光机系统设计
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H a r b i n I n s t i t u t e o f T e c h n o l o g y实验报告课程名称:光机系统设计实验名称:双胶合消色差物镜设计院系:电气及自动化与控制系班级:姓名:学号:哈尔滨工业大学1, 实验目的设计一个双胶合消色差透镜,并绘制图形,熟悉应用光学、机械学等相关知识,掌握光机系统设计的流程。
2. 结构特性分析双胶合消色差物镜光学性能要求: 1) f / 6,焦距540mm ; 2) 视场角1.5°;3) 镜片材料选择BAK1 和BK7; 4) 20 线对/mm 处MTF>0.4; 5) 工作波长:可见光3. 初始结构设计当物体处于无穷远时,P ∞=W ∞=0(孔径角消失),设计消色差系数C=0。
透镜的光焦度分配公式: )v 1-v 1/(1-2121)(v c =ψ 12-1ψ=ψ通过应用光学相关知识,算的双胶合透镜的曲率半径依次为: R 1 =345.231 R 2 =-240.89R 3 =-1003.25两个透镜的初始厚度设计各为7mm ,透镜组到成像面的距离设计为近轴光线,由ZEMAX 计算出相应厚度调整值。
图1 双胶合透镜出结构设计图 2 所示,视场90mm;如图 3 所示,视场角设定为1.5°,图 4 所示,入射光线为可见光;如所示为初始透镜结构图。
图2 设定视场图3 设置光场图4 设定入射光4. 系统优化设计焦距值为540mm,设定默认优化函数EFFL target 为540,权重为1,选择透镜的三个曲率半径以及相应的厚度作为优化参数,优化结果如图 5所示。
图5 优化结果参数5. 像质分析由图6所示,优化后最大的波像差大约为4个波长,尚未达到衍射极限,应为焦平面上的彗差影响所致;同时可见这个透镜相对与可见光的低阶色差比较小,满足设计要求。
图8优化后光线追迹曲线如图 6所示,优化后存在彗差,由图中度数可得艾里斑半径为8.595μm,而像差RMS半径为18.570μm,可见此优化结果基本达到设计要求,可以使用。
光刻机的智能化控制系统设计在半导体制造领域,光刻机是一种关键设备,用于将电路图案投影到硅片上,以制造微小的芯片结构。
随着芯片制造工艺的不断进步,光刻机的智能化控制系统设计变得尤为重要。
本文将探讨光刻机智能化控制系统的设计原理和关键技术。
一、光刻机智能化控制系统的需求光刻机作为关键性设备,对生产效率和产品质量具有直接影响。
为了提高制造效率和降低生产成本,光刻机需要具备以下智能化控制系统的需求:1. 自动调节功能:光刻机智能化控制系统应能实时感知加工过程中的变化,并自动调节参数,以保证芯片的准确性和稳定性。
2. 实时监控与反馈:智能化控制系统应能实时监测光刻机的工作状态和加工过程中的关键参数,并及时反馈给操作员,以便准确判断和迅速解决问题。
3. 数据分析与优化:智能化控制系统应具备数据分析与优化的功能,通过对加工数据的收集和分析,找出改进工艺和优化参数的方法,以提高生产效率和产品质量。
二、光刻机智能化控制系统的设计原理光刻机智能化控制系统的设计原理主要包括硬件设计和软件设计两个方面。
1. 硬件设计:光刻机智能化控制系统的硬件设计主要包括传感器和执行器的选择与布置,以及系统的电路设计。
通过合理选择和布置传感器,可以实时监测光刻机的关键参数,如温度、光强等。
而执行器则用于控制光刻机的各个部件,如激光器、镜片等。
系统的电路设计则是将传感器和执行器与控制器连接起来,实现数据的采集和信号的传输。
2. 软件设计:光刻机智能化控制系统的软件设计是整个系统的核心。
首先,需要设计一个友好的界面,方便操作员实时监控和控制光刻机。
其次,需要实现数据采集和处理的算法,将传感器采集到的数据进行处理和分析,并根据分析结果进行自动调节和优化。
最后,需要设计故障诊断和报警功能,以及数据存储和追溯功能,确保数据的安全和可追溯性。
三、光刻机智能化控制系统的关键技术光刻机智能化控制系统设计涉及多个关键技术,以下介绍其中几项重要技术:1. 传感技术:传感技术是实现光刻机智能化控制的基础。
光机电一体化系统的设计与开发随着科技的不断进步和人们对自动化的需求不断增加,光机电一体化系统越来越受到关注。
这种系统能够将光学、机械、电子三个领域的知识和技术融合,实现高效低耗、精度高、自动化程度高的工业生产。
本文将探讨光机电一体化系统的设计与开发。
一、光机电一体化系统概述光机电一体化系统是一种集光、机、电于一体的系统,主要包括光学部分、机械部分和电子部分。
光学部分指的是系统中光学元件的设计和制造,包括光学系统设计、光学元件选型、镀膜工艺等;机械部分指的是系统中机械结构的设计和制造,包括机械设计、自动化控制、运动控制等;电子部分指的是系统中电子元件的设计和制造,包括电路设计、电子控制、信号处理等。
二、光学部分的设计与开发1.光学系统设计在光机电一体化系统中,光学系统的设计是非常重要的一部分。
光学系统的设计需要考虑到光学元件的选型、光学系统的结构、光学系统的成像质量等因素。
要使光学系统能够同时满足高量产率和高质量的要求,需要在设计时进行全面的考虑。
现代计算机辅助设计技术能够提供高精度的光学设计、仿真和优化技术,因此光学系统设计应该充分利用现代计算机技术。
2.光学元件选型在光机电一体化系统中,光学元件的选型是非常重要的。
光学元件的性能直接影响光学系统的成像质量。
光学元件的选型需要结合系统要求、成像质量等因素进行综合考虑。
对于大批量生产的光学元件,应选择具有高生产效率和较高稳定性的工艺进行生产。
3.光学镀膜技术光学镀膜技术在光机电一体化系统中也是非常重要的。
光学镀膜技术可以提高光学元件的反射率、透过率和成像质量。
现代光学镀膜技术主要包括离子镀膜、热蒸发镀膜等技术。
要使光学镀膜技术得到良好的应用效果,需要选择合适的工艺,控制好涂层的厚度和均匀性。
三、机械部分的设计与开发1.机械结构设计在光机电一体化系统中,机械结构的设计也是非常重要的。
机械结构的设计需要考虑到系统的稳定性、运动的精度和速度、机械结构的强度等因素。
光机电一体化系统的设计与研究随着科技的飞速发展,现代工业制造过程中需要高效、精准、智能的生产机器人系统,而光机电一体化系统的出现为实现高效生产提供了强有力的保障。
光机电一体化系统的设计与研究已成为当前科技领域的一大热点。
本文将从系统概念和研究背景、系统优点以及研究前景等三个方面对光机电一体化系统的设计与研究进行探讨。
一、系统概念和研究背景光机电一体化系统是指结合光、机、电技术,将其构成一个互相配合的系统。
光机电一体化系统中,光学器件能够将光线进行分析判断,机器人能够根据光学器件的判断结果执行各种动作,而电子设备则作为光机电一体化系统的控制中心。
在现代工业制造中,光机电一体化系统具有广泛的应用,可以应用于各种高精度生产线的自动化控制,提高生产速度和产品质量。
随着各种——特别是互联网技术的快速发展,生产线的自动化发展也越来越快速。
智能工厂正逐渐展现出其优势,对于把握机遇的企业来说,光机电一体化系统恰恰是一个不容忽视的发展方向。
对技术发展研究同样推动着光机电一体化的应用,各种互联网和大数据技术的发展,也对光机电一体化系统的提升和应用提出了更高的技术要求。
二、系统优点在现代化的生产线中,光机电一体化系统具有以下优点:1. 高精度:光学器件的高精度能力能够实现生产过程中各种数据的实时监测,机器人则能够依据这些数据指令进行高效的操作。
2. 智能化:光机电一体化系统能够自动识别和判断物体,自主执行各种动作,有效地提高生产效率和降低生产成本。
3. 一体化:光机电一体化系统将光学器件、机器人和电子设备有机地结合在一起,形成了一个紧密的整体,实现了生产过程的自动化控制。
4. 适应性:光机电一体化系统可根据不同的生产要求和规模进行调整,能够适应不同的工业生产环境。
三、研究前景从生产的角度看,光机电一体化系统的发展前景广阔。
随着人工智能和机器人技术的飞速发展,光机电一体化系统将会进一步智能化、高效化。
因此,未来的生产过程将会更加自动化、智能化、快速化,降低生产成本,提高生产效率。
光机电一体化系统的设计与应用光机电一体化系统是一种集光、机、电等多学科技术于一体的设计,旨在制造高精度、高效能、高灵敏度的设备。
它是当今先进制造技术的代表之一,具有广泛的应用前景和市场需求。
本文旨在探讨光机电一体化系统的设计与应用,为广大读者提供相关知识和经验。
一、光机电一体化系统的设计原理光机电一体化系统是指将光学、机械和电子等技术有机地结合在一起,并通过计算机技术实现精密控制系统。
它的设计原理可以分为三个方面:光学设计、机械设计和电子控制设计。
光学设计是指将光学元件有机地组合成系统,从而实现处理信号的过程。
在光学系统中,折射率、焦距和波长是关键因素。
通过建立准确的光学模型和借助计算机软件,设计师可以优化光学系统的参数,以实现高精度和高效能的信号处理。
机械设计是指将光学元件组合成一个机械架构,以便保证光学元件的位置和方向。
机械设计需要考虑多个方面,如精密加工、材料选择和热膨胀等因素。
此外,机械设计师还需要考虑系统的可靠性和工作寿命。
电子控制设计是光机电一体化系统的关键。
在信号处理过程中,需要借助精密的电子控制系统来实现信号的采集、传输和处理。
电子控制设计师需要具备深厚的电子技术和控制理论知识,以便实现系统的高精度和高灵敏度。
二、光机电一体化系统的应用领域光机电一体化系统在多个领域中得到了广泛的应用,以下是其中的几个代表性领域:1.医疗器械光机电一体化系统在医疗器械领域中的应用非常广泛。
例如,在医疗成像技术中,光机电一体化系统可以实现对人体内部进行高精度的成像和检测。
另一方面,在医疗手术中,光机电一体化系统可以实现对手术操作的高精度控制和反馈。
2.智能制造智能制造是指利用智能制造技术来实现产品的自主设计、自主生产和自主维护。
光机电一体化系统在智能制造领域中发挥了重要作用。
例如,在高精度加工中,光机电一体化系统可以实现对加工精度的高精度控制和反馈。
3.精密仪器精密仪器领域也是光机电一体化系统的一个重要应用领域。
光机电一体化课程设计一、教学目标本课程的教学目标是使学生掌握光机电一体化的基本概念、原理和应用,培养学生对光机电一体化技术的兴趣和好奇心,提高学生的创新能力和实践能力。
具体来说,知识目标包括了解光机电一体化系统的基本组成、工作原理和应用领域;掌握光电传感器、执行器和控制器的选型和应用方法;理解光机电一体化系统的设计和优化方法。
技能目标包括能够运用光电传感器、执行器和控制器进行简单的光机电一体化系统设计和调试;具备运用现代设计方法和工具进行光机电一体化系统设计和优化能力。
情感态度价值观目标包括培养学生对新技术的敏感性和接受能力,使学生认识到光机电一体化技术在现代社会中的重要性和应用前景,培养学生的创新意识和团队协作精神。
二、教学内容根据课程目标,本课程的教学内容主要包括光机电一体化系统的基本概念、原理和应用。
具体包括以下几个方面:1. 光机电一体化系统的基本组成和工作原理;2. 光电传感器、执行器和控制器的选型和应用方法;3. 光机电一体化系统的设计和优化方法;4. 光机电一体化技术在现代社会中的应用案例。
三、教学方法为了实现课程目标,我们将采用多种教学方法,包括讲授法、案例分析法、实验法和讨论法。
通过讲授法,我们将向学生介绍光机电一体化系统的基本概念、原理和应用;通过案例分析法,我们将分析光机电一体化技术在现代社会中的应用案例,使学生更好地理解和掌握相关知识;通过实验法,我们将让学生亲自动手进行光机电一体化系统的设计和调试,提高学生的实践能力;通过讨论法,我们将激发学生的思考和创造力,培养学生的团队协作精神。
四、教学资源为了支持教学内容的实施和教学方法的应用,我们将准备以下教学资源:1. 教材:《光机电一体化技术》;2. 参考书:相关的专业书籍和论文;3. 多媒体资料:相关的教学视频和图片;4. 实验设备:光机电一体化实验套件。
五、教学评估本课程的评估方式包括平时表现、作业和考试等。
平时表现主要评估学生的课堂参与度、提问和回答问题的积极性等,占总评的20%。
光机设计要点光机设计是指光学系统中光学元件的选择、布局和组装等工作,是光学系统设计的重要环节。
光机设计的质量直接影响整个光学系统的性能和稳定性。
下面将从光机设计的要点出发,介绍光机设计中需要注意的几个关键方面。
1. 光学元件的选择在光机设计中,选择合适的光学元件是十分重要的。
首先需要根据系统的要求和性能指标,选择适合的光学元件。
例如,对于激光系统,需要选择具有高反射率和低散射率的镜片;对于光学显微镜系统,需要选择具有高透过率和低散射率的物镜。
此外,还需要考虑光学元件的材料特性、制造工艺和成本等因素。
2. 光学元件的布局光学元件的布局是指将各个光学元件按照一定的顺序和位置进行排列。
在进行光学元件布局时,需要考虑到光学系统的光路要求和光学元件的尺寸、形状以及相对位置等因素。
合理的光学元件布局可以最大限度地减小光学元件之间的光学干涉和散射等效应,提高光学系统的传输效率和成像质量。
3. 光学元件的组装光学元件的组装是指将各个光学元件按照设计要求进行装配。
在进行光学元件组装时,需要注意保持光学元件的相对位置和方向的稳定性,避免光学元件之间的错位和偏转。
同时,还需要注意对光学元件进行适当的定位和固定,以确保光学系统的稳定性和可靠性。
4. 光学系统的调试光学系统的调试是指在完成光学元件组装后,对光学系统进行测试和调整,以达到设计要求和性能指标。
在进行光学系统的调试时,需要使用适当的测试设备和方法,对光学系统的光学特性进行测量和分析。
根据测试结果,可以对光学系统进行调整和优化,以达到最佳的光学性能。
5. 光学系统的稳定性光学系统的稳定性是指光学系统在工作过程中能够保持其性能和特性的稳定性。
在进行光机设计时,需要考虑到光学系统的稳定性要求,并采取相应的措施进行设计和优化。
例如,可以采用合适的光学元件固定装置和隔振措施,减小外界振动和温度变化对光学系统的影响,提高光学系统的稳定性。
光机设计是光学系统设计中的重要环节,需要注意光学元件的选择、布局和组装等方面。
光机系统设计与实践
课程报告
作者学号:
学院(系):理学院
专业: 光学
题目: 光接收系统设计
2014年5月
光接收系统设计
光接收系统是照相、测距等系统的一个重要组成部分,其主要作用是接收外界光信号,并且将接收到的光传递给后续的光电转换器件,光接收系统的成像质量对整个系统有重要影响。
本次设计主要对光接收望远镜给出的初始结构进行优化,并且设计出优化之后的镜筒结构。
一、透镜像质的优化
ZEMAX软件由美国焦点公司开发,它操作简单,价格便宜,提供了十分强大的像质优化功能,可以对合理的初始光学系统进行优化设计,是当今光学设计界的通用软件之一。
设计中光学结构参变量可以使曲率、厚度、玻璃材料参数、圆锥系数、参数数据、特殊数据和多重结构数值。
1.接收望远镜的设计要求如下:
D/f=1/4,f=118.596,2ω=5°
2.接收望远镜的初始结构参数见表1
3.透镜初始结构与光学特性参数输入
①在ZEMAX主菜单中选择Editor\Lens Data,打开透镜数据编辑器(Lens Data Editor,LDE),输入初始结构,如图1所示。
图1 LDE中输入初始结构数据
②光学特性参数输入。
用General对话框定义像空间。
在ZEMAX 主菜单中选择System\General…或选择工具栏中Gen,打开General对话框,选择Aperture Type为Image Space F/#,在Aperture Value中输入4,如图2所示。
图2 用General对话框定义孔径
用Field Data对话框定义视场。
在ZEMAX主菜单中选择System\ Fields…或择工具栏中Fie,打开Field Data对话框,选择Field Type为Angle(Deg),在相应文本框Y-Field中输入
3个校像差半视场角值:3、-3、0,其余为默认值,如图3所示。
图3 用Field Data对话框定义视场
用Wavelength Data对话框定义工作波长。
在ZEMAX主菜单中选择System\Wavelength…或选工具栏中Wav,打开Wavelength Data对话框,选择Select->中F,d,C(Visible),其余为默认值,如图4所示。
图4用Wavelength Data对话框定义工作波长
4.变量的设定
供优化的结构参数变量的选择原则是,在可能的条件下尽量设定较多的结构参数作为变量。
在所设计的透镜中选择系统的第一个面的曲率半径作为变量。
具体方法是:LDE中,选择要改变的参数,点击鼠标右键,在弹出的对话框中,选择Solve Type为Variable。
设定好以后,其数据之后中将出字母“V”,如图5所示。
图5 LDE中设定初始结构参数变量
最后,在LDE中设定优化参考像面设定。
由于选用近轴理想像面为优化参考像面,故要将第4间隔设定Marginal Ray Height。
具体方法是选择LDE中第4间隔Thickness处,点击鼠标右键弹出Thickness solve on surface对话框,如图6所示。
将Solve Type 设定为Marginal Ray Height,Height为0,Pupil Zone为0。
图6 Thickness solve on surface 对话框
按以上结构参数和光学特性计算的像差结果如图7所示。
(a)横向像差(b)弥散斑点列图
(c)轴向球差(d)波像差RMS
图7 初始结构像差结果
从像差结果可以看到,球差、色差、慧差都比较大,波像差RMS轴外视场>1λ。
通过一系列的计算,得到了孔径在1、0.707和0时,波长为588nm时的球差分别为1.844、0.879和0;波长1为486nm,波长3为656nm时的纵向色差分别为-2.303、-1.253和0;孔径为1时,视场角为3。
、-3。
、0。
时的散斑半径为46.568、46.560、92.228。
按初级像差理论求解的结构还需进行校正。
5.评价函数的设定
(1)默认评价函数设置
打开MFE和Default Merit Function,选择
RMS/Wavefront/Chief Ray默认评价函数,具体设置如图8所示。
图8 DMF设置
(2)光学特性参数约束输入
由于要控制的主要光学特性参数为焦距,在MFE中插入几行操作符数据输入行,输入的内容如图9(由于图片尺寸,将图片分成两部分)所示。
图9 构建的评价函数
6.像差自动校正(优化)
当初始结构参数、光学特性以及评价函数都输入和设定之后,打开优化(Optimization)对话框进行像差校正与优化。
在ZEMAX主菜单中选择Tools\ Optimization…或选工具栏中Opt,打开Optimization对话框,如图10所示。
点击Automatic 按钮,对像差进行优化,优化完成之后,自动停止,对话框显示如图所示。
点击Exit退出对话框。
(a)优化前界面(b)优化后界面
图10 Optimization对话框
通过一系列的计算,得到优化后孔径在1、0.707和0,波长为588nm时的球差分别为0.029、0.017和0,波长1为486nm,波长3为656nm时的纵向色差分别为0.071、0.013和0。
比较优化前后的弥散斑点列图,可以看到孔径为1,在视场角为3。
、-3。
、
0。
的时候,弥散斑的半径分别由46.568、46.560、92.228变为37.946、37.946、4.768,结果明显优于初始结果。
(a)横向像差(b)弥散斑点列图
(c)轴向球差(d)波像差RMS
图11 优化后像差结果
二、镜筒结构的设计
根据ZEMAX的优化结果,在画图软件上将光学系统图给出,具体如图12所示。
图12 光学系统图
用Solidworks画图软件将各个透镜的工程图画出,透镜的工程图见附图1,2。
画出零件图之后还需要一定的结构将各个零件组织在一起,根据以上画出的光学系统图,并考虑一些实际的情况,画出了一个满足要求的镜筒的结构,同时为了保证零件之间位置和零件的固定,需要一个隔圈和一个压圈,镜筒工程图见附图3,隔圈和压圈的工程图见附图4,5。