平面光波导分路器封装技术
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平面光波导的制备与测试技术光通信作为一种高速、大容量的通信方式,在现代通信领域中扮演着重要角色。
而平面光波导作为光通信中的核心组件之一,其制备与测试技术的发展对于提高光通信的性能和可靠性起着至关重要的作用。
一、平面光波导的制备技术平面光波导的制备过程主要包括材料选择、器件设计和加工工艺三个环节。
首先,材料选择是平面光波导制备的基础。
常见的平面光波导材料有硅(Si)、氧化硅(SiO2)、聚合物等。
硅是一种优良的基底材料,具有优异的光学和电子特性,被广泛应用于平面光波导的制备。
而氧化硅和聚合物则具有较好的光学特性和加工性能,适用于一些特殊需求的光波导器件。
其次,器件设计是平面光波导制备的核心。
器件设计主要包括平面光波导核心层的宽度、厚度等参数的确定,以及相应的布线规则。
平面光波导的核心层应保证光的传输效果,一般会采用较薄的材料。
此外,根据需要,还可以设计一些附加的结构,如激光器、光电探测器等。
最后,加工工艺是平面光波导制备的关键。
平面光波导的加工工艺主要包括光刻、湿法刻蚀、干法刻蚀和热压等步骤。
光刻是通过光干涉技术制备光刻胶阻隔层的过程,湿法刻蚀和干法刻蚀则用来刻蚀材料,以形成平面光波导结构。
热压则用来固定光波导结构与衬底之间的粘合。
二、平面光波导的测试技术平面光波导的测试技术对于确保器件的性能和可靠性至关重要。
首先,常见的平面光波导测试技术包括波导特性测试和光输出功率测试。
波导特性测试主要关注光波导的传输性能,包括驻波比、插损、耦合效率等参数的测量。
光波导可以通过光纤器件的耦合测试来评估光纤与光波导之间的传输效果。
而光输出功率测试则用来评估光波导器件的输出性能,可以通过光功率计等仪器进行测量。
其次,光波导对环境的敏感性和稳定性也需要进行测试。
在实际应用中,光波导往往会受到温度、湿度等环境因素的影响,因此需要对其在不同环境条件下的性能进行测试。
常见的测试方法包括温度循环、湿度暴露和振动测试等。
最后,平面光波导的可靠性测试是评估其在长期使用中的性能和稳定性的关键。
制定/修订人手写 (黑色中性笔) 部门专员或主管分 发 范 围:年月日 序号文档来源为:从网络收集整理.word 版本可编辑.欢迎下载支持.审核批准手写 (黑色中性笔)部门经理手写 (黑色中性笔) 管理者代表或副 总年月日 修订内容年月日 修订人 修订时间份发部门 分发份数 (根据文件需要分发到相关部门)文档来源为:从网络收集整理.word 版本可编辑.欢迎下载支持.一、 目的:为使平面光波导(PLC)光功率分路器检验规范检验项目符合行业要求,规范检验操作过程,特制订 本规范。
二、 适用范围:适用于PLC 分路器。
规定了基于PLC光功率分路器(以下简称PLC 分路器)的术语和定义、技术要 求和测试方法、可靠性试验条件和要求、检验规则以及标志、包装、贮存等条件。
三、 定义及职责: 定义:光功率分路:是指用于实现特定波段光信号的功率辑合及再分配功能的光无源器件。
平面光波导光功率分路器:是指采用平面光波导工艺技术制作的光功率分路器。
工作带宽:是指满足 PLC 分路器光学性能指标要求的光波长范围,单位为 nm. 分路器芯:是指直接由平面光波导工艺技术形成的 l xN 或 2xN 分路器的基本单元。
插入损耗(IL):是指 PLC 分路器工作波长在规定输出端口的光功率相对全部输入光功率的减少值。
方向性(DL): 是指 PLC 分路器正常工作时,同一侧中非注入光一端的输出光功率与注入光功率(被测波长)的比值。
均匀性(FL): 是指 PLC 分路器在工作带宽范围内,均匀分光的光分路器各输出端口输出光功率皂剧的最大变化量。
偏振相关损耗(PDL):是指传输光信号的偏振态在全偏振态变化时,PLC 分路器各输出端口输出光功率的最大变化量。
回波损耗(RL): 是指对 PLC 分路器的输入光功率中沿输入路径返回的量度。
职责:开发部:负责检验技术标准的制订。
(无)品质部:负责检验方法、抽样水准的制订。
品质部:外检负责箱体来料检验过程的执行;FQC 负责本规范在成品入库检验过程中的执行;OQC 负责本规范在成品出厂检验过程中的执行。
光分路器施工及验收方案光分路器是指用于实现特定波段光信号的功率辑合及再分配功能的光无源器件,光分路器可以是均匀分光,也可以是不均匀分光。
4.3.1.类型及基本原理根据制作工艺,光分路器可分为熔融拉锥(FBT)光分路器和平面光波导(PLC)光分路器两种类型。
按器件性能覆盖的工作窗口分为:单窗口型光分路器、双窗口型光分路器、三窗口型光分路器和全宽带型光分路器。
(1).熔融拉锥(FBT)光分路器是将两根光纤扭绞在一起,然后在施力条件下加热并将软化的光纤拉长形成锥形,并稍加扭转,使其熔接在一起。
熔融拉锥(FBT)光分路器一般能同时满足1310nm和1490nm波长的正常分光。
1∶2分光分光比50/50熔接点图4-9 熔融拉锥(FBT)光分路器原理图(2).平面光波导(PLC)光分路器是基于平面波导技术的一种光功率分配器,用半导体工艺(光刻、腐蚀、显影等技术)制作的光波导分支器件,光波导阵列位于芯片的上表面,分路功能在芯片上完成,并在芯片两端分别耦合封装输入端和输出端多通道光纤阵列。
平面光波导(PLC)光分路器的工作波长可在1260nm~1650nm宽谱波段。
光波导分支体光纤阵列光纤θX Y X Y 图4-10 平面光波导(PLC)光分路器原理图光分路器有一个或两个输入端以及两个以上输出端,光功率在输出端为永久性分配方式。
光分路器按功率分配形成规格来看,可表示为M×N,也可表示为M:N。
M表示输入光纤路数,N表示输出光纤路数。
4.3.2.PLC型光分路器4.3.2.1.组成及结构经过一次封装的PLC型光分路器主要由PLC芯片、光纤阵列(FA)、外壳等三大部分组成。
如图4-11所示:完成品光纤阵列芯片外壳图4-11 PLC型光分路器的组成(1).封装过程PLC型分路器的封装是指将平面波导分路器上的各个导光通路(即波导通路)与光纤阵列中的光纤一一对准,然后用特定的胶(如环氧胶)将其粘合在一起的技术。
PLC分光器工艺流程PLC(Planar Lightwave Circuit)分光器是一种基于二氧化硅平面波导技术制造的光器件,用于在光通信系统中实现光信号的分配和合并。
PLC分光器由一根输入波导和多根输出波导组成,可以将输入的光信号平均分配到各个输出端口上,或者将多个输入光信号合并为一个输出光信号。
PLC分光器的制造工艺流程通常包括以下步骤:1.基底准备:选择适用的基底材料,并通过机械研磨和化学抛光处理,使其表面平整光滑。
2.平面波导制备:在基底上使用光刻技术制备出平面波导结构。
首先在基底上涂覆光刻胶,然后使用掩膜模板对光刻胶进行曝光,形成波导图案。
曝光后,通过显影处理去除未固化的光刻胶部分,最终形成波导结构。
3. 波导芯片制备:在平整的基底上,使用PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等方法沉积二氧化硅材料,形成波导芯片的结构。
波导芯片的材料具有适当的折射率,用于引导光信号。
4.加工和连接:将波导芯片进行切割和清洗,以得到适当尺寸的单个PLC芯片。
然后,在芯片上使用电子束或激光器刻蚀技术,在合适的位置形成输入和输出的凹槽和耦合面。
通过这些凹槽和耦合面,将光纤连接到PLC芯片,将光信号导入和导出。
5.封装:完成PLC芯片和光纤的连接后,将整个光器件进行封装。
通常使用环氧树脂或光胶进行封装,以保护PLC芯片和光纤不受湿度、尘埃等环境因素的影响。
6.测试和质检:对制造完成的PLC分光器进行严格的测试和质检。
通过使用光源和光功率计等设备,测试和测量PLC分光器的光损耗、均匀性和波导传输效率等性能指标。
以上是PLC分光器的典型制造工艺流程,每个步骤都需要严格控制和精确操作,以确保PLC分光器的性能达到设计要求。
制造PLC分光器的工艺也在不断发展,以提高制造效率和降低成本,促进光通信技术的发展和应用。
平面光波导(PLC, planar Lightwave circuit)技术平面光波导(PLC, planar Lightwave circuit)技术随着FTTH的蓬勃发展,PLC(Planar Lightwave Circuit,平面光路)已经成为光通信行业使用频率最高的词汇之一,而PLC的概念并不限于我们光通信人所熟知的光分路器和AWG,其材料、工艺和应用多种多样,本文略作介绍。
1.平面光波导材料PLC光器件一般在六种材料上制作,它们是:铌酸锂(LiNbO3)、Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物、二氧化硅(SiO2)、SOI(Silicon-on-Insulator, 绝缘体上硅)、聚合物(Polymer)和玻璃,各种材料上制作的波导结构如图1所示,其波导特性如表1所示。
图1. PLC光波导常用材料铌酸锂波导是通过在铌酸锂晶体上扩散Ti离子形成波导,波导结构为扩散型。
InP波导以InP为称底和下包层,以InGaAsP为芯层,以InP或者InP/空气为上包层,波导结构为掩埋脊形或者脊形。
二氧化硅波导以硅片为称底,以不同掺杂的SiO2材料为芯层和包层,波导结构为掩埋矩形。
SOI波导是在SOI基片上制作,称底、下包层、芯层和上包层材料分别为Si、SiO2、Si和空气,波导结构为脊形。
聚合物波导以硅片为称底,以不同掺杂浓度的Polymer材料为芯层,波导结构为掩埋矩形。
玻璃波导是通过在玻璃材料上扩散Ag离子形成波导,波导结构为扩散型。
表1. PLC光波导常用材料特性2. 平面光波导工艺以上六种常用的PLC光波导材料中,InP波导、二氧化硅波导、SOI波导和聚合物波导以刻蚀工艺制作,铌酸锂波导和玻璃波导以离子扩散工艺制作,下面分别以二氧化硅波导和玻璃波导为例,介绍两类波导工艺。
二氧化硅光波导的制作工艺如图2所示,整个工艺分为七步:1)采用火焰水解法(FHD)或者化学气相淀积工艺(CVD),在硅片上生长一层SiO2,其中掺杂磷、硼离子,作为波导下包层,如图2(b)所示;2)采用FHD或者CVD工艺,在下包层上再生长一层SiO2,作为波导芯层,其中掺杂锗离子,获得需要的折射率差,如图2(c)所示;3)通过退火硬化工艺,使前面生长的两层SiO2变得致密均匀,如图2(d)所示。
平面波导型光分路器一、什么是平面波导型光分路器?平面波导型光分路器(Planar Lightwave Circuit, PLC)是一种基于光波导技术的光学器件,用于将一个输入端口的光信号分成多个输出端口。
它是一种集成度高、尺寸小、损耗低、稳定性好的光学器件,被广泛应用于通信系统中。
二、平面波导型光分路器的结构平面波导型光分路器由三个部分组成:输入端口、输出端口和波导网络。
其中,输入端口是将外界的信号引入到器件中;输出端口则是将信号从器件中输出;而波导网络则是将输入信号按照特定的比例分配到不同的输出端口上。
三、平面波导型光分路器的工作原理平面波导型光分路器的工作原理基于多模干涉(Multimode Interference, MMI)效应。
当一个单模传输线(如单模光纤)与一个MMI耦合时,由于传输线上只有一个传播模式,在MMI内部会产生多个等效模式,这些等效模式之间会发生相互干涉,从而实现对输入信号进行分配。
四、平面波导型光分路器的优点1. 集成度高:平面波导型光分路器可以集成在光芯片上,与其他光学器件组成复杂的系统,从而实现高度集成化。
2. 尺寸小:由于采用了微纳加工技术,平面波导型光分路器的尺寸非常小,可以满足高密度封装的需求。
3. 损耗低:平面波导型光分路器采用了低损耗材料和优化的结构设计,使其损耗非常低。
4. 稳定性好:平面波导型光分路器采用了可靠的制造工艺和优化的结构设计,使其具有很好的稳定性和可靠性。
五、平面波导型光分路器的应用1. 光通信系统中:平面波导型光分路器被广泛应用于WDM系统、OLT/ONT、PON等领域。
2. 光传感领域中:平面波导型光分路器可以应用于温度、压力、形变等量测领域。
3. 生物医学领域中:平面波导型光分路器可以应用于生物传感、医学诊断等领域。
六、平面波导型光分路器的发展趋势1. 高速化:随着通信技术的不断发展,对于平面波导型光分路器的速度要求也越来越高。
2. 集成化:未来平面波导型光分路器将更加集成化,可以与其他器件组成更加复杂的系统。
平面光波导分路器的工作原理及应用平面光波导分路器是一种常用的光学器件,用于在光通信和光子集成电路中实现光信号的引导、分配和分离。
它的工作原理基于光的全反射和干涉现象,可以将入射光束分离成多个输出光束。
在平面光波导分路器中,光是沿着光波导的波导轴传播的。
波导轴通常由高折射率的芯层和低折射率的包层组成。
当光从高折射率的芯层传入包层时,由于两种介质的折射率不同,光会发生全反射并沿着波导轴传播。
在波导中,存在着多个模式,每个模式都对应着不同的传播特性和传播常数。
平面光波导分路器可以通过控制波导结构、波导宽度和长度等参数来实现不同的功用。
其中最常见的是分光和耦合功能。
首先,平面光波导分路器可以实现光信号的分光功能。
当光进入平面光波导分路器时,根据不同模式的传输特性,光信号可以被分离成多个输出光束,每个光束对应着一个特定的模式。
这种分光功能可以用于实现光信号的路由、多路复用和发射。
另外,平面光波导分路器还可以实现光信号的耦合功能。
当光从外界垂直进入平面光波导分路器时,会发生耦合作用,光信号被引导到波导中并沿着波导轴传播。
通过控制波导结构,可以调节入射光的耦合效率和传输损耗。
除了在光通信领域的广泛应用,平面光波导分路器还在光子集成电路中扮演着重要角色。
光子集成电路是一种基于光的微纳器件,可以在芯片上实现光信号的处理和传输。
平面光波导分路器作为光信号的控制器和分配器,可以在光子集成电路中实现光路由和光调制等功能。
通过将多个平面光波导分路器组合在一起,还可以实现复杂的光学功能,如光信号的干涉和相位调控。
总之,平面光波导分路器是一种重要的光学器件,它通过光的全反射和干涉现象实现光信号的引导、分配和分离。
它在光通信和光子集成电路中有着广泛的应用,可以实现光信号的分光和耦合功能,为光学系统的设计和优化提供了很大的灵活性和可行性。
深圳市特发信息股份有限公司PLC 平面光波导分路器产品介绍随着电信市场新增值业务如网络视频可视电话、IPTV、网络游戏、网络教育等的不断推出,用户对带宽的要求不断提高,现有以铜缆为主的XDSL网络已不能适应用户的需求。
世界各国特别是日本、韩国、美国等国家和地区已将FTTX作为接入网投资的主要布网方式。
国内电信营运商在FTTH已正在进行试点及规模布网,FTTX的核心光器件--光分路器市场的春天也随之到来,市场需求不断扩大,国内外光器件厂家一致看好这一市场。
平面光波导功率分路器(PLC Optical Power Splitter),平面光波导技术是用半导体工艺制作光波导分支器件,分路的功能在芯片上完成,可以在一只芯片上实现多达1X32以上分路,然后,在芯片两端分别耦合封装输入端和输出端多通道光纤阵列。
图一:内部结构示意图平面光波导分路器(PLC)产品应用平面光波导工艺,实现了低成本、小尺寸和高可靠性的光分路解决方案。
PLC 具有低插入损耗、低偏振相关损耗、高回波损耗,并在 1260 到 1650 的波长范围内具有优良的平坦度和均匀性。
产品应用于光纤传输系统中,尤其广泛的应用于 FTTX 光纤传输网络。
为客户订制适合各种场合的光分路器。
光学参数GJR-32FS 1U 机架式光分路器(尺寸 430X260X45 mm)GBRP-F 托盘式光分路器(尺寸 315X200X25 mm 可放置于配线架或交接箱内)GJR-8F 机架式 1U 分路器 1*8GPX33G 系列光纤配线箱(分路器)产品介绍产品描述:GPX33F-36B光纤配线箱是光纤接入网中远端光分支点的接续和配线的重要设备,主要用于光缆传输系统,如局内配线、大楼分线等,也可用作光缆、光纤分线、终端布线。
适配器面板为活动式安装,操作方便、快捷。
主要特点:1.冷扎板箱体,牢固美观,全封闭式结构,密封性良好2.适配器面板容量12-72芯3.每个配线箱内可安装1个 1*4;1*8;1*16;1*32或1*64的分光器,分光率高4.可配多个12芯熔接盘,可进行相应芯数光缆熔接及保护5.光缆固定安装方便,接地装置符合行标要求6.箱体内有足够的布线空间,并保证光纤的曲率径不小于40mm7.挂墙安装,方便快捷GPX33G-48F (H*W*D:160*455*380mm)GPX33G-24F(H*W*D:75*370*350mm)GPX33G-36Z(H*W*H:100*380*360mm)GPX33G-72F(H*W*D:110*560*480mm)。
PLC和熔融拉锥型光分路器的区别目前,光分路器主要有平面光波导技术和熔融拉锥技术两种。
下面对二种产品技术作简要介绍㈠平面波导型光分路器(PLC Splitter)此种器件内部由一个光分路器芯片和两端的光纤阵列耦合组成。
芯片采用半导体工艺在石英基底上生长制作一层分光波导,芯片有一个输入端和N个输出端波导。
然后在芯片两端分别耦合输入输出光纤阵列,封上外壳,组成一个有一个输入和N个输出光纤的光分路器。
根据用户需要,可以将输入输出为裸光纤的器件,封装在各式封装盒中,输入输出光纤用松套管保护,并可以外接各种连接器。
该技术由于采用半导体技术,工艺稳定性、一致性好,损耗与光波长不相关,通道均匀性好,结构紧凑体积小,大规模产业化技术成熟,已经被日本、美国、韩国、法国等多数国家指定采用技术。
常用的光分路器有1×N和2×N(N=4,8,16,32,64)㈡熔融拉锥光纤分路器(FBT Splitter)熔融拉锥技术是将两根或多根光纤捆在一起,然后在拉锥机上熔融拉伸,拉伸过程中监控各路光纤耦合分光比,分光比达到要求后结束熔融拉伸,其中一端保留一根光纤(其余剪掉)作为输入端,另一端则作多路输出端。
一次拉锥技术是将多根光纤捆在一起,在特制的拉锥机上同时熔融拉伸,并实时监控各路光纤的损耗。
目前成熟的一次拉锥工艺已能一次1×4以下器件。
实验室有1×8的记录,但批量生产工艺还未成熟。
目前国外FTTH工程中,低分路光分路器(1×4以下)常采用一次拉锥技术器件。
串接式熔锥1×N分路器件都是由(N-1)个1×2拉锥单元串联熔接一个封装盒内(图1C为原理图,图4b为1×8封装盒内实物图片)。
由于单元之间光纤需要熔接,而光纤需要有最小弯曲半径,通常体积会较大,例如:1×8光分路器由7个1×2单元熔接而成,封装尺寸通常为100×80×9mm。
PLC splitter 平面光波导分路器工艺流程随着光纤通信产业的复苏以及FTTX的发展,光分路器(Splitter)市场的春天也随之到来。
目前光分路器主要有两种类型:一种是采用传统光无源器件制作技术(拉锥耦合方法)生产的熔融拉锥式光纤分路器;另一种是采用集成光学技术生产的平面光波导(PLC)分路器。
PLC分路器是当今国内外研究的热点,具有很好的应用前景,然而PLC分路器的封装是制造PLC分路器中的难点。
PLC分路器内部结构。
PLC分路器的封装是指将平面波导分路器上的各个导光通路(即波导通路)与光纤阵列中的光纤一一对准,然后用特定的胶(如环氧胶)将其粘合在一起的技术。
其中PLC分路器与光纤阵列的对准精确度是该项技术的关键。
PLC分路器的封装涉及到光纤阵列与光波导的六维紧密对准,难度较大。
当采用人工操作时,其缺点是效率低,重复性差,人为因素多且难以实现规模化的生产等。
PLC分路器实物照片。
PLC分路器的制作PLC分路器采用半导体工艺(光刻、腐蚀、显影等技术)制作。
光波导阵列位于芯片的上表面,分路功能集成在芯片上,也就是在一只芯片上实现1、1等分路;然后,在芯片两端分别耦合输入端以及输出端的多通道光纤阵列并进行封装。
其内部结构和实物照片分别如图1、2所示。
与熔融拉锥式分路器相比,PLC分路器的优点有:(1)损耗对光波长不敏感,可以满足不同波长的传输需要。
(2)分光均匀,可以将信号均匀分配给用户。
(3)结构紧凑,体积小,可以直接安装在现有的各种交接箱内,不需留出很大的安装空间。
(4)单只器件分路通道很多,可以达到32路以上。
(5)多路成本低,分路数越多,成本优势越明显。
同时,PLC分路器的主要缺点有:(1)器件制作工艺复杂,技术门槛较高,目前芯片被国外几家公司垄断,国内能够大批量封装生产的企业很少。
(2)相对于熔融拉锥式分路器成本较高,特别在低通道分路器方面更处于劣势。
PLC分路器封装技术PLC分路器的封装过程包括耦合对准和粘接等操作。
平面光波导分路器工作原理简介The operating principle of PlanarLightwave Circuit (PLC) splitter专业2009-12-27 10:55:40 阅读10 评论1 字号:大中小订阅分路器作为FTTx网络的核心部件,其在无源光网络(Passive Optical Network, PON)的一个典型应用表现在以下两个方面:1.作为下行光信号(1490nm和1550nm)的功率分配器(Power splitter)使用2.作为上行光信号(1310nm)的合束器(Combiner)使用详细的组网形式不是这里的讨论重点,读者可以参考相关专著(如Gerd Keiser的《FTTX Concepts and Applications》)。
这里主要讨论的是分路器的工作原理和性能。
目前市场上主流的分路器主要基于两种技术形式:熔融拉锥型(Fused Biconical Taper, FBT)和平面光波导(PLC)型。
同样的,两种技术形式孰优孰劣,这里不作评论。
无论基于何种技术形式的分路器,都是基于1 x 2基本结构的级联而成。
FBT的1 x 2结构是一耦合器,而PLC的是一Y分支结构。
这个看似简单的Y分支构件,其实并不简单,因为分路器的性能优劣很大程度上就是由它决定的。
如何设计一个性能优异的Y分支结构属于技术机密(Classified technology),这里不便讨论。
这里仅就基于平面光波导技术的一个Y分支结构的分路器,即1 x 2分路器的工作原理作一简介。
其实也就是从物理本质上粗略地解释为什么1 x 2分路器无论是上行,还是下行信号,其插入损耗都是3 dB。
1 x 2分路器的功能结构可以用图1(a)的框图来表示:一个单模输入波导,两个单模输出波导。
中间用来分束的结构有很多种,这里只给出了3种结构:图1(b)的定向耦合器型(Directional Coupler, DC),图1(c)的无间距定向耦合器型(Zero-Gap Directional Coupler, ZGDC),以及图1(d)的模斑转换器型(Spot Size Converter, SSC)。
平面光波导(PLC, planar Lightwave circuit)技术随着FTTH的蓬勃发展,PLC(Planar Lightwave Circuit,平面光路)已经成为光通信行业使用频率最高的词汇之一,而PLC的概念并不限于我们光通信人所熟知的光分路器和AWG,其材料、工艺和应用多种多样,本文略作介绍。
1.平面光波导材料PLC光器件一般在六种材料上制作,它们是:铌酸锂(LiNbO3)、Ⅲ-Ⅴ族半导体化合物、二氧化硅(SiO2)、SOI(Silicon-on-Insulator, 绝缘体上硅)、聚合物(Polymer)和玻璃,各种材料上制作的波导结构如图1所示,其波导特性如表1所示。
图1. PLC光波导常用材料铌酸锂波导是通过在铌酸锂晶体上扩散Ti离子形成波导,波导结构为扩散型。
InP波导以InP为称底和下包层,以InGaAsP为芯层,以InP或者InP/空气为上包层,波导结构为掩埋脊形或者脊形。
二氧化硅波导以硅片为称底,以不同掺杂的SiO2材料为芯层和包层,波导结构为掩埋矩形。
SOI波导是在SOI基片上制作,称底、下包层、芯层和上包层材料分别为Si、SiO2、Si和空气,波导结构为脊形。
聚合物波导以硅片为称底,以不同掺杂浓度的Polymer材料为芯层,波导结构为掩埋矩形。
玻璃波导是通过在玻璃材料上扩散Ag离子形成波导,波导结构为扩散型。
表1. PLC光波导常用材料特性2.平面光波导工艺以上六种常用的PLC光波导材料中,InP波导、二氧化硅波导、SOI波导和聚合物波导以刻蚀工艺制作,铌酸锂波导和玻璃波导以离子扩散工艺制作,下面分别以二氧化硅波导和玻璃波导为例,介绍两类波导工艺。
二氧化硅光波导的制作工艺如图2所示,整个工艺分为七步:1)采用火焰水解法(FHD)或者化学气相淀积工艺(CVD),在硅片上生长一层SiO2,其中掺杂磷、硼离子,作为波导下包层,如图2(b)所示;2)采用FHD或者CVD工艺,在下包层上再生长一层SiO2,作为波导芯层,其中掺杂锗离子,获得需要的折射率差,如图2(c)所示;3)通过退火硬化工艺,使前面生长的两层SiO2变得致密均匀,如图2(d)所示。
y分支结构平面波导型光分路器的研究
近年来,Y分支结构平面波导型光分路器由于其优异的特性得到了越来越多的关注。
Y分支结构平面波导型光分路器具有良好的光谱对称性、大的工作波长范围和优良的插入损耗以及可调的分路比,是激光器、网络、集成激光器以及光纤传感等技术应用的优秀选择。
近年来,研究者们致力于Y分支结构平面波导型光分路器的性质和设计,取得
了积极的成果。
研究工作涉及Y分支结构平面波导型光分路器的参数设计,比如
结构设计、传输线设计、平面波导界面设计以及输入/输出引线设计等,从而确保性能的高效率及稳定性。
此外,通过数值仿真技术,可以以
较高的准确度和更好的证据证明设计参数和性能的关系,并以此来调
整结构参数,从而确定最佳的参数和规划的性能,从而提高Y分支结
构平面波导型光分路器的性能和可靠性。
光分路器与同轴电缆传输系统一样,光网络系统也需要将光信号进行耦合、分支、分配,这就需要光分路器来实现,光分路器是光纤链路中最重要的无源器件之一,是具有多个输入端和多个输出端的光纤汇接器件,常用M×N来表示一个分路器有M个输入端和N个输出端。
在光纤CATV系统中使用的光分路器一般都是1×2、1×3以及由它们组成的1×N光分路器。
1.光分路器的分光原理光分路器按原理可以分为光纤型和平面波导型两种,光纤熔融拉锥型产品是将两根或多根光纤进行侧面熔接而成;光波导型是微光学元件型产品,采用光刻技术,在介质或半导体基板上形成光波导,实现分支分配功能。
这两种型式的分光原理类似,它们通过改变光纤间的消逝场相互耦合(耦合度,耦合长度)以及改变光纤纤半径来实现不同大小分支量,反之也可以将多路光信号合为一路信号叫做合成器。
熔锥型光纤耦合器因制作方法简单、价格便宜、容易与外部光纤连接成为一整体,而且可以耐孚机械振动和温度变化等优点,目前成为市场的主流制造技术。
熔融拉锥法就是将两根(或两根以上)除去涂覆层的光纤以一定的方法靠扰,在高温加热下熔融,同时向两侧拉伸,最终在加热区形成双锥体形式的特殊波导结构,通过控制光纤扭转的角度和拉伸的长度,可得到不同的分光比例。
最后把拉锥区用固化胶固化在石英基片上插入不锈铜管内,这就是光分路器。
这种生产工艺因固化胶的热膨胀系数与石英基片、不锈钢管的不一致,在环境温度变化时热胀冷缩的程度就不一致,此种情况容易导致光分路器损坏,尤其把光分路放在野外的情况更甚,这也是光分路容易损坏得最主要原因。
对于更多路数的分路器生产可以用多个二分路器组成。
2.光分路器的常用技术指标(1)插入损耗。
光分路器的插入损耗是指每一路输出我相对于输入光损失的dB数,其数学表达式为:Ai=-10lg Pouti/Pin ,其中Ai是指第i个输出口的插入损耗;Pouti是第i个输出端口的光功率;Pin是输入端的光功率值。
(2)附加损耗。
附加损耗定义为所有输出端口的光功率总和相对于输入光功率损失的DB数。
值得一提的是,对于光纤耦合器,附加损耗是体现器件制造工艺质量的指标,反映的是器件制作过程的固有损耗,这个损耗越小越好,是制作质量优劣的考核指标。
而插入损耗则仅表示各个输出端口的输出功率状况,不仅有固有损耗的因素,更考虑了分光比的影响。
因此不同的光纤耦合器之间,插入损耗的差异并不能反映器件制作质量的优劣。
对于1*N单模标准型光分路器附加损耗如下表所示:分路数 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 16 附加损耗DB 0.2 0.3 0.4 0.45 0.5 0.55 0.6 0.7 0.8 0.9 1.0 1.2(3)分光比。
分光比定义为光分路器各输出端口的输出功率比值,在系统应用中,分光比的确定是根据实际系统光节点所需的光功率的多少,确定合适的分光比(平均分配的除外),光分路器的分光比与传输光的波长有关,例如一个光分路在传输1.31 微米的光时两个输出端的分光比为50:50;在传输1.5μm的光时,则变为70:30(之所以出现这种情况,是因为光分路器都有一定的带宽,即分光比基本不变时所传输光信号的频带宽度)。
所以在订做光分路器时一定要注明波长。
(4)隔离度。
隔离度是指光分路器的某一光路对其他光路中的光信号的隔离能力。
在以上各指标中,隔离度对于光分路器的意义更为重大,在实际系统应用中往往需要隔离度达到40dB以上的器件,否则将影响整个系统的性能。
另外光分路器的稳定性也是一个重要的指标,所谓稳定性是指在外界温度变化,其它器件的工作状态变化时,光分路器的分光比和其它性能指标都应基本保持不变,实际上光分路器的稳定性完全取决于生产厂家的工艺水平,不同厂家的产品,质量悬殊相当大。
在实际应用中,本人也确实碰到很多质量低劣的光分路器,不仅性能指标劣化快,而且损坏率相当高,作于光纤干线的重要器件,在选购时一定加以注意,不能光看价格,工艺水平低的光分路价格肯定低。
平面光波导分路器封装技术作者:王见平、赵云、虞洋、侯建伟,上海理工大学光学与电子信息工程学院随着光纤通信产业的复苏以及FTTX的发展,光分路器(Splitter)市场的春天也随之到来。
目前光分路器主要有两种类型:一种是采用传统光无源器件制作技术(拉锥耦合方法)生产的熔融拉锥式光纤分路器;另一种是采用集成光学技术生产的平面光波导(PLC)分路器。
PLC分路器是当今国内外研究的热点,具有很好的应用前景,然而PLC分路器的封装是制造PLC分路器中的难点。
PLC分路器内部结构。
PLC分路器的封装是指将平面波导分路器上的各个导光通路(即波导通路)与光纤阵列中的光纤一一对准,然后用特定的胶(如环氧胶)将其粘合在一起的技术。
其中PLC分路器与光纤阵列的对准精确度是该项技术的关键。
PLC分路器的封装涉及到光纤阵列与光波导的六维紧密对准,难度较大。
当采用人工操作时,其缺点是效率低,重复性差,人为因素多且难以实现规模化的生产等。
PLC分路器实物照片。
PLC分路器的制作PLC分路器采用半导体工艺(光刻、腐蚀、显影等技术)制作。
光波导阵列位于芯片的上表面,分路功能集成在芯片上,也就是在一只芯片上实现1、1等分路;然后,在芯片两端分别耦合输入端以及输出端的多通道光纤阵列并进行封装。
其内部结构和实物照片分别如图1、2所示。
与熔融拉锥式分路器相比,PLC分路器的优点有:(1)损耗对光波长不敏感,可以满足不同波长的传输需要。
(2)分光均匀,可以将信号均匀分配给用户。
(3)结构紧凑,体积小,可以直接安装在现有的各种交接箱内,不需留出很大的安装空间。
(4)单只器件分路通道很多,可以达到32路以上。
(5)多路成本低,分路数越多,成本优势越明显。
同时,PLC分路器的主要缺点有:(1)器件制作工艺复杂,技术门槛较高,目前芯片被国外几家公司垄断,国内能够大批量封装生产的企业很少。
(2)相对于熔融拉锥式分路器成本较高,特别在低通道分路器方面更处于劣势。
PLC分路器封装技术PLC分路器的封装过程包括耦合对准和粘接等操作。
PLC分路器芯片与光纤阵列的耦合对准有手工和自动两种,它们依赖的硬件主要有六维精密微调架、光源、功率计、显微观测系统等,而最常用的是自动对准,它是通过光功率反馈形成闭环控制,因而对接精度和对接的耦合效率高。
PLC分路器封装主要流程如下:(1)耦合对准的准备工作:先将波导清洗干净后小心地安装到波导架上;再将光纤清洗干净,一端安装在入射端的精密调整架上,另一端接上光源(先接6.328微米的红光光源,以便初步调试通光时观察所用)。
(2)借助显微观测系统观察入射端光纤与波导的位置,并通过计算机指令手动调整光纤与波导的平行度和端面间隔。
(3)打开激光光源,根据显微系统观测到的X轴和Y轴的图像,并借助波导输出端的光斑初步判断入射端光纤与波导的耦合对准情况,以实现光纤和波导对接时良好的通光效果。
(4)当显微观测系统观察到波导输出端的光斑达到理想的效果后,移开显微观测系统。
(5)将波导输出端光纤阵列(FA)的第一和第八通道清洗干净,并用吹气球吹干。
再采用步骤(2)的方法将波导输出端与光纤阵列连接并初步调整到合适的位置。
然后将其连接到双通道功率计的两个探测接口上。
(6)将光纤阵列入射端6.328微米波长的光源切换为1.310/1.550微米的光源,启动光功率搜索程序自动调整波导输出端与光纤阵列的位置,使波导出射端接收到的光功率值最大,且两个采样通道的光功率值应尽量相等(即自动调整输出端光纤阵列,使其与波导入射端实现精确的对准,从而提高整体的耦合效率)。
图3.1分支PLC分路器芯片封装结构(7)当波导输出端光纤阵列的光功率值达到最大且尽量相等后,再进行点胶工作。
(8)重复步骤(6),再次寻找波导输出端光纤阵列接收到的光功率最大值,以保证点胶后波导与光纤阵列的最佳耦合对准,并将其固化,再进行后续操作,完成封装。
在上面的耦合对准过程中,PLC分路器有8个通道且每个通道都要精确对准,由于波导芯片和光纤阵列(FA)的制造工艺保证了各个通道间的相对位置,所以只需把PLC分路器与FA的第一通道和第八通道同时对准,便可保证其他通道也实现了对准,这样可以减少封装的复杂程度。
在上面的封装操作中最重要、技术难度最高的就是耦合对准操作,它包括初调和精确对准两个步骤。
其中初调的目的是使波导能够良好的通光;精确对准的目的是完成最佳光功率耦合点的精确定位,它是靠搜索光功率最大值的程序来实现的。
对接光波导需要6个自由度;3个平动(X、Y、Z)和3个转动(α、β、g),要使封装的波导器件性能良好,则对准的平动精度应控制在0.5微米以下,转动精度应高于0.05度。
1×8分支PLC分路器的封装对1分支PLC分路器进行封装,封装的耦合对准过程采用上面介绍的封装工艺流程。
对准封装后的结构如图3所示,封装的组件由PLC分路器芯片和光纤阵列组成。
在PLC分路器芯片的连接部位,为了确保连接的机械强度和长期可靠性,对玻璃板整片用胶粘住。
光纤阵列是用机械的方法在玻璃板上以250微米间距加工成V形沟槽,然后将光纤阵列固定在此。
制作8芯光纤阵列的最高累计间隔误差平均为0.48微米,精确度极高。
在PLC分路器芯片与光纤阵列的连接以及各个部件的组装过程中,为了减少组装时间,采用紫外固化粘接剂。
光纤连接界面是保持长期可靠的重点,应选用耐湿、耐剥离的氟化物环氧树脂与硅烷链材料组合的粘接剂。
为了减少端面的反射,采用8°研磨技术。
连接和组装好光纤阵列后的PLC 分路器芯片被封装在金属(铝)管壳内。
1分支的组件外形尺寸约为73。