掺杂浓度低,集电结面积大 外部条件:发射结正偏,集电结反偏(发射极出电流,集电极入电流) 2、电流放大原理(放大状态)(看书P48) 发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。 进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IB,多数扩散到集电结。 基区空穴向发射区的扩散可忽略。 从基区扩散来的电子作为集电结的少子,漂移进入集电结而被收集,形成IC。 集电结反偏,有少子形成的反向电流ICBO。(自:这里可忽略) IB=IBE-ICBOIBE IC=ICE+ICBO ICE IE=IC+IB

ICE 与 IBE 之比称为直流电流放大倍数:BCBECEIIII 2.4.3BJT的特性曲线 (1) 输入特性

常数CE)(BEBuufi,0若:CEu,与二极管特性相似

死区电压:硅管0.5V,锗管0.2V(自:出题可能会出现结果为零的情况) 工作压降:硅管UBE0.6~0.7V,锗管UBE0.2~0.3V。(自:按电压降去处理) (2)输出特性 此区域满足IC=IB称为线性区(放大区)。当UCE大于一定的数值时,IC只与IB有关,IC=IB。 此区域中UCEUBE,集电结正偏,IB>IC,UCE0.3V称为饱和区。(自:IB>IC常作为判定饱和状态的条件) 此区域中 : IB=0,IC=ICEO,UBE< 死区电压,称为截止区。 输出特性三个区域的特点: 1、放大区:发射结正偏,集电结反偏。即:IC=IB ,且IC =IB(放大:发正集反) 2、饱和区:发射结正偏,集电结正偏。即:UCEUBE,IB>IC(饱和:发正集正) 3、截止区:UBE2.4.4BJT的主要参数

1.电流放大倍数___和

共射直流电流放大倍数:BCII___;共射交流电流放大倍数:BIIC 2.集-基极反向截止电流ICBO(自:集电极->基极的电流) ICBO是集电结反偏由少子的漂移形成的反向电流,受温度的变化影响。 3. 集-射极反向截止电流ICEO ICEO=IBE+ICBO (自:这里不是很重要) 4.集电极最大电流ICM 集电极电流IC 上升会导致三极管的值的下降,当  值下降到正常值的三分之二时的集电极电流即为ICM。 5.集-射极反向击穿电压(自:这里不是很重要) 当集--射极之间的电压UCE超过一定的数值时,三极管就会被击穿。手册上给出的数值是25C、基极开路时的击穿电压U(BR)CEO。 6. 集电极最大允许功耗PCM 集电极电流IC流过三极管,所发出的焦耳热为:PC=ICUCE,必定导致结温上升,所以PC有限制。PCPCM 安全工作区:ICUCE=PCM 重点1:三极管的放大作用(电流分配)

BCII;BCEIII;BEII)1(

重点2:三极管的三个工作状态特征 放大状态:反射结正偏,集电结反偏。(放大:发正集反) 饱和状态:反射结正偏,集电结正偏。(饱和:发正集正) 截止状态:反射结反偏,集电结反偏。(截止:发反集反) 四、晶体管电路的基本问题和分析方法 判断导通还是截止:UBE> U(th)则导通,UBE < U(th)则截止 状态 电流关系 条 件

放大 IC = IB 发射结正偏,集电结反偏 饱和 临界 IC  IB ICS =  IBS 两个结正偏 集电结零偏

截止 IB < 0, IC = 0 两个结反偏 判断饱和还是放大: 1. 电位判别法 NPN管:放大:UC>UB>UE,饱和:UE