斜入射F—P型薄膜滤光片消偏振膜系的仿真分析

目录摘要 (X)ABSTRACT (XI)引言......................................................................................................... X II 第一章绪论 . (1)1.1DWDM中薄膜滤光片的历史背景和研究现状 (1)1.1.1历史回顾 (1)1.1.2研究现状 (2)1.2DWDM中薄膜滤光片研究的意义及前景 (4)第二章光学薄膜特性的理论计算 (6)2.1偏振光和部分偏振光 (6)2.2 P偏振和S偏振 (7)2.3单层薄膜的干涉原理 (7)2.4单层薄膜的反射率 (8)2.5多层薄膜的反射率 (13)第三章F-P型薄膜滤光片的设计 (16)3.1干涉滤光片 (16)3.2F-P腔以及它为何具有频率选择性 (17)3.3密集波分复用（DWDM）干涉滤光片的设计要求 (17)3.4基板和薄膜材料的选择 (19)3.5DWDM窄带F-P薄膜滤光片的设计 (20)3.6DWDM窄带F-P薄膜滤光片的寻优设计 (23)3.6.1对称周期膜法 (23)3.6.2主体参数寻优法 (25)3.6.3结论 (26)第四章总结 (27)致谢 (29)参考文献 (30)摘要随着密集波分复用技术的发展，滤光片做为其中很重要的一种光学器件其技术也得到了突飞猛进的发展。

本文将会介绍密集波分复用系统中窄带F-P薄膜滤光片的设计。

首先介绍了DWDM系统中窄带F-P薄膜滤光片的历史背景和研究现状以及发展前景。

作为背景知识，介绍了光的传输矩阵，光的偏振状态，干涉滤光片，F-P腔的工作原理，DWDM系统对薄膜干涉滤光片的基本要求，为了满足设计要求一方需要精心选择基板和薄膜材料，另外一方面要寻找性能优良的膜系。

接下来，先给出了几种常见的膜系结构，然后通过MATLAB仿真得出其透射曲线。

通过其透射曲线分析得出设计滤光片的的几条结论。

斜入射条件下F-P干涉腔透过率特性分析
马健;刘秉琦;华文深;骆新新
【期刊名称】《军械工程学院学报》
【年(卷),期】2009(021)004
【摘要】分析了斜入射角条件下F-P干涉腔的透过率特性;结合单层介质膜和单层金属膜的反射特性随入射角的变化规律,得出了反射特性参数为恒定值时微腔、低反F-P干涉腔透过率的计算误差;仿真结果表明,在光束斜入射条件下,特别是在大入射角下,单层介质膜的反射率指数增大,单层金属膜的反射率和反射相移也指数增大,但其吸收系数指数减小,造成微腔、低反F-P干涉腔透过率曲线与反射特性参数为恒定值时相比均明显向下偏移,且偏移量逐渐增大.
【总页数】5页(P74-78)
【作者】马健;刘秉琦;华文深;骆新新
【作者单位】军械工程学院光学与电子工程系,河北,石家庄,050003;66481部队,天津,301715;军械工程学院光学与电子工程系,河北,石家庄,050003;军械工程学院光学与电子工程系,河北,石家庄,050003;军械工程学院光学与电子工程系,河北,石家庄,050003
【正文语种】中文
【中图分类】O436.1
【相关文献】
1.斜入射F-P型薄膜滤光片调谐特性分析 [J], 王翀;郝云芳;赵林森;王烨
2.保偏微结构光纤光栅F-P腔折射率传感特性分析 [J], 郭璇;毕卫红;刘丰
3.基于光纤内双开口 F-P 干涉腔的折射率传感器 [J], 阙如月;刘一;孙慧慧;曲士良
4.两路微振动信号的光纤F-P腔干涉测量 [J], 赵忖;刘径舟
5.高斯光束斜入射法布里-珀罗干涉腔后的反射光强分布 [J], 刘木林;叶志请;闵秋应;刘晓山;吴木生;柯强
因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。

斜入射滤光片的偏振相关损耗抑制技术俞侃;包佳祺;黄德修;吴长发【摘要】多腔窄带薄膜滤光片在倾斜入射时由于偏振光的中心波长会出现分离,会导致其偏振相关损耗迅速增加,严重影响光通信系统的性能.从理论上分析了斜入射时产生偏振相关损耗的原因,并提出了通过优化膜系的方法有效的实现了偏振光中心波长的对准,有效的降低了其通带内的偏振相关损耗.同时还提出了使用偏振分束器的方法,对单偏振光进行调制,在整个透射带内都实现了对偏振相关损耗的抑制.实验结果表明,两种消偏方式都能将窄带滤光片斜入射时的偏振相关损耗减小至0.2dB内,根据实际需要可以应用于不同的场合.【期刊名称】《光电工程》【年(卷),期】2010(037)001【总页数】5页(P101-105)【关键词】薄膜物理学;窄带滤光片;斜入射;偏振相关损耗【作者】俞侃;包佳祺;黄德修;吴长发【作者单位】华中科技大学,文华学院,武汉,430074;武汉光电国家实验室,武汉,430074;华中科技大学,文华学院,武汉,430074;华中科技大学,文华学院,武汉,430074;武汉光电国家实验室,武汉,430074;华中科技大学,文华学院,武汉,430074【正文语种】中文【中图分类】TN929.10 引言薄膜干涉滤光片由于具有通带窄、插入损耗低、温度稳定性好等诸多优异的特性，所以在微电子和光电子学领域，尤其是在密集波分复用(DWDM)系统中得到广泛的应用[1]。

常规的滤光片基本都是应用于正入射的，但在某些特定场合需要其处于斜入射状态。

而随着入射角的增加，滤光片的偏振相关损耗(Polarization Dependent Loss, PDL)会迅速增大[2]，影响器件乃至整个系统的性能。

常规窄带滤光片在入射角度上超过5°时其PDL数值就会超过系统限制(小于0.2 dB)。

本文在理论上分析了斜入射时滤光片PDL产生的原因，并提出了通过膜系改进或者使用偏振分束器和半波片的方法，对斜入射时窄带滤光片产生的PDL进行了抑制。

第29卷　第1期2005年2月激 光 技 术LASER TECHNOLOGYVol .29,No .1February,2005 文章编号:100123806(2005)0120040203L i Nb O 3光波导F 2P 腔滤波器的分析设计符运良1,2,袁一方13,吴英才1,陈抱雪1(1.上海理工大学光学与电子信息工程学院,上海200093;2.海南师范学院物理系,海口571158)摘要:采用转移矩阵法推导出内置L i N b O 3光波导的F 2P 腔滤波器的功率传输系数,运用计算机进行模拟计算,分析了光波导的传输损耗和腔薄膜反射率对滤波器透射光谱的强度、带宽和精细度的影响。

结果表明,传输损耗越大,透射光谱的强度变小,带宽越大;反射率越大,透射光谱的强度变小,但带宽变小,精细度增大。

考虑了滤波器的透射光谱强度和精细度等因素,提出一个合理的腔薄膜反射率,优化了滤波器的设计参数。

关键词:滤波器;L i N b O 3光波导;F 2P 腔;传输损耗;精细度中图分类号:T N253 文献标识码:AAna lysis and desi gn of F 2P cav ity resona tor f ilters w ithL i Nb O 3opti ca l wavegu i desFU Yun 2liang1,2,YUAN Yi 2fang 1,WU Ying 2cai 1,CHEN B ao 2xue1(1.College of Op tics and Electr on I nf or mati on Engineering,University of Shanghai f or Science and Technol ogy,Shanghai 200093,China;2.Depart m ent of Physics,Hainan Nor mal University,Haikou 571158,China )Abstract:W ith the transfer matrix method,the trans m issi on coefficient of a F 2P cavity filter with a L i N b O 3op tical waveguide is reas oned out .By computer si m ulati on,the effects of structure para meters of the F 2P cavity filter on the trans m issi on light intensity,band width and finess are analyzed .The results show that the trans m issi on light intensity beco mes weaker and band width becomes wider with the increasing of p r opagati on l oss,and that with the increasing of reflectivity,the trans m issi on light intensity becomes weaker and the band width becomes narr ower,however the finess becomes increscent .The op ti m izing para meters of the F 2P cavity filter are given by considering the trans m issi on light intensity and finess .Key words:filter;L i N b O 3op tical waveguide;F 2P cavity;p r opagati on l oss;fineness 基金项目:上海市科学技术发展基金资助项目(012261026)作者简介:符运良(19642),男,博士研究生,副教授,现从事光通信器件的研究。

负滤光片膜系讨论与修改
刘金城
【期刊名称】《哈尔滨工业大学学报》
【年(卷),期】1999(031)003
【摘要】阐述了实验室条件下修改理想负滤光片膜系的可行性，采用新膜系镀制
的光学器件满足了单态氧二聚物非线性效应实验研究的需要，修改后的负滤光片膜系用到三种介质材料（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）５：３混合料，ＺｒＯ２及ＳｉＯ２，比理想负滤光片系所用材料减少一种，膜系由高级次修改为调谐比，不但保证了反射带宽度而且降低了膜层厚度，膜系最外层介质材料由ＳｉＯ２替代ＭｇＦ２提高了光学器件耐用性能，同时，本文对膜系进行了简化处
【总页数】3页(P59-61)
【作者】刘金城
【作者单位】哈尔滨工业大学光电子技术研究所
【正文语种】中文
【中图分类】O436
【相关文献】
1.基于等效层理论的薄膜滤光片中心波长消偏振膜系设计 [J], 俞侃;包佳祺
2.6.5～14μm红外长波通滤光片正面膜系的研制 [J], 朱铄金;朱丽慧;黄清伟
3.斜入射F-P型薄膜滤光片消偏振膜系的仿真分析 [J], 王翀;王刚
4.基于遗传算法的斜入射窄带滤光片膜系优化设计 [J], 俞侃;廖剑锋;张晓丹;包佳
祺;尹娟娟
5.角度调谐滤光片特性分析及膜系设计 [J], 俞侃;刘文;黄德修
因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。