场发射显示材料 及 电致发光材料

碳纳米管性质及其应用研究进展碳是自然界分布非常普遍的一种元素。

碳元素最大的特点之一是存在着众多的同素异形体，形成许许多多结构和性质完全不同的物质。

长期以来，人们一直认为碳的晶体只有两种：石墨和金刚石。

直到1985年，英国科学家Kroto和美国科学家Smalley在研究激光蒸发石墨电极时发现了碳的第三种晶体形式C60，从此开启人类对碳认识的新阶段。

1991年，日本NEC公司基础研究实验室的电镜专家S.Lijima在用电子显微镜观察石墨电弧法制备富勒烯产物时，发现了一种新的碳的晶体结构--碳纳米管(CarbonNanotubes，CNTs)，自此开辟了碳科学发展的新篇章，也把人们带人了纳米科技的新时代。

碳纳米管的结构，形象地讲是由含六边形网格的石墨片卷曲而成的无缝纳米级圆筒，两端的“碳帽”由五边形或七边形参与封闭，根据石墨片层数的不同，碳纳米管可分为单壁管和多壁管。

由于其结构上的特殊性(径向尺寸为纳米量级，轴向尺寸为微米，甚至毫米量级)，它表现为典型的一维量子材料，并具有许多异常的力学、电学、光学、热学和化学性能。

碳纳米管在制备、结构、性能、应用等方面引起了物理学、化学和材料学等科学家的极大兴趣，均取得了重大的成果。

近几年来，随着碳纳米管及纳米材料研究的不断深入，其广阔应用前景也不断显现出来。

1碳纳米管的结构和性能碳纳米管可以看作是石墨片绕中心轴按一定的螺旋角度卷绕而成的无缝圆筒，碳原子间是sp2杂化，它具有典型的层状中空结构特征，管径在0.7-30nm之间，长度为微米量级，管身是由六边形碳环组成的多边形结构，两端由富勒烯半球形端帽封口。

碳纳米管的螺旋度通常用螺旋矢量Ch=na1+ma2表示，其数值等于碳纳米管的周长，其中n，m为整数，a1、a2是石墨晶格的基矢(图1)。

在二维石墨晶片上，给定一组(n，m)便确定了一个矢量Ch。

另一个重要参量是Ch与a1，间夹角θ，称为手性角。

当n=m，θ=30°时，称其为扶手椅形碳纳米管；当m=0，θ=0°时，称其为锯齿形碳纳米管；而当0°<θ<30°时形成的所有其他类型均是手性碳纳米管(图2)。

PDP市场分析预测人类信息社会的主要特征是随时随地的获得信息、加工信息、利用信息、传播信息，以信息化带动工业化。

阴极射线管（CRT）诞生一百多年来，作为终端显示器的地位是无与伦与的。

但是近十年来受到了平板显示器的有力挑战，从二十世纪八十年代开始，物理学领域新的实验技术、极端条件实验技术和实验方法的发展带动了半导体技术的迅猛发展，新型发光材料的物理研究，合成方法研究以及应用研究的异常活跃，促进了显示技术的发展。

平板显示器件成为八十年代和九十年代发光与显示的研究热点。

主要的研究工作集中在：1．粉末电致发光材料及显示器件的研究，包括直流粉末电致发光（DCEL）和交流粉末电致发光（ACEL）；2．薄膜电致发光材料及器件的研究（TFEL）；3．有机薄膜电致发光材料及器件的研究（OEL）；4．等离子体发光材料及显示器件的研究（PDP）；5．场发射材料及显示器件的研究（FED）；6．半导体发光二极管及大屏显示方案的研究（LED）；7．液晶显示技术的研究（LCD）。

在整个学术界关于显示器的研究都是和发光材料联系在一起的，认为显示技术的核心是发光材料的问题。

当时提出的目标是：固体化、平板化、全彩色、高亮度、长寿命、低功耗、大面积、无辐射、无闪烁，当然成本也不能太高。

从材料上分主要分为无机和有机，从显示原理上分有主动发光式和非发光式(被动发光式)。

经过二十多年的研究、竞争和发展，平板显示器已经渐渐进入角色，成为新世纪显示器的主流产品。

目前竞争最激烈的平板显示器有四个品种: 1．场发射平板显示器（FED）2．等离子体平板显示器（PDP）3．有机薄膜电致发光二极管（OEL）4．薄膜晶体管液晶平板显示器（TFT-LCD）据美国Stanford Resources InC.提供的最新资料显示，平板显示器市场将从1999年的169亿美元增加到2005年的349亿美元，超过CRT显示器件。

PDP 显示器市场将从1999年的8亿美元增加到2005年的58亿美元，这在所有的平板显示器中增幅最大，2002年以后，PDP将进入快速增长期，主要是彩色大屏幕PDP电视机的增长。

场致发射显示定义：场发射显示器（FED），即场致发射阵列平板显示或称为真空微尖平板显示器（MFD)，是一种新型的自发光平板显示器件。

场致发射显示一、发展简史•1961年，Shouledrs.K.R提出用场发射电子源的纵向和横向真空微电子三极管的概念•1968年，斯坦福研究所的Spindt.C.A，用薄膜技术和钼尖锥工艺制作微型场发射阵列阴极。

•1985年，Meyer.R，微尖锥型阴极的矩阵选址阴极发光平板显示器•1988年，美国首届国际真空微电子学会议，标志真空微电子学的正式诞生•1989年，单色FED研制成功•1997年，全色FED研制成功•2001年，Sony公司13.2英寸全色FED场致发射显示场致发射显示On Nov. 23, 1999PixTech, Inc.announced thedelivery of the first12.1-inch FieldEmission Display(FED) to the U. S.ArmyFirst Delivery of 12.1”FEDFED的优点：•图像质量好、视角宽（1800）•功耗低（1－3w）、寿命长•无偏转线圈，无X射线辐射•响应速度快（<2 us）•体积小，重量轻•工作温度范围宽•制作工艺比较简单（与LCD及其它PDP比）总之，FED集中了CRT和LCD的优点，摒弃了它们的缺点，性能优良，极具竞争力的新一代显示器。

场致发射显示FED的应用领域：•< 6英寸的FED，替代CRT,作头盔显示•可以放在武器上左定位显示器•摄像器上的取景器•汽车的导航系统显示终端•电子照相机的显示器•仿真技术方面•便携式计算机显示屏•用作可视电话的显示器主要在军事领域场致发射显示二、FED的工作原理构成：场发射阵列阴极（FEAC)和显示荧光屏示意图：场致发射显示场致发射显示和材料有关的常数：与发射体现状，栅压；B A :)/(2g g g e U U B AU I−⋅=FED 的场发射理论场发射就是导体或者半导体表面施加强电场，使导带中的电子发射到真空中。

几种常见显示技术的比较平板显示器件包括液晶显示器件(LCD)、等离子体显示器件(PDP)、发光二极管显示器件(LED)，场发射显示器件(FED )、表面传导发射显示器件(SED )、无机电致发光器件(IOEL)、有机电致发光器件(OLED ) 等。

下面就其中的几种做简要的介绍。

1、液晶显示器件(LCD )液晶显示器件是液晶应用的主体，发展很快。

液晶显示器的优缺点:（1)结构和产品体积。

传统显示器由十使用CRT，必须通过电子枪发射电子束到屏幕，因而显像管的管颈不能做得很短，当屏幕增加时也必然增大整个显示器的体积。

液晶显示器通过显示屏上的电极控制液晶分子状态来达到显示目的，即使屏幕加大，它的体积也不会成正比的增加(只增加尺寸不增加厚度所以不少产品提供了壁挂功能，可以让使用者更节省空间)，而且重量上比相同显示面积的传统CRT显示器要轻得多。

同时液晶显示器由十功耗只在十电极和驱动IC上，因而耗电量比传统CRT显示器也要小得多。

（2)辐射和电磁波干扰。

传统CRT显示器由十采用电子枪发射电子束，在打到屏幕上后会产生辐射，尽管现有产品在技术上有很大的提高，把辐射损害降到最小，但不可能根除。

在这一点上，液晶显示器具有先天的优势，它根本没有辐射可言。

至十电磁波的干扰，液晶显示器只有来自驱动电路的少量电磁波，只要将外壳严格密封即可排除电磁波外泄，而传统CRT显示器为了散热，不得不将外壳钻上散热孔，所以电磁波干扰就不可避免了。

所以液晶显示器也被称为冷显示器或环保显示器。

（3)平面直角和分辨率。

液晶显示器一开始就使用纯平面的玻璃板，其平面直角的显示效果比传统显示器看起来好得多。

不过在分辨率上，液晶显示器理论上可提供更高的分辨率，但实际显示效果却差得多。

而传统显示器在较好显卡的支持下达到完美的显示效果。

（4)显示品质。

传统显示器的显示屏幕采用荧光粉，通过电子束打击荧光粉显示，因而显示的明亮度比液晶的透光式显示(以口光灯为光源)更为明亮，在可视角度上也比液晶显示器要好得多。

氮化钨粉末氮化钨粉末是一种重要的无机材料，具有广泛的应用领域和优异的性能特点。

本文将介绍氮化钨粉末的制备方法、物理化学性质以及其在材料科学、电子器件和催化领域中的应用。

一、氮化钨粉末的制备方法氮化钨粉末的制备方法有多种，常见的包括化学气相沉积法、氮化铵热分解法、高温反应法等。

其中，化学气相沉积法是一种常用且成熟的制备方法。

该方法通过在高温下将钨源和氮源反应生成氮化钨粉末，并通过控制反应条件和气氛组成来调控粉末的形貌和尺寸。

氮化钨粉末具有许多独特的物理化学性质。

首先，它具有优异的热稳定性和耐腐蚀性，能够在高温和恶劣环境下保持良好的稳定性。

其次，氮化钨粉末具有高硬度和高熔点的特点，能够在高温下保持较好的力学性能。

此外，氮化钨粉末还具有良好的导电性和导热性，可用作导电材料和热导材料。

三、氮化钨粉末在材料科学领域中的应用氮化钨粉末在材料科学领域中具有广泛的应用。

首先，氮化钨粉末可以用作增强剂，加入到金属基复合材料中，提高材料的力学性能和耐磨性。

其次，氮化钨粉末可以用作陶瓷材料的添加剂，改善陶瓷材料的性能和导电性。

此外，氮化钨粉末还可以用于制备高温结构材料、涂层材料和电子器件等。

四、氮化钨粉末在电子器件领域中的应用氮化钨粉末在电子器件领域中有着重要的应用价值。

首先，氮化钨粉末可以用作场发射材料，具有良好的电子发射性能和稳定性，可用于制备场发射显示器和微波器件。

其次，氮化钨粉末还可以用作阴极材料，用于制备电子管和真空电子器件。

此外，氮化钨粉末还可以用于制备光电子器件、光电探测器和光纤通信器件等。

五、氮化钨粉末在催化领域中的应用氮化钨粉末在催化领域中具有广泛的应用。

首先，氮化钨粉末可以用作催化剂载体，通过调控其表面性质和孔隙结构来改善催化活性和选择性。

其次，氮化钨粉末本身也具有一定的催化活性，可直接用于催化反应。

此外，氮化钨粉末还可以与其他金属催化剂复合使用，形成复合催化剂，提高催化效果和稳定性。

氮化钨粉末是一种重要的无机材料，具有广泛的应用领域和优异的性能特点。

显示器成像的原理显示器成像的原理是指将电子信号转化为可见图像的过程。

在现代显示技术中，常见的显示器有液晶显示器（LCD）、有机发光二极管显示器（OLED）和场发射显示器（FED）等。

液晶显示器（LCD）的原理是基于液晶的光学效应。

液晶是一种介于液体和晶体之间的物质，具有有序排列的分子结构。

液晶显示器的结构包括背光源、液晶层和像素阵列。

背光源提供光源，液晶层根据外部电场的作用改变光的透射性，而像素阵列则控制每个像素的透光与否。

在显示过程中，电子信号通过电路传输到液晶层，通电时会改变液晶层中分子的排列方式，从而改变光的透射性。

最终，在背光源的照射下，透光和不透光的像素会形成可见的图像。

有机发光二极管显示器（OLED）的原理是利用有机材料的电致发光效应。

OLED 显示器的结构包括有机发光层、电子传输层和电极层。

有机发光层由发光材料组成，电子传输层用于传输电子信号，电极层用于施加电场。

在显示过程中，电子信号通过电路传输到电极层，经过电子传输层后进入有机发光层，激发有机材料中的电子，从而发出光。

每个像素由红、绿、蓝三种发光材料的不同组合来形成不同的颜色。

OLED显示器具有自发光特性，不需要背光源，具有较高的亮度和对比度。

场发射显示器（FED）是一种基于电子场发射原理的显示器。

FED显示器的结构类似于传统的阴极射线管（CRT），包括阴极、阳极和荧光屏。

与CRT不同的是，FED的阴极表面有许多纳米级的针状结构，这些针状结构可以通过场发射产生电子束。

在显示过程中，电子信号通过电路传输到阴极，电子束通过控制阳极电势将电子束引导到相应的像素位置。

当电子束碰撞到荧光屏上时，会产生荧光现象，形成可见的图像。

FED显示器具有高亮度、高对比度和快速响应等优点。

总的来说，现代显示器成像的原理基于不同的物理效应，在液晶显示器中是利用液晶的光学效应，而在OLED和FED显示器中则是通过电致发光效应和场发射发光效应来实现。

这些显示器的成像原理不仅改变了显示器的外观和性能，还提供了更清晰、更亮丽的图像效果，广泛应用于电视、计算机和移动设备等领域。

电致发光材料
电致发光材料（Electroluminescent Materials，简称EL材料）是一种能够在电
场的作用下产生发光现象的材料。

它具有在室温下工作、发光效率高、寿命长、能耗低等优点，因此在显示、照明、生物医学、安全标识等领域有着广泛的应用前景。

EL材料的基本原理是在外加电场的作用下，通过电子和空穴的复合发生辐射
而产生光。

目前，主要的EL材料包括有机EL材料和无机EL材料两大类。

有机EL材料是指以有机化合物为基础的EL材料，其优点是制备工艺简单、
可制备成薄膜、柔性度高，适合于柔性显示器件的制备。

有机EL材料的发光颜色
丰富，可以通过不同的有机分子设计实现多种颜色的发光，因此在显示领域有着广泛的应用前景。

无机EL材料是指以无机化合物为基础的EL材料，其优点是发光效率高、寿
命长、稳定性好，适合于大面积照明和显示领域的应用。

无机EL材料的发光机理
复杂，通常包括发光中心和激活剂等组成，通过控制发光中心和激活剂的种类和浓度可以实现不同颜色的发光。

除了有机EL材料和无机EL材料，近年来还出现了混合型EL材料，即有机无
机杂化EL材料。

混合型EL材料综合了有机EL材料和无机EL材料的优点，具有
发光效率高、寿命长、制备工艺简单等特点，因此备受关注。

随着科学技术的不断发展，EL材料的研究和应用也在不断拓展。

未来，随着
新材料、新工艺的不断涌现，EL材料将会在显示、照明、生物医学等领域发挥越
来越重要的作用，为人类社会的发展和进步做出更大的贡献。

一、平板显示器件（FPD）平板显示器件（FPD）分为发光型和受光型两类。

1、发光型FPD。

发光型FPD按照其工作原理的不同又可分为以下四种。

1）、离子体显示器件（PDP）2）、电致发光显示器件（ELD、LED）3）、场发射显示器件（FED）4）、真空荧光显示器件（VFD）2、受光型FPD。

受光型FPD按其工作原理的不同又可分为以下四种。

1）、液晶显示器件（LCD）2）、电致变色显示器件（ECD）3）、电泳显示器件（EPID）4）、铁电陶瓷显示器件（PLZT）二、LCD1、LCD定义液晶是一种几乎完全透明的物质。

它的分子排列决定了光线穿透液晶的路径。

到20世纪60年代，人们发现给液晶充电会改变它的分子排列，继而造成光线的扭曲或折射，由此引发了人们发明液晶显示设备的念头。

液晶显示器，简称LCD（Liquid Crystal Display）。

世界上第一台液晶显示设备出现在20世纪70年代初，被称之为TN-LCD（扭曲向列）液晶显示器。

尽管是单色显示，它仍被推广到了电子表、计算器等领域。

80年代，STN-LCD（超扭曲向列）液晶显示器出现，同时TFT-LCD（薄膜晶体管）液晶显示器技术被研发出来，但液晶技术仍未成熟，难以普及。

80年代末90年代初，日本掌握了STN-LCD及TFT-LCD生产技术，LCD工业开始高速发展。

LCD是在一定电压下（仅为数伏），使液晶的特定分子改变另一种分子的排列方式，由于分子的再排列使液晶盒的双折射性、旋光性、二色性、光散射性等光学性质发生变化，进而又由这些光学性质的变化转换成视觉的变化，也就是说LCD是一种液晶利用光调制的受光型显示器件。

2、LCD的特点LCD的特点是体积小、形状薄、重量轻、耗能少（1～10微瓦/平方厘米）、低发热、工作电压低（1.5～6伏）、无污染，无辐射、无静电感应，尤其是视域宽、显示信息量大、无闪烁，并能直接与CMOS集成电路相匹配，同时还是真正的“平板”式显示设备。

平板显示技术平板显示器分为主动发光显示器与被动发光显示器。

前者指显示媒质本身发光而提供可见辐射的显示器件，它包括等离子显示器（PDP）、真空荧光显示器（VFD）、场发射显示器（FED）、电致发光显示器（LED）和有机发光二极管显示器（OLED）等。

后者指本身不发光，而是利用显示媒质被电信号调制后，其光学特性发生变化，对环境光和外加电源（背光源、投影光源）发出的光进行调制，在显示屏或银幕上进行显示的器件，它包括液晶显示器（LCD）、微机电系统显示器（DMD）和电子油墨（EL）显示器等。

1.液晶显示器（LCD）液晶显示器包括无源矩阵液晶显示器（PM-LCD）与有源矩阵液晶显示器（AM-LCD）。

STN与TN液晶显示器均同属于无源矩阵液晶显示器。

90 年代，有源矩阵液晶显示器技术获得了飞速发展，特别是薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）。

它作为STN的换代产品具有响应速度快、不产生闪烁等优点，广泛应用到便携式计算机及工作站、电视、摄录像机和手持式视频游戏机等产品中。

AM-LCD与PM-LCD的差别在于前者每象素加有开关器件，可克服交叉干扰，可得到高对比度和高分辨率显示。

当前AM-LCD采用的是非晶硅（a-Si）TFT开关器件和存储电容方案，可得到高灰度级，实现真彩色显示。

然而，高密度摄像机和投影应用对高分辨率和小象素的需求推动了P-Si（多晶硅）TFT（薄膜晶体管）显示器的发展。

P-Si的迁移率比a-Si的迁移率高8到9倍。

P-Si TFT的尺寸小，不仅适合用于高密度高分辨率显示，且周边电路也可以集成到基板上。

总而言之，LCD适合作薄、轻、功耗小的中小型显示器，广泛应用于笔记本电脑、移动电话等电子设备中。

30英寸和40英寸的LCD已研制成功，有的已投入应用。

LCD经过规模化生产，成本在不断降低。

目前，已面市500美元的15英寸LCD监视器。

它的未来发展方向是取代PC的阴极显示器并在液晶电视中应用。

2.等离子体显示器（PDP）等离子体显示是利用气体（如氛气）放电原理实现的一种发光型显示技术。

一、显示技术研究的意义1.显示技术定义显示技术是将各自非电量信息（如声、热、力、数、气氛等）的信息源，通过一定的传感器、处理器进行感知和处理，传输给显示装置，再由显示装置进行处理、转换，最后由显示器件转换为人类视觉可识别的信息，也称为“信息显示技术”。

2.信息显示系统一个完整的信息显示系统包括：中央计算机、信号处理、控制及变换功能布局，显示器件及驱动电路，人—机通信装置。

二、显示技术的发展光电显示器分类根据显示发光类型，显示技术可分为主动和被动发光型。

根据显示原理分类，CRT、FED、LCD、PDP、ELD、LED、VFD、ECD、EPID。

根据观看方式分类，有直观式和投影式。

根据显示材料分类，有固体（粉末材料）、液体、气体和等离子体。

根据结构形状分类，有瓶颈状、平板型；真空型和非真空型（全固体化）三、光的特性常用光量光通量，照度和光出度，光强，亮度，人眼的视觉特性视觉惰性，闪烁，视角五、色彩学基础1.三基色原理自然界任何一种颜色均可表示为三个确定的相互独立的基色的线性组合。

2.颜色的特性亮度：各种颜色的光对人眼所引起的视觉强度，与光的辐射功率有关。

色调：颜色的类别，即红橙黄绿青蓝紫。

色饱和度：表示颜色光所呈现的颜色深浅程度（或纯度）。

单色光色饱和度为100%。

饱和度越高，颜色越深；反之越浅。

色度：色调和色饱和度统称为色度，指的是什么颜色，颜色深浅，性质差异的感觉。

六、显示器件的性能指标1. 工作电压和消耗电流2. 画面尺寸3. 分辨率，分辨率（Resolution）指构成图像的像素和，即屏幕包含的像素多少。

4. 亮度（辉度）亮度：在垂直于光束传播方向上，单位面积上的发光强度，单位是cd/m2。

辉度：用来评价主动发光型显示器件的发光强度，主动发光型显示器件的辉度为100-1000cd/m2。

5. 对比度显示对比度又简称对比度，是显示部位的辉度与非显示部位的辉度之比。

6.灰度（深浅可调节性）灰度指画面上亮度等级的差别，亮度的21/2倍的发光强度的变化等级来表示。

一．TFT-LCD的基础知识培训1．显示器的发展概述1．1CRT：阴极射线管特点：电子枪结构，通过偏转线圈控制屏幕扫描位置，通过栅极控制电子加速。

优势：工艺成熟、性能稳定、像素可达0。

28mm以下，亮度高、RGB色彩缺点：体积大、辐射大、易老化1．2LED：发光二极管特点：采用半导体PN结的结构，形成点光源形式优势：寿命长，可靠性高，显示亮度高，可模块化拼装缺点：不能全彩色化1．3EL：电致发光显示特点：薄膜结构，有机薄膜电致发光真正的又轻又薄，优势：低功耗广视角，高响应速度，大规模工业生产的成本很低缺点：使用寿命目前只有几千小时。

1．4FED：场致发光显示特点：场发射平板显示器原理类似于CRT，CRT只有一支到三支电子枪，最多六支，而场发射显示器是采用电子枪阵列（电子发射微尖阵列，如金刚石膜尖锥），分辨率为VGA（640×480×3）的显示器需要92.16万个性能均匀一致的电子发射微尖，材料工艺都需要突破。

优势：同CRT缺点：工艺复杂1．5PDP：等离子显示特点：等离子体发光显示是通过微小的真空放电腔内的等离子放电激发腔内的发光材料形成的，发光效应低和功耗大是它的缺点（仅1.2lm/W，而灯用发光效率达80lm/W 以上，6瓦/每平方英寸显示面积），优势：在102～152cm对角线的大屏幕显示领域有很强的竞争优势。

缺点：驱动电压高1．6LCD：液晶显示特点：利用液晶在电场作用下，旋转的的特性优势：平板形，功耗低是目前唯一在亮度、对比度、功耗、寿命、体积和重量等综合性能上全面赶上和超过CRT的显示器件，它的性能优良、大规模生产特性好，自动化程度高，原材料成本低廉，发展空间广阔，将迅速成为新世纪的主流产品，是21世纪全球经济增长的一个亮点。

性能稳定、成本低、全彩色、安全，适应强，寿命长，重量轻是未来的发展性能综合评价：可视角、色调、亮度与对比度、响应与余辉、功耗与驱动电压1．7显示器基本常识配色：基色：R：红G：绿B：蓝配色：W: 白Y:黄C:青M:紫W=R+G+B Y=R+G C=G+B M=B+R三基色的深浅度、6500/7500/9300色温16位色+4位灰度32位真彩色，实现人眼可分辨的全部彩色64种彩色称为伪彩色帧：扫描行电极各施加一次扫描电压的时间帧频：单位时间扫描多少帧的频率占空比：扫描行电极选通时间与帧周期之比，等于扫描电极数N的倒数非存储型显示：施加电场时呈现显示状态存储型显示：脉冲驱动显示，撤掉外加电压，显示内容不变静态驱动显示：每个像素均有单独的电极动态驱动显示：像素电极呈矩阵方式显示分辨率Resolution # of Dot # of Pixel Aspect Ratio Remark320 x 240 76,800 230,400 4:3 Quarter VGA640 x 400 256,000 768,000 16:10 EGA640 x 480 307,200 921,600 4:3 VGA800 x 480 384,000 1,152,000 15:9 Wide VGA800 x 600 480,000 1,440,000 4:3 SVGA1024 x 600 614,400 1,843,200 17:10 Wide SVGA1024 x 768 786,432 2,359,296 4:3 XGA1280 x 1024 1,310,720 3,923,160 5:4 SXGA1400 x 1050 1,470,000 4,410,000 4:3 SXGA+1600 x 1200 1,920,000 5,760,000 4:3 UXGA1920 x 1200 2,304,000 6,912,000 16:10 Wide UXGA2048 x 1536 3,145,728 9,437,184 4:3 QXGA2560 x 2048 5,242,880 15,728,640 4:3 QSXGA3200 x 2400 7,680,000 23,040,000 4:3 GUXGAdpi：或ppi：每平方英寸的图素数DOT=3PIXEL对于一个15英寸的TFT显示器（1024×768）那么一个象素大约是0.0188英寸（相当于0.30mm），对于18.1英寸的TFT显示器而言（1280×1024），就是0.011英寸（相当于0.28mm）因此第一个特性即是亮度或明度，常以(cd / m2)为单位。

氧化镍薄膜是一种具有特殊功能的材料，广泛应用于能源、电子器件、催化剂等领域。

下面将介绍氧化镍薄膜的制备方法以及功能材料中的应用。

1. 氧化镍薄膜的制备方法：-物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD）：通过热蒸发或溅射等方法，在基底上沉积氧化镍薄膜。

-化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition, CVD）：通过在反应室中加热具有氧化镍前体的化合物，使其分解并在基底上形成氧化镍薄膜。

-溶液法：通过将氧化镍前体溶解于适当的溶剂中，然后在基底上进行旋涂、喷涂等方法进行沉积。

-磁控溅射（Magnetron Sputtering）：利用高能粒子轰击靶材，在基底上形成氧化镍薄膜。

2. 功能材料中的氧化镍薄膜应用：-电子器件：氧化镍薄膜可以用作场发射显示器中的阳极材料，具有优异的电子导电性能和稳定性。

-电化学储能：氧化镍薄膜可用于超级电容器和锂离子电池的正极材料，用于储存和释放电能。

-催化剂：氧化镍薄膜可以用作水分解反应中的催化剂，促进水的分解生成氢气。

薄膜结构的制作方法及电致发光器件：3. 薄膜结构的制作方法：-激光沉积：利用激光束照射基底上的材料，使其熔化并形成薄膜结构。

-热蒸发法：通过加热蒸发源，使材料蒸发并在基底上形成薄膜结构。

-光刻技术：利用光刻胶、掩模等工艺，对薄膜进行局部曝光和刻蚀，形成特定的结构。

-离子束刻蚀：利用离子束轰击材料表面，实现对薄膜结构的精确加工和刻蚀。

4. 电致发光器件：-电致发光器件（Electroluminescent Device）利用电场激发材料中的电子和空穴复合释放能量，产生可见光。

薄膜结构在电致发光器件中起到关键作用。

-通过在薄膜结构中引入适当的荧光材料、导电材料和介质层，可以实现电致发光器件的复杂结构和特定发光效果。

需要注意的是，具体的制备方法和应用可能因研究领域、设备和工艺要求而有所不同。

以上提及的方法和应用仅作为参考，具体操作应根据实际需求和实验条件进行选择和优化。