CrystalGrowth-界面微观结构
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A奥罗万机制(Orowan mechanism)奥氏体(austenite)B八面体间隙(octahedral interstices)半共格界面(half-coherent interface)板织构(sheet texture)棒状结构(rodlike structure)包晶(peritectic)包晶反应(peritectic reaction)包晶偏析(peritectic segregation)包晶相图(peritectic phase diagram)包析反应(peritectoid reaction)胞状结构(cellular structure)本征扩散系数(intrinsic diffusion coefficient) 变态莱氏体(transformed ledeburite )变形孪晶(deformation twins)标准投影(standard projection)表层细晶区(chill zone)表面(surface)泊松比(Poisson’s ratio)柏氏矢量(Burger’s vector)不对称倾斜晶界(asymmetric tilt boundary) 不平衡共晶(non-equilibrium eutectic)不全位错(imperfect dislocation)布拉菲点阵(Bravais Lattice)部分位错(partial dislocation)部分有序(partial order)C材料科学(materials science)残余应力(residual stress)长程有序(long-range order, LRO)成分(composition)成分过冷(constitutional supercooling)成分起伏(composition fluctuation)成分三角形(composition triangle)尺寸因素化合物(size factor compound)垂直截面(vertical section)纯铁(pure iron)脆性(brittleness)D大角度晶界(high-angle grain boundary)单晶体(single crystal)单位位错(unit dislocation)单相(single phase)单相合金(homogeneous alloy)单斜晶系(monoclinic crystal system)倒易点阵(reciprocal lattice)等温线投影图(polythermal projection)等腰成分三角形(isosceles composition triangle)等轴晶区(equiaxed zone)点缺陷(point defects)点阵常数(lattice constant)点阵畸变(lattice distortion)电负性(electronegativity)电离能(ionization energy of atoms)电子化合物(electron compound, Hume-Rothery phase)电子浓度(electron concentration)电子亲和能(affinity energy of electrons)动力学(kinetics)动态过冷(dynamic supercooling)动态回复(dynamic recovery)动态再结晶(dynamic recrystallization)短程有序(short-range order, SRO)短路扩散(short circuit diffusion)堆垛层错(stacking fault)堆垛层错能(stacking fault energy)对称倾斜晶界(symmetric tilt boundary)多边化(polygonization)多滑移(multiple slip)多晶体(polycrystalline solid)多晶型性(polymorphism)多相材料(polyphase materials, heterogeneous)多相合金(heterogeneous alloy)E二次键(secondary bonding)二次再结晶(secondary recrystallization)二维晶核机制(two-dimensional nucleation)二元相图(binary phase diagrams )F反应扩散(reaction diffusion)范德瓦耳斯键(van der Waals bonding)非共格界面(non-coherent interface)非共格孪晶界(non-coherent twin boundary)非晶体(amorphous material)非均匀形核(heterogeneous nucleation)非平衡凝固(nonequilibrium solidification)非稳态扩散(nonsteady-state diffusion)菲克第二定律(Fick’s second law)菲克第一定律(Fick’s first law)分切应力(resolved shear stress)弗兰克尔缺陷(Frenkel defects)弗兰克-瑞德源(Frank-Read source)复合材料(composite)复合晶胞(composite unit cell)G杠杆定律(lever rule)高斯解(Guass solution)Gibbs相律(Gibbs phase rule)公切线法则(common tangent line)共轭连线(conjugate lines)共轭曲线(conjugate curves)共格孪晶界(coherent twin boundary)共格相界(coherent phase interface)共价键(covalent bonding)共晶(eutectic)共晶白口铸铁(eutectic white cast iron)共晶反应(eutectic reaction):共晶合金(eutectic alloy)共晶相图(eutectic phase diagram)共析反应(eutectoid reaction)共析钢(eutectoid steel)固溶强化(solid-solution strengthening)固溶体(solid solution)固相线(solidus)过饱和点缺陷(supersaturated point defects)过共晶白口铸铁(hyper-eutectic white cast iron) 过共晶合金(hypereutectic alloy)过共析钢(hyper-eutectoid steel)过冷(supercooling)过冷度(the degree of supercooling)H合金(alloy)合晶反应(synthetic reaction)合力(net force)宏观结构(macrostructure)虎克定律(Hooke’s law)互扩散(interdiffusion)互扩散系数(interdiffusion coefficient)滑移(slip)滑移带(slip bands)滑移系(slip systems)滑移线(slip lines)化合物(intermediate compound)化学亲和力(chemical affinity)环形换位(cyclic exchange)回复(recovery)混合位错(mixed dislocation)霍尔—佩奇公式(Hall-Petch equation)J极射投影(stereographic project)激活能(activation energy)加工硬化(work hardening, strain hardening) 间隙(interstices)间隙固溶体(interstitial solid solution)间隙化合物(interstitial compound)间隙相(interstitial phase)简单晶胞(simple unit cell)交滑移(cross slip)结构起伏(structure fluctuation)结合键(bonding)结合能(bonding energy)结晶(crystallization)介稳相(metastable phase)金属(metal)金属间化合物(intermetallic compound)金属键(metallic bonding)晶胞(unit cells)晶带(crystal zone)晶带轴(crystal zone axis)晶格(crystal lattice)晶核(nucleus of crystal)晶界(grain boundary)晶界能(boundary energy)晶粒长大(grain growth)晶面(crystal planes)晶面间距(inter-planer spacing)晶面指数(Miller indices of crystallographic plane)晶面转动(rotation of crystal plane)晶面族(a family of crystal planes)晶胚(crystal embryo)晶体(crystalline solid)晶体结构(crystal structures)晶系(crystal system)晶向(crystal directions)晶向指数(Orientation index, Miller indices for the direction) 晶向族(a family of crystal directions)晶轴(crystal axes)均匀形核(homogeneous nucleation)K抗拉强度σb (tensile strength)柯肯达尔效应(Kirkendall effect)柯氏气团(Cottrell atmosphere)空间点阵(space lattice)空位(vacancy)空位机制( vacancy mechanism)扩散(diffusion)扩散常数(diffusion constant)扩散方程(diffusion equation)扩散机制(diffusion mechanism)扩散通量(diffusion flux)扩散系数(diffusion coefficient)扩散系数(diffusion coefficient)扩展位错(extended dislocation)L拉弗斯相(Laves phase)莱氏体(Ld, ledeburite)冷却曲线(cooling curve)冷作硬化(cold working)离子键(ionic bonding)离子晶体(ionic crystal)立方晶系(cubic crystal system)连续生长(continuous growth)临界半径(critical radius)临界变形度(critical degree of deformation)临界分切应力(critical resolved shear stress)临界晶核(critical nucleus)菱方晶系(rhombohedral crystal system)六方晶系(hexagonal crystal system)吕德斯带(Lüders band)孪晶(twins)孪晶界(twin boundary)孪生(twinning)螺型位错(screw dislocation)M弥散粒子(precipitate)密排堆垛结构(close packed crystal structures)密排六方结构(hexagonal close-packed crystal structure,HCP,A3)面角位错(Lomer-Cottrell dislocation)面缺陷(planar defects)面心立方结构(face-centered cubic crystal structure,FCC,A1)N纳米结构(nanostructure)能量起伏(energy fluctuation)凝固(Solidification)扭折(kink)扭转晶界(twist boundary)浓度(concentration)浓度梯度(concentration gradient)P排斥力(repulsive force)派—纳力(Peierls-Nabarro force,P-N force)攀移(climb)配位数(CN, coordination number)偏晶反应(monotectic reaction)偏聚(solute cluster)片状结构(lamellar structure)平衡分配系数(equilibrium partition coefficient)平衡凝固(equilibrium solidification)平衡状态图(equilibrium or constitutional diagram)。
转载成核生长理论第一种贡献是与热涨落而导致的超临界尺寸的分子群集体形成有关第二种是无热成核,只是当体系中的热力学状态发生变化是才出现.也由于区分稳定核与不稳定分子群集体间的临界值改变而产生.晶体生长科学与技术是一门多学科交叉领域,涉及到物理、化学、电子电气工程、流体力学与计算科学等多方面知识的综合运用。
对晶体生长科学与技术的详细讲解是非常困难的,在这里我给大家就我所知道的部分做一个提纲挈领式的导读。
我希望本讲座无论对于没有相关基础知识的朋友,还是对于那些对本领域有一定理解的人都或多或少有些帮助。
总的课程拟分成基本原理和思想、基本技术与仪器设备、典型材料及应用等几个部分。
本讲主要介绍晶体生长技术和仪器中可能涉及到的问题相关的基本原理和思想,关键点有形核(nucleation)、生长界面(crystal-liquidinterface)、输运现象(transportphenomena)、形貌(morphology)以及数值模拟基本知识。
晶体生长最初起源于形核过程,Gibbs在19世纪末就提出形核过程的本质是过冷度(supercooling)作为驱动力与表面能(surfaceenergy)作为阻力之间的竞争。
如图1所示,随着晶体中分子数目的增多,驱动力作为线性降低,而表面能是2/3方关系增加。
这一方面说明过冷度在晶核中的粒子数足够多的情况下将占绝对优势,而另一方面,在某个粒子数目以下,晶粒的增长需要额外的能量,比如温度的涨落帮助其克服因表面能带来的能垒。
图1形核过程基本热力学现已被广泛接受的研究表明,晶体的稳定成核之前需要经过两个阶段,一是从液体中生成团簇(denseliquid),二是团簇之中发生无序-有序转变并最终转化成晶核(realnuclear)。
两步成核理论之所以更成功,是因为它可以用来解释经典一步成核理论与某些晶体成核率实验之间高达10个数量级的巨大差异,因为2步成核涉及到多一级能垒,于是相对晶体成核理论可以得到更低更合理的成核率。
KDP晶体相变界面微观形貌及大台阶形成的AFM观察曹亚超;李明伟;程旻;宋洁;胡志涛【摘要】采用原子力显微镜实时和非实时观察了不同过饱和度下 KDP 晶体(100)面相变界面微观形貌,观察到晶体从生长死区恢复生长的过程;首次得到大台阶形成过程的实时 AFM图像,解释了大台阶的形成机理;分析了台阶失稳的原因。
结果表明,不同实验条件下,KDP(100)面相变界面均呈现为台阶面。
在低过饱和度下,生长台阶来源于螺位错;在较高过饱和度下,层状台阶列来源于二维核。
%The micro topography of phase interface of KDP (100)face under different supersaturation were inves-tigated by using in situ and ex situ AFM technique.The recovery of crystal growth from the dead zone was ob-served.The in situ AFM images of the generating process of the macrostep were obtained for the first time. The formation mechanism of macrostep was explained.The instability of the step was analyzed.The results show that the micro topography of phase interface of KDP (100)face under different experimental conditions all exhibited as stepped surfaces.The growth steps result from spiral dislocation at lower supersaturation,while layer step flows are yielded by two-dimensional nucleation at higher supersaturation.【期刊名称】《功能材料》【年(卷),期】2013(000)017【总页数】6页(P2494-2499)【关键词】KDP;相变界面;大台阶;AFM;层状台阶列【作者】曹亚超;李明伟;程旻;宋洁;胡志涛【作者单位】重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆 400030;重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆 400030;重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆 400030;重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆 400030;重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆 400030【正文语种】中文【中图分类】O7821 引言晶体生长是一个热力学一级相变过程。
晶核的长大第六讲晶核的长大第五节晶核长大一、主要内容:液固界面的微观结构晶体的长大机制液固界面前沿液体中的温度梯度晶体生长的界面形状,晶体形态长大速度晶粒大小的控制二、要点:液固界面的微观结构,光滑界面,粗糙界面的概念,杰克逊因子,不同金属结晶时的液固界面,晶体的长大机制,二维晶核长大机制,螺型位错长大机制,垂直长大机制,液固界面前沿液体中的温度梯度,正温度梯度,负温度梯度。
晶体生长的界面形状,晶体形态,树枝晶,等轴晶,长大速度,晶粒大小的控制三、方法说明:通过对液固界面的微观结构的讨论,说明金属型界面和非金属型界面的不同,结晶后的晶界相界的形态也不同,即晶粒的形状不同,晶粒的形状和大小对金属的性能有直接影响。
液相中的温度梯度对金属的生长速度和生长方式有直接的影响,通过以上的讨论使学生对如何判断金属中的相,和如何得到所需的晶粒大小和形状有一个清楚的认识。
授课内容:形核之后,晶体长大,其涉及到长大的形态,长大方式和长大速率。
长大形态常反映出凝固后晶体的性质,而长大方式决定了长大速率,也就是决定结晶动力学的重要因素。
晶核长大的条件:第一要求液相能不断的向晶体扩散供应原子,第二要求晶体表面能够不断的牢固的接纳这些原子。
晶核长大需要在过冷的液体中进行,但是需要的过冷度要比形核时的小。
一、固液界面的微观结构液固界面的微观结构分为两类:光滑界面和粗糙界面1、光滑界面:如图,在界面的上部,所有原子都处于液体状态,在界面的下部所有的原子都处于固体状态。
这种界面通常为固相的密排面,呈曲折的锯齿状又称为小平面界面。
2、粗糙界面:如图,从微观尺寸看这种界面是平整的,当从原子的尺度看这种界面是高低不平的,液固界面的原子犬牙交错的分布着,所以又叫非小平面界面。
3、如果界面上有近0,或100,的位置为晶体原子所占有,则界面是光滑界面。
界面自由能的变化可用公式表示:二、晶体长大机制1、二维晶核长大机制光滑界面时晶体的长大只能依靠二维形核机制方式长大。