结构类产品电镀设计规范
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FOXCONN-NWE
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品质管理系统 主题:
结构类产品电镀设计规范 文件编号:
fox0000000000
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FOXCONN技术规范
****** 前 言 ******
本规范根据FOXCONN产品设计要求及实际生产状况而制定;
本规范参考相关国家标准、行业标准制定;
本规范适用于FOXCONN结构设计部门结构类产品设计中电镀件的设计规范或参考依据。
本规范于2004年5月1日首次发布,从发布日起,深圳FOXCONN相关电镀件的设计、检验参照此规范执行。
附加说明:
起草单位:深圳FOXCONN-NWE事业群
解释单位:深圳FOXCONN-NWE事业群
拟订:
审核:
标准化:
批准:
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****** 目录 ******
前言„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„1
目录„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„2
修订履历„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„3
1、适用范围„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„4
2、引用标准„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„4
3、术语„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„4
4、电镀的表示„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„4
5、电镀和化学处理层在产品图纸上的标注„„„„„„„„„„9
6、电镀层和化学处理层使用条件分类„„„„„„„„„„„„9
7、电镀和化学处理前零件质量的规定„„„„„„„„„„„„9
8、电镀层及化学处理层的技术要求„„„„„„„„„„„„„10
9、检验方法与验收规则„„„„„„„„„„„„„„„„„„15
10、电镀层和化学处理层的质量检查„„„„„„„„„„„„15
11、缺陷处理„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„15
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**** 修订履历 ******
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1、适用范围
1.1本规范规定了FOXCONN的结构件产品上电镀的一般技术规范及质量要求。
1.2 本规范规定了金属镀覆和化学处理的表示方法,适用于金属和非金属制件上进行电镀、化学镀、化学处理和电化学处理的表示方法。
本规范适用于FOXCONN电镀的工艺鉴定和生产质量鉴定。
1.3 本规范所要求的电镀层只适用于一般环境。
2、引用标准
GB/T 13911-1992 金属镀覆和化学处理表示方法
GB/T 4956-1985 磁性金属基体上非磁性覆盖层厚度测量-磁性方法
GB/T 5270-1985 金属基体上金属覆盖层-附着强度试验方法
GB/T 6458-1986 金属覆盖层-中性盐雾试验(NSS试验)
GB/T 6461-1986 金属覆盖层-对底材为阴极的覆盖层腐蚀试验后的电镀试样的评级
GB/T 6462-1986 金属和氧化物覆盖层-横断面厚度显微镜测量方法
GB/T 9792-1988 金属材料上的转化膜-单位面积上膜层质量的测定-重量法
GB/T 12610-1990 塑料上电镀层-热循环试验
3、术语
3.1主要表面:
在工件的某些表面上,其镀层对制件的外观和(或)使用性能起着重要作用。
3.2厚度:
工件的主要表面上,凡是能与直径为20mm的球体相接触的部位上的厚度的最小值。
4、镀覆及化学处理的表示方法
4.1镀覆的表示方法:
基体材料/镀覆方法·镀覆层名称镀覆层厚度镀复层特征·后处理
4.2化学处理表示方法:
基体材料/处理方法·处理名称处理特征·后处理(颜色)
4.3基体材料为钢铁材料时,其符号允许省略。
4.4镀覆层的特征、厚度、颜色及后处理无具体要求时,其符号允许省略。
例1: Fe/Ep·Cu10Ni15Cr0.3mc
(钢材,电镀铜10μm以上,光亮镍15μm以上,微裂纹铬0.3μm以上)
例2: Fe/Ep·Zn7·c2C
(钢材,电镀锌7μm以上,彩虹铬酸盐处理2级C型)
例3: Cu/Ep·Ni5bCr0.3r
(铜材,电镀光亮镍5μm以上,普通铬0.3μm以上)
例4: Fe/Ep·Cu20Ap·Ni10Cr0.3cf FOXCONN-NWE
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(铜材,电镀铜20μm以上,化学镀镍10μm以上,电镀无裂纹铬0.3μm以上)
例5: PL/Ep·Cu10bNi15bCr0.3
(塑料,电镀光亮铜10μm以上,光亮镍15μm以上,普通铬0.3μm以上。普通铬符号r省略)
4.5 若对化学处理和电化学处理的处理特征、后处理或者颜色无具体要求时,其符号允许省略。
例1: AL/Et·A·Cl(BK)
(铝材,电化学处理,阳极氧化,着黑色,对阳极氧化方法无特别要求)
例2: Cu/Ct·P
(铜材,化学处理,钝化)
例3: Fe/Ct·MnPh
(钢材,化学处理,磷锰酸盐处理)
例4: AL/Et·Ec
(铝材,电化学处理,电解着色)
4.6表示符号:
4.6.1基体材料表示符号:
金属材料用化学元素符号表示,合金材料用其主要成分的化学元素符号表示,非金属材料用国际通用缩写字母表示,如铜用Cu表示,塑料用PL表示。
4.6.2镀覆方法和处理方法的表示符号见下表:
方法名称 英 文 符 号
电镀 Electroplating EP
化学镀 Autocatalytic plating AP
电化学处理 Electrochemical treatment Et
化学处理 Chemical treatment Ct
4.6.3 镀覆层表示符号:
4.6.3.1 镀覆层名称用镀层的化学元素符号表示。
4.6.3.2 合金镀覆层的名称以组成该合金的各化学元素符号和含量表示。
4.6.3.3 如果需要表示某种金属镀覆层的金属纯度时,可在该金属的元素符号后面用括号( )列出质量百分数,精确至小数点后一位。
4.6.3.4 进行多层镀覆时,按镀覆先后,自左至右顺序标出每层的名称、厚度和特征,每层的标记之间应空出一个字母的宽度。也可标出最后镀覆层的名称和总厚度,并在镀覆层名称外加圆括号,以与单层镀覆层相区别,但必须在相关技术文件中加以说明或规定。
例: Fe/Ep·(Cr)25b FOXCONN-NWE
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(钢材,表面电镀铬,组合镀覆层特征为光亮,总厚度25μm以上,中间镀覆层按有关规定执行)
4.6.4 镀覆层厚度表示符号
镀覆层厚度用阿拉伯数字表示,单位为μm。厚度数字标在镀覆层名称后面,该数值为镀覆层厚度范围的下限。必要时,可以标注镀层厚度范围。
例:Cu/Ep·Ni5Au1~3
(铜材,电镀镍5μm以上,金1~3μm)
4.6.5 化学处理和电化学处理名城的表示符号见下表:
处 理 名 称 英 文 符 号
钝 化 Passiving P
氧 化 Oxidation O
电解着色 Electrolytic coloring Ec
磷化磷酸盐处理 磷酸锰盐处理 Manganese phosphate treatment MnPh
磷酸锌盐处理 Zinc Phosphate treatment ZnPh
磷酸锰锌盐处理 Manganese zinc phosphate treatment
MnZnPh
磷酸盐钙盐处理 Zinc calcium phosphate treatment ZnCaPh
阳极氧化 硫酸阳极氧化 Sulphuric acid anodizing A(S)
铬酸阳极氧化 Chromic acid anodizing A(Cr)
磷酸阳极氧化 Phosphoric acid anodizing A(P)
草酸阳极氧化 Oxalic acid anodizing A(O)
注:对磷化和阳极氧化无特别要求时,允许只标注Ph(磷酸盐处理符号)或A(阳极氧化符号)。
4.6.6 镀覆层特征、处理特征表示符号见下表:
特征名称 英 文 符 号
光 亮 bright b
半光亮 semi-bright s
暗 matte m
缎 面 satin st
双 层 double layer d