光致抗蚀干膜的结构和种类

干膜结构：(1)聚乙烯保护膜，覆盖在感光胶的保护膜，防止灰尘等污染物沾污，避免卷膜时，每层抗蚀剂膜间的相互粘连。

(2)光致抗蚀剂膜，干膜的主体感光材料，将液态光致抗蚀剂均匀涂在聚酯膜上再烘干形成，有感光性，将菲林底片图形转移到PCB上。

(3)载体聚酯薄膜，曝光后显影前撕去，作用防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散，破坏游离基，引起感光度下降。

特点：(1)分辨率高。

(2)工序简单。

(3)干膜组成成分稳定。

(4)成本高。

(5)粘附力较弱。

湿膜图形转移：①液态与基板密贴性好，可填充铜箔表面轻微的凹坑、划痕等缺陷，涂覆层比干膜薄，所以导线图形分辨率清晰度比干膜法高；②制作细导线时，湿膜法可减少由于覆铜箔板表面针孔、凹陷、划伤及玻璃纤维造成的凹凸不平等微小缺陷而造成的电镀渗镀和蚀刻断线；③采用湿膜法材料成本低，与干膜法相比，可以节约40%左右；④湿膜工艺虽然不需贴膜设备，却增加了预烘干步骤，不易于进行连续自动化生产。

涂覆工艺：有机助悍保护膜、热平整风工艺、化学镀镍金和化学镀镍、化学镀金、化学镀银、化学镀钯HASL工艺流程：水平：热风整平前处理-预热-助焊剂涂布-热风整平-冷却-热风整平后处理垂直：热风整平前处理-预涂助焊剂-热风整平-冷却-清洗-干燥优点：(1)热风整平后，焊料涂层一致性好，可焊性优良(2)导线侧边缘覆盖性(3)可调工艺参数能控制涂层厚度(4)去除焊料桥接、阻碍膜起皱和脱落等现象缺点：1)铜对焊料槽的污染2)焊料涂层重金属元素，对人体，污染(3)生产成本高(4) 热冲击大，易使印制板板材变形、起翘，热应力大半固化片：(1)树脂含量：树脂含量的大小直接影响介电常数、击穿电压和尺寸稳定性。

树脂含量高，则介电常数低，击穿电压高，但尺寸稳定性差，挥发物含量高；树脂含量低，则介电常数高，击穿电压低，尺寸稳定性好，挥发物含量低。

(2)树脂流动性：树脂流动性高，树脂流失多，易造成缺胶现象；树脂流动性低，填充间隙困难，产生气泡、空洞现象。

干膜光致抗蚀剂的结构、感光胶层的主要成分及作用干膜光致抗蚀剂的结构干膜光致抗蚀剂由聚酯薄膜，光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜三部分组成。

聚酯薄膜是支撑感光胶层的载体，使之涂布成膜，厚度通常为25μm左右。

聚酯薄膜在曝光之后显影之前除去，防止曝光时氧气向抗蚀剂层扩散，破坏游离基，引起感光度下降。

聚乙烯膜是复盖在感光胶层上的保护膜，防止灰尘等污物粘污干膜，避免在卷膜时，每层抗蚀剂膜之间相互粘连。

聚乙烯膜一般厚度为25μm左右。

光致抗蚀剂膜为干膜的主体，多为负性感光材料，其厚度视其用途不同，有若干种规格，最薄的可以是十几个微米，最厚的可达100μm。

干膜光致抗蚀剂的制作是先把预先配制好的感光胶在高清洁度的条件下，在高精度的涂布机上涂覆于聚酯薄膜上，经烘道干燥并冷却后，覆上聚乙烯保护膜，卷绕在一个辊芯上。

★光致抗蚀剂膜层的主要成分及作用我国大量用于生产的是全水溶性干膜，这里介绍的是全水溶性干膜感光胶层的组成。

1)粘结剂(成膜树脂)作为光致抗蚀剂的成膜剂，使感光胶各组份粘结成膜，起抗蚀剂伪骨架作用，它在光致聚合过程中不参与化学反应。

要求粘结剂具有较好的成膜性；与光致抗蚀剂的各组份有较好的互溶性；与加工金属表面有较好的附着力；它很容易从金属表面用碱溶液除去；有较好的抗蚀、抗电镀、抗冷流、耐热等性能。

粘结剂通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯——顺丁烯二酸酐树脂(聚苯丁树脂)。

2)光聚合单体它是光致抗蚀剂胶膜的主要组份，在光引发剂的存在下，经紫外光照射发生聚合反应，生成体型聚合物，感光部分不溶于显影液，而未曝光部分可通过显影除去，从而形成抗蚀图像。

多元醇烯酸酯类及甲基丙烯酸酯类是广泛应用的聚合单体，例如季戊四醇三丙烯酸酯是较好的光聚合单体。

3)光引发剂在紫外光线照射下，光引发剂吸收紫外光的能量产生游离基，而游离基进一步引发光聚合单体交联。

干膜光致抗蚀剂通常使用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引发剂。

4)增塑剂可增加干膜抗蚀剂的均匀性和柔韧性。

干膜结构及和类组成部分及干膜作用干膜结构是指一种由高分子物质构成的薄膜状结构，通常具有较好的柔韧性和耐久性。

干膜可以根据不同的组成部分分为不同的类别，例如有机干膜、无机干膜、复合型干膜等。

干膜通常由主要成分、助剂和添加剂组成，不同的组成部分决定了干膜的性质和应用领域。

干膜的主要作用包括保护、装饰、隔离、润滑等多种功能。

干膜结构可以分为有机干膜和无机干膜两种类型。

有机干膜是由有机高分子物质构成的薄膜，如聚合物薄膜、树脂薄膜等。

有机干膜具有良好的柔韧性、耐磨损性和耐化学物质侵蚀性，可以用于保护和装饰各种表面，例如建筑物、家具、汽车等。

无机干膜则是由无机物质构成的薄膜，如陶瓷薄膜、金属薄膜等。

无机干膜通常具有较高的硬度和耐高温性能，可以用于电子器件、光学元件、高温工具等领域。

干膜的组成部分通常包括主要成分、助剂和添加剂。

主要成分是干膜的主要构成材料，通常是一种或多种高分子物质，如聚合物、树脂等。

不同的主要成分决定了干膜的基本性质，如硬度、柔韧性、耐热性等。

助剂是改善干膜性能的辅助成分，通常是一些添加在主要成分中的化学物质，如增韧剂、粘合剂等。

添加剂是为了增加干膜的特殊性能而添加的物质，如颜料、防腐剂等。

干膜的作用可以分为多种功能，主要包括保护、装饰、隔离和润滑等。

保护是干膜的最主要作用之一，干膜可以保护物体表面不受外界环境的侵蚀和损害，例如防水、防腐、防晒等。

此外，干膜还可以提供物体表面的装饰效果，包括形成各种颜色、花纹等。

隔离是指干膜可以隔离物体表面与外界环境的直接接触，保护物体不受外界因素的影响，例如隔热、隔音等。

润滑是指干膜可以减少物体表面之间的摩擦和磨损，提高物体的使用寿命和性能。

总之，干膜是由高分子物质构成的薄膜状结构，具有良好的柔韧性和耐久性。

根据不同的组成部分，干膜可以分为有机干膜和无机干膜。

干膜的主要作用包括保护、装饰、隔离和润滑等。

对于不同的应用领域，选择适当的干膜结构和组成部分，可以实现更好的效果和性能。

光致抗蚀干膜的结构和种类:（1）光致抗蚀干膜制造印制电路的优点分辨率高，能制造线宽0.1mm的图形，在干膜厚度范围以内都能获得边缘垂直的线条，保证线条精度；干膜的厚度和组成基本稳定，避免成像时的不连续性，可靠性高；便于掌握。

应用干膜可大大简化印制板制造工序，有利于实现机械化和自动化。

（2）光致抗蚀干膜结构干膜由保护膜聚乙烯、光致抗蚀剂膜和载体聚酯薄膜三部分组成，三者厚度分别是25μm几十至100μm和25μm。

干膜结构示意如图5-1所示。

（3）光致抗蚀干膜种类依照干膜显影和去膜方法的不同，将干膜分成三类：溶剂型干膜、水溶性干膜和剥离型干膜。

根据干膜的用途，也将干膜分成三类：抗蚀干膜、掩孔干膜和阻焊干膜。

（4）光致抗蚀干膜的主要成分及作用1 胶黏剂主要是使胶膜具有一定的化学、物理及机械性能，通常是酯化或酰胺化的聚苯丁树脂。

胶黏剂不含感光基团，属于光惰性物质，它与组分的混溶性、成膜性、显影性和去膜性良好。

2 光聚合单体是胶膜的主要成分，在光引发剂的存在下，经紫外光照射发生聚合反应，而不溶于显影液，未感光部分被显影掉，形成抗蚀干膜图像。

光聚合单体还是增塑剂，直接影响干膜的韧性、抗蚀性及贴膜性。

它主要采用高沸点、易混溶的多官能团不饱和酯类，如三乙二醇双丙烯酸酯，季四醇三烯酸酯等。

3 光引发剂在紫外光的照射下分解成游离基，引发聚合和交联反应的物质常用安息醚，叔丁基蒽、醌等。

4 增塑剂用于增加干膜的韧性，降低贴膜温度，常用的是三缩乙二醇二乙酸酯。

5 增黏剂可增强干膜与铜表面之间的结合力，克服干膜固化后与铜表面之间产生应力而黏附不牢引起胶膜起皮翘起、渗镀。

常用增黏剂有苯并三氮，苯并咪唑等，是氮杂环化合物，与铜表面形成配价键结构而提高黏附力。

6 热阻聚剂在干膜的制造、运输、贮存和使用过程中，可能发生热聚合，影响干膜的解像力和显影性能。

为阻止热能引发的干膜聚合，可在干膜抗蚀剂中加入了对苯二酚，对甲氧基酚等物质。

7色料为使干膜抗蚀剂感光显影后形成良好的视觉反差，在干膜中加入了孔雀石绿、甲基紫、亚甲基蓝等颜料。