碳化硅电子元器件简介
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碳化硅主要器件形式1. 引言碳化硅(SiC)是一种广泛应用于电力电子领域的半导体材料。
相比于传统的硅材料,碳化硅具有更高的电子能带宽度、更高的热导率和更高的击穿电压,使其成为一种理想的材料用于高温、高电压和高频率的应用。
在碳化硅材料的基础上,开发了各种形式的主要器件,包括二极管、金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)、金属氧化物半导体场效应二极管(MOSFET-D)、绝缘栅双极晶体管(IGBT)等。
这些器件形式在不同的应用场景中具有各自的优点和特点。
2. 碳化硅二极管碳化硅二极管是碳化硅主要器件形式之一。
它具有较低的反向电流、较高的击穿电压和较高的开关速度。
碳化硅二极管广泛应用于高压、高温和高频率的电力电子应用中,如电源、变频器、电动车充电器等。
碳化硅二极管的优点包括:•低反向电流:碳化硅材料的宽禁带宽度使得二极管的反向电流较低,可以减少能量损耗。
•高击穿电压:碳化硅材料的击穿电压较高,可以提供更高的电压容忍能力。
•高开关速度:碳化硅材料的载流子迁移率较高,使得二极管具有较高的开关速度。
3. 碳化硅MOSFET碳化硅MOSFET是碳化硅主要器件形式之一。
它是一种基于金属氧化物半导体结构的晶体管,具有较低的导通电阻、较高的开关速度和较高的击穿电压。
碳化硅MOSFET的优点包括:•低导通电阻:碳化硅材料的高载流子迁移率和较低的材料电阻使得MOSFET 具有较低的导通电阻,可以减少能量损耗。
•高开关速度:碳化硅材料的载流子迁移率较高,使得MOSFET具有较高的开关速度,可以提高系统的响应速度。
•高击穿电压:碳化硅材料的击穿电压较高,可以提供更高的电压容忍能力。
碳化硅MOSFET广泛应用于电力电子领域的高压、高温和高频率应用中,如电源、变频器、电动车驱动等。
4. 碳化硅MOSFET-D碳化硅MOSFET-D是碳化硅主要器件形式之一。
它是一种具有二极管特性的MOSFET,可以在同一结构中实现开关和整流功能。
碳化硅相关介绍范文碳化硅(Silicon Carbide,简称SiC)是一种重要的半导体材料,具有优异的物理和化学性质,被广泛应用于电子、能源和化工等领域。
本文将从多个方面对碳化硅进行综合介绍。
1.基本性质碳化硅具有极高的熔点(约2700℃),使其在高温环境下具有出色的稳定性。
此外,碳化硅的热导率高,电导率较高,可优化电子器件的散热和导电性能。
碳化硅具有广泛的带隙宽度范围(约2.2eV-3.2eV),可满足不同电子器件的应用需求。
此外,由于碳化硅的高硬度和耐腐蚀性,可用于制备高性能陶瓷和涂层。
2.半导体应用碳化硅是一种优异的半导体材料,因为它具有较高的电子迁移率(比硅高几倍)和较高的击穿场强。
这使得碳化硅在高温和高功率应用中表现出色。
碳化硅晶体管(MOSFET)和肖特基势垒二极管(Schottky Diode)是碳化硅半导体的两个典型应用。
碳化硅晶体管具有低导通电阻和高电压承受能力,适用于高功率电子设备和新能源领域。
碳化硅肖特基二极管具有快速开关速度和低反向导通损耗,被广泛应用于高频和高温电子器件。
3.光电子器件应用碳化硅在光电子器件领域具有广泛的应用前景。
由于它的较大带隙,碳化硅可以作为紫外光探测器、紫外光发射二极管和激光器等器件的基底材料。
碳化硅还具有较高的非线性光学系数,可用于制备光学调制器和光学开关等光纤通信设备。
此外,碳化硅的热稳定性和耐辐照性也使其成为高能粒子探测器和核辐照监测器的理想材料。
4.电力传输应用由于碳化硅具有高击穿场强和高热导率等优良性能,它在电力传输领域有着广泛的应用。
碳化硅可以用于制造高压输电线路的绝缘子件,能够提高输电效率和可靠性。
此外,碳化硅还可以用于制造高压电力设备和电力变换器,用于促进电力传输和分配的效率和可靠性的提高。
5.化学工业应用碳化硅还在化学工业领域有广泛的应用。
由于碳化硅的高耐腐蚀性,它可以用作化学反应器的内涂层材料,以抵抗酸、碱和高温等极端环境条件。
碳化硅MOSFET 器件结构和特性SiC(碳化硅)是由硅和碳化物组成的化合物半导体。
与硅相比,SiC具有许多优势,包括10倍的击穿电场强度,3倍的带隙,以及实现器件结构所需的更广泛的p型和n型控制。
其结果是硅无法实现的突破性性能,使其成为下一代功率器件最可行的继任者。
SiC存在多种多型(多晶型),每种具有不同的物理性质。
在这些多类型中,4H-SiC是功率器件最理想的。
功率器件特性SiC的击穿电场强度是硅的10倍,因此可以通过更薄的漂移层和更高的杂质浓度配置更高电压(600V至XNUMX V)的功率器件。
由于高压器件的大部分电阻成分位于漂移层电阻中,因此SiC能够以极低的单位面积导通电阻实现更高的耐压。
理论上,在相同的耐压下,单位面积的漂移层电阻可比硅降低300倍。
为了尽量减少使用硅的较高耐压下导通电阻的增加,通常使用少数载流子器件(双极性),例如IGBT(绝缘栅双极晶体管)。
然而,这会增加开关损耗,从而导致更大的热量产生并限制高频操作。
相比之下,SiC通过高速器件结构,使用多数载流器件(肖特基势垒二极管、MOSFET)实现高耐压成为可能,同时实现高耐压、低导通电阻和高速运行。
3倍宽的带隙允许功率器件在更高的温度下工作,从而大大扩展了适用性。
碳化硅SBD器件结构和特点将碳化硅高速器件结构集成到肖特基势垒二极管(SBD)中,可以实现大于600V的耐压(与硅SBD的~200V相反)。
因此,替换现有的主流PN结二极管(快速恢复型)可显著降低恢复损耗,有助于降低线圈等无源元件的噪声和更紧凑性。
这是由于电源效率的提高和操作频率的提高。
这确保了对功率因数校正电路(PFC)和整流桥的支持,使其适用于更广泛的应用,包括交流电、电源、太阳能功率调节器、电动汽车快速充电器。
碳化硅SBD正向特性SiC SBD的上升电压小于1V-相当于FRD的上升电压。
上升电压由肖特基势垒的高度决定。
然而,尽管设计较低的正常势垒高度可以降低上升电压,但这是以泄漏电流为代价的,漏电流在反向偏置期间会增加。
sic 器件分类
SIC(硅碳化物)器件可以分为以下几类:
1. SIC二极管:SIC二极管是一种半导体器件,可以用于开关、整流和电源管理等应用领域。
它具有低漏电流、高温度工作能力、高速操作、高电压容忍和耐辐射等特点。
2. SIC MOSFET:SIC MOSFET是一种场效应晶体管,是SIC的另一种重要应用,具有高电压容忍、低开关损失、高速操作和低导通阻抗等特点。
它在高频功率转换和电机驱动器等领域有广泛的应用。
3. SIC功率模块:SIC功率模块是一种集成了多个SIC器件的器件,通常包括多个二极管和MOSFET。
它们被广泛应用于交通、工业和电能应用等领域。
4. SIC JFET:SIC JFET是一种结型场效应晶体管,其特点包括高开关速度和低噪声等。
SIC JFET可以用于放大、开关和瞬态保护等领域。
5. SIC基板:SIC基板是一种用SIC材料制成的基板,通常用于高功率电子器件的制造。
SIC基板具有优异的散热性能、电绝缘性能和晶体质量,是高功率电子器件制造的理想选择。
碳化硅相关的新知识随着科技的不断发展,碳化硅作为一种优秀的半导体材料,越来越受到人们的关注。
它具有高硬度、高熔点、优良的化学稳定性和电热性能等特点,使得它在电子、汽车、航空航天、军事等领域有着广泛的应用前景。
下面就对碳化硅的相关知识进行详细的介绍。
一、碳化硅材料特性碳化硅(SiC)是由碳元素和硅元素组成的一种化合物,其晶体结构中每个碳原子都与四个硅原子形成共价键,每个硅原子也与四个碳原子形成共价键,形成一个连续的三维网络。
这种晶体结构使得碳化硅具有极高的硬度、熔点和化学稳定性,以及优良的导热性和电性能。
此外,碳化硅还具有良好的抗辐射性能和抗氧化性能,使其在极端环境下也有广泛的应用。
二、碳化硅在电子器件中的应用由于碳化硅的优异电性能和高温稳定性,它在电子器件领域有着广泛的应用。
在电力电子领域,碳化硅材料可以用于制造高频率、高效率的功率器件,如电力电子开关、直流输电装置、电机控制设备等。
在微波器件领域,碳化硅材料可用于制造高频率、高功率的微波管、行波管、磁控管等器件。
此外,碳化硅在光电子器件领域也有着广泛的应用,如制造高温、高频率的激光器、探测器等器件。
三、碳化硅在新能源汽车领域的应用随着新能源汽车的快速发展,碳化硅在新能源汽车领域的应用也越来越广泛。
由于碳化硅具有优良的导热性和电性能,它可以用于制造新能源汽车中的电机控制器、车载充电桩、电池管理系统等关键部件。
此外,碳化硅还可以用于制造新能源汽车中的燃料电池和太阳能电池等部件。
四、碳化硅在高温炉窑领域的应用碳化硅陶瓷具有优良的耐高温性能和化学稳定性,因此在高温炉窑领域有着广泛的应用。
它可以用于制造高温炉窑的炉衬材料、炉管、炉口等部件,还可以用于制造高温过滤器、热工仪表等部件。
此外,碳化硅陶瓷还可以用于制造火箭喷嘴、燃烧室等部件,提高发动机的性能和寿命。
五、碳化硅的合成与制备方法碳化硅的合成与制备方法有多种,其中最常见的是高温合成法和化学气相沉积法。
碳化硅管sct011w120g3ac参数碳化硅管(SCT011W120G3AC)是一种常用的电子元器件,具有多种参数和特性,下面将详细介绍该产品的相关信息。
1.产品概述:碳化硅管(SCT011W120G3AC)是一种广泛应用于电力、电子、通信等领域的高压二极管。
它采用碳化硅材料制造,具有较高的耐压、耐温和抗击穿能力,适用于高压电路中的保护、整流和开关等功能。
2.参数特性:(1)碳化硅管的额定电压为1200V,指的是其可承受的最大工作电压。
(2)最大反向电流为1mA,即在额定电压下,碳化硅管的最大反向电流不超过1mA。
(3)最大工作温度为150℃,超过该温度可能会导致碳化硅管的性能下降或失效。
(4)开启电压一般为1.2V,是指在正向导通状态下,碳化硅管的电压降为1.2V。
3.用途和应用:碳化硅管广泛应用于各种高压电路中,例如:(1)电源领域:用于高压电源的整流和过滤。
(2)电力领域:用于高压开关和保护电路。
(3)通信领域:用于高压防雷保护电路。
(4)工业控制领域:用于高压开关、保护和反相保护电路等。
4.优点和特点:(1)高耐压能力:碳化硅管具有较强的耐压能力,适用于高压电路中的各种应用场景。
(2)低反向电流:碳化硅管的反向电流很低,可以保证电路的精确控制和保护。
(3)快速开启速度:碳化硅管具有快速的开启速度,适用于高频开关电路的应用。
(4)较高的工作温度:碳化硅管能够在较高的温度下正常工作,适用于高温环境下的应用。
总结:碳化硅管(sct011w120g3ac)是一种常用的高压二极管,具有1200V 的额定电压,1mA的最大反向电流和150℃的最大工作温度。
该产品广泛应用于电力、电子、通信等领域,具有高耐压能力、低反向电流、快速开启速度和较高的工作温度等特点。
在选择和应用碳化硅管时,需要根据具体的电路需求和环境条件进行合理选择,以确保电路的稳定性和可靠性。
碳化硅(SiC)功率器件的最大电流取决于具体的器件型号和设计参数。
碳化硅功率器件是一种高性能的半导体器件,它们相比传统的硅(Si)功率器件具有更高的电子迁移率和更高的击穿电压。
这些特性使得SiC器件能够承受更高的电压和电流,因此在电力电子转换和控制系统中非常受欢迎。
以下是一些关于SiC功率器件的关键信息:
1. 器件类型:SiC功率器件可以分为单极型(如MOSFETs和肖特基二极管)和双极型(如PiN二极管、IGBT、BJT、GTO)。
2. 电压和电流等级:SiC功率器件的电压和电流等级不断提高,市场上已经推出了能够处理更高电压和更大电流的产品。
3. 效率和性能:由于SiC材料的优异特性,SiC功率器件在单位面积下的导通电阻可以非常低,这意味着它们在高电压应用中具有更高的效率和更好的性能。
总之,在选择SiC功率器件时,需要根据具体的应用需求来选择合适的型号,以确保器件能够在所需的最大电流下稳定工作。
通常,器件的数据手册会提供最大电流等关键参数的详细信息,因此在设计和选择时应参考这些数据。
sic 器件结构解读
SiC(碳化硅)器件是一种广泛应用于高温、高功率和高频电子设备的半导体材料。
SiC器件的结构主要包括以下几个部分:
1. 基板:基板是SiC器件的基础,它承载着其他各个组件。
常见的基板类型有硅基板、碳化硅基板和氮化硅基板等。
2. 散热层:由于SiC材料的导热性能优异,散热层在器件结构中起到关键作用。
散热层可以帮助分散器件内部产生的热量,防止器件过热,保证其正常工作。
3. 绝缘层:绝缘层位于基板和散热层之间,主要用于隔离不同电位区域,防止电流泄漏。
常见的绝缘层材料有氧化铝、氮化硅等。
4. 导电层:导电层主要包括金属导电层和碳化硅导电层。
金属导电层主要用于连接器件的各个电极,而碳化硅导电层则可用于构建场效应晶体管(FET)等器件。
5. 电极:电极是SiC器件的关键部分,用于输入和输出电信号。
电极通常采用金属材料,如钨、钼等,以保证良好的导电性能。
6. 器件结构:SiC器件结构根据具体应用需求可以有很多种形式,如MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)、IGBT(绝缘栅双极型晶体管)、功率模块等。
这些结构通常包括多个半导体层,如n型层、p型层等,以及用于隔离和连接这些层的绝缘层和导电层。
总之,SiC器件结构主要包括基板、散热层、绝缘层、导电层、电极和根据应用定制的器件结构。
了解这些部分有助于我们更好地理解SiC器件的工作原理和性能优势。
碳化硅功率器件及其发展现状碳化硅为代表的第三代宽禁带半导体,可在更高温度、电压及频率环境正常工作,同时消耗电力更少,持久性和可靠性更强,将为下一代更小体积、更快速度、更低成本、更高效率的电力电子产品提供飞跃的机遇。
碳化硅电力电子器件技术的进步及产业化,将在高压电力系统开辟全新应用,对电力系统变革产生深远影响。
碳化硅电力电子器件优异的高效、高压、高温和高频特性,使其在家用电器、电机节能、电动汽车、智能电网、航天航空、石油勘探、自动化、雷达与通信等领域有很大应用潜力。
碳化硅电力电子器件介绍:1.碳化硅(SiC)的定义碳化硅(SiC)电力电子器件是指采用第三代半导体材料SiC制造的一种宽禁带电力电子器件,具有耐高温、高频、高效的特性。
按照器件工作形式,SiC电力电子器件主要包括功率二极管和功率开关管。
功率二极管包括结势垒肖特基(JBS)二极管、PiN二极管和超结二极管;功率开关管主要包括金属氧化物半导体场效应开关管(MOSFET)、结型场效应开关管(JFET)、双极型开关管(BJT)、绝缘栅双极型晶体管(IGBT)、门极可关断晶闸管(GTO)和发射极可关断晶闸管(ETO)等。
2.技术优势碳化硅半导体的优异性能使得基于碳化硅的电力电子器件与硅器件相比具有以下突出的优点:(1)具有更低的导通电阻。
在低击穿电压(约50V)下,碳化硅器件的比导通电阻仅有1.12uΩ,是硅同类器件的约1/100。
在高击穿电压(约5kV)下,比导通电阻提高到25.9mΩ,却是硅同类器件的约1/300。
更低的导通电阻使得碳化硅电力电子器件具有更小的导通损耗,从而能获得更高的整机效率。
(2)具有更高的击穿电压。
例如:商业化的硅肖特基二极管通常耐压在300V以下,而首个商业化的碳化硅肖特基二极管的电压定额就已经达到了600V;首个商业化的碳化硅MOSFET电压定额为1200V,而常用的硅MOSFET 大多在1kV以下。
(3)更低的结-壳热阻,使得器件的温度上升更慢。
碳化硅材料的优点
•高电子饱和速度 (2x Si )
•高击穿电压 (10x Si )
•Wide band gap (3x Si )
•大禁带宽度 (3x Si )
•高熔点 (2x Si )
✓导通电阻低 ✓高频特性好 ✓耐高压 ✓高温特性好
•可以超高速开关,大大提高产品效率,减小散热设备面积
•可以实现设备小型化 (如电动汽车充电器)
•可在高压下稳定工作 (高速列车,电力等)
•可在高温环境下稳定使用 (电动汽车等)
材料
器件 应用
碳化硅器件的耐温特性
GPT SIC DIODES VS SILICON FRD( 600V10A )
Company A
Company A
GPT
SiC SBD
主要产品
政府项目:
SiC BJT: 1200V10A
SiC MOS: 1200V40m Ω/80mΩ
碳化硅 BJT/MOS
650V200A/1200V450A
碳化硅混合模块
650V: 3A/4A/5A/6A/8A/10A/20A/30A/50A/80A/100A
1200V: 2A/5A/10A/20A/40A/50A
1700V: 10A/30A
3300V: 0.6A/1A/2A/3A/5A/50A
碳化硅肖特基二极管
产品认证
ISO 9001 认证可靠性试验报告Rohs 认证CE 认证
应用市场
PFC
EV Car/Train Traction
UPS
Solar Inverter
• 耐高温
•使用碳化硅器件使得光伏逆变器输出功率从10kW 提升至40kW ,但是碳化硅器件的高温特性不需要更大体积的散热片系统,从而避免额外增加系统体积和重量。
• 高开关效率
更高工作频率下使用碳化硅开关器件大大减小每千瓦输出功率所要求的的电容体积。
• 低传导损耗
•碳化硅器件可加倍电流输送。
同样芯片面积的碳化硅器件即可承担硅器件输出功率的4倍以上。
1200V 20A 碳化硅二极管反向恢复时间特性
-100
-50
50
100
1.00E-06
1.50E-06
2.00E-06
2.50E-06
3.00E-06
Time (us )
I (A )
泰科天润SiC SBD Si FRD
GPT SiC
Company A SiC
Si FRD
Reduction rate compared with Si
FRD
I RM (A)
18.1
16.9 94.8 80.91% T rr (us)
0.048
0.047 0.53 90.94% Q rr (nC)
0.51
0.47 16.5 96.91% E rec (mJ)
0.44
0.44 8.17 94.61% E on (mJ)
4.57
5.23
6.57 30.44% E off (mJ)
10.23
10.51
10.27
0.39%
E total (mJ)
14.8
15.74 16.84 12.11%
GPT Company A Si FRD
碳化硅器件性能对比
功率器件专用设备的外协工艺
高温离子注入服务高温退火与碳膜建设服务离子种类
(一价/二价/全种类)
Al, N, P, Ar, and etc
注入能量10KeV~400KeV 一价离子注入20KeV~800KeV 二价离子注入
注入剂量5E11~1E16 倾斜度0°— 89°旋转度0°— 359°温度常温~500℃
温度范围≤1850℃
氛围气体Ar
碳膜溅射膜厚可根据客户要求订制。