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IGBT工作原理概述：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor，绝缘栅双极晶体管）是一种高性能功率半导体器件，常用于控制和调节高电压和高电流的电力电子应用中。
本文将详细介绍IGBT的工作原理及其相关特性。
一、IGBT结构IGBT由三个主要部份组成：N型电流扩散层、P型基区和N型绝缘栅区。
它的结构类似于MOSFET和双极晶体管的结合体，具有MOSFET的高输入阻抗和双极晶体管的低导通压降特性。
二、IGBT工作原理1. 关断状态：当IGBT的栅极电压为0V时，处于关断状态。
此时，N型电流扩散层和N型绝缘栅区之间形成为了反向偏置的PN结，阻挠了电流的流动。
2. 开通状态：当给IGBT的栅极施加正向电压时，即使很小的电压也能引起电流的流动。
在开通状态下，栅极电压控制导通电流的大小。
3. IGBT的导通过程：当栅极电压高于临界电压时，电流开始从N型电流扩散层注入到P型基区，形成NPN型双极晶体管。
由于双极晶体管的放大作用，电流迅速增加。
同时，由于N型绝缘栅区的存在，栅极电压控制了电流的大小。
因此，IGBT具有较低的导通压降。
4. IGBT的关断过程：当栅极电压降低到临界电压以下时，电流开始减小。
在关断过程中，IGBT的关断速度取决于去除电荷的速度。
通常，通过施加负向电压或者短路栅极电压来加快关断速度。
三、IGBT的特性1. 高输入阻抗：由于IGBT的栅极绝缘层，其输入电流极小，因此具有高输入阻抗。
这使得IGBT可以被各种控制电路轻松驱动。
2. 低导通压降：IGBT的导通压降较低，这意味着在导通状态下能够减小功率损耗，提高效率。
3. 大功率承受能力：IGBT能够承受较高的电压和电流，适合于高功率应用，如变频器、电力传输、电动车等。
4. 快速开关速度：IGBT具有较快的开关速度，可以实现高频率的开关操作，适合于需要频繁开关的应用。
5. 温度依赖性：IGBT的导通压降和关断速度受温度影响较大。
IGBT元件的工作原理和应用1. 引言在现代电力电子技术中，IGBT（绝缘栅双极型晶体管）是一种重要的元件，具有高电压、高电流和高开关速度等特点。
本文将介绍IGBT元件的工作原理和应用。
2. IGBT工作原理IGBT是一种由MOSFET（金属-氧化物半导体场效应晶体管）和BJT（双极型晶体管）组成的混合型元件。
其工作原理可以分为以下几个步骤：1.输入信号引发控制端电压：控制端的电压作用下，形成子结和耗尽区的条件。
2.条件形成轉移区：控制端电压作用下，在轉移区域存在大电容，电荷会在下一个周期传播到发射区，IGBT结束通导状态。
3.发射区的导通：一旦适当的控制电流和电压施加后，MOS管中的电子开始导通，激活BJT的发射层。
4.提供辅助电压以维持MOS的导通：一旦电子开始导通，就必须通过辅助电压维持MOS的导通，以防止MOS关闭。
综上所述，IGBT的工作原理是通过不断改变控制端电压，并在MOS和BJT之间建立通路来控制导通和截止。
3. IGBT的应用IGBT作为一种重要的电子元件，广泛应用于各个领域。
以下是几个常见的应用领域：3.1 电力传输和变换IGBT在电力传输和变换领域起着重要作用，主要应用于交流换流器、逆变器和直流调节器等设备中。
IGBT的高电压和高电流承受能力，使其能够在电力系统中进行高效的能量转换和传输。
3.2 光伏发电系统在光伏发电系统中，IGBT用于逆变器中，将光伏电池板产生的直流电转换为交流电，以供电网使用或直接驱动电动设备。
3.3 汽车电子系统IGBT在汽车电子系统中的应用越来越广泛，用于电动车的控制系统、混合动力汽车的驱动系统和燃油喷射系统等。
IGBT的高开关速度和高电压能力使其适用于汽车中的高频电子设备。
3.4 变频空调在变频空调中，IGBT用于控制压缩机的工作，以实现空调系统的制冷和加热功能。
IGBT的高效能转换和低能耗使其成为变频空调系统的关键组成部分。
3.5 高速列车在高速列车领域，IGBT被用作高压变流器，用于控制高速列车的起动、制动和稳定运行。
igbt 模块的工作原理
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) 模块是一种用于功率电子领域的半导体器件，结合了大功率MOSFET的高速开关特性和IGBT的低开态压降特性。
IGBT模块的工作原理可以分为三个阶段：开启阶段、导通阶段和关断阶段。
在开启阶段，当输入信号控制IGBT的栅极电压上升时，栅极结构会引起一个以上的pn结，使其处于P型区域，将P型区域的电子注入N型区域中，形成一个导电区域。
这导致一部分空穴迁移到P型区域，使IGBT的PNPN结导通，并形成一个导电通道。
当导电通道形成后，进一步增大栅极电压不会影响导通区的电流。
这样，IGBT的导通状态就完成了。
导通阶段保持提供电流，这是在输出端上有低电压的状态。
当IGBT导通，控制电流通过Emitter电极到达Collector电极，在这种情况下，由于栅极结已打开，没有栅极电流，而且导通电流（IC）相对较高。
在关断阶段，当输入信号控制IGBT的栅极电压降低时，基流减少并逐渐消失。
这导致PN结增大，注入变少，直到电流降为零。
此时，IGBT的导通区关闭，电流不再通过IGBT，达到关断状态。
总的来说，IGBT模块的工作原理是通过控制栅极电压启动和
关闭PNPN结，控制电流的导通和关断，从而实现对功率电路的控制。
IGBT工作原理概述：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）是一种高压、高功率开关器件，广泛应用于电力电子领域。
本文将详细介绍IGBT的工作原理，包括结构、工作模式、特性和应用。
一、结构：IGBT由N沟道MOSFET和双极型晶体管（BJT）的耦合组成。
它的结构类似于MOSFET，但在N沟道MOSFET的基础上添加了PN结，形成了一个PNPN结构。
IGBT的主要部分包括N+型衬底、N-型沟道、P+型基区和N+型漏极。
二、工作模式：1. 关态（Off State）：当控制极（Gate）施加负电压时，IGBT处于关态。
此时，PNPN结中的P+型基区被正向偏置，形成一个导通的PN结。
因此，IGBT处于关断状态，没有漏电流流过。
2. 开态（On State）：当控制极施加正电压时，IGBT处于开态。
此时，控制极的正电压使得PNPN结中的P+型基区被反向偏置，阻断了PN结的导通。
然而，由于N沟道MOSFET的存在，控制极的正电压会形成一个电场，吸引N-型沟道中的电子，使其形成导电通道。
因此，IGBT处于导通状态，允许电流通过。
三、特性：1. 高压能力：IGBT具有较高的耐压能力，可以承受数百伏特的高电压。
这使得IGBT成为高压应用领域的理想选择，例如电力变换器和电动汽车驱动系统。
2. 高功率密度：IGBT具有较高的功率密度，能够在较小的体积内承受大功率。
这使得IGBT在需要高功率输出的应用中具有优势，例如工业驱动器和太阳能逆变器。
3. 快速开关速度：IGBT具有较快的开关速度，可以实现高频率的开关操作。
这使得IGBT在需要高频率开关的应用中表现出色，例如无线通信和医疗设备。
4. 低导通压降：IGBT的导通压降较低，可以减少功率损耗。
这使得IGBT在低能耗要求的应用中更加高效，例如节能照明和电动车充电器。
四、应用：1. 电力变换器：IGBT广泛应用于电力变换器中，用于将电能从一种形式转换为另一种形式。
igbt模块工作原理
IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）模块是一种高压、高
电流功率开关器件，常用于驱动大功率电机和电力电子系统。
其工作原理如下：
1. IGBT 模块由一个 IGBT 和一个免费轴二极管组成。
IGBT 的构成类似于 MOSFET 和 BJT 的结合体，结合了两者的优点。
具有 MOSFET 的高输入阻抗和低驱动功率特点，和 BJT 的高
电流驱动特点。
2. IGBT 模块的输入端由一个金属氧化物半导体场效应管（MOSFET）和一个二极管组成。
MOSFET 控制 IGBT 的导通和截断，当 MOSFET 导通时，IGBT 会进入导通状态。
当MOSFET 截断时，IGBT 将会处于截断状态。
3. IGBT 的输出端连接在大功率电路中，用于控制电流的流动。
当 IGBT 导通时，电流可以通过 IGBT 模块。
当 IGBT 截断时，电流将被阻止通过。
4. IGBT 模块的驱动电路需要一个适当的电源，以提供所需的
电流和电压来控制 IGBT 的导通和截断。
驱动电路通常由电路
电源、电流放大器和电位差源组成。
5. IGBT 模块具有快速开关速度、高耐压能力和较低的导通电阻。
在开关过程中，当驱动信号施加在 MOSFET 上时，开关
时间短，使得 IGBT 在导通和截断过程中的功耗降低。
综上所述，IGBT 模块通过 MOSFET 控制 IGBT 的导通和截断
状态，实现电流的开关控制，适用于高压、高电流的功率应用。
IGBT工作原理概述：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）是一种高压、高电流功率开关器件，广泛应用于电力电子领域。
本文将详细介绍IGBT的工作原理，包括结构、工作模式和特性分析。
一、结构：IGBT由PNP型晶体管和NPN型晶体管组成，两个晶体管共享一个N型区域，中间被一个绝缘层隔开。
晶体管的结构使得IGBT既具有MOSFET的高输入电阻特性，又具有Bipolar Transistor的高电流承载能力。
二、工作模式：1. 关断状态：IGBT的控制极（Gate）施加负电压，使得P型区域与N型区域之间形成反向偏置，导致晶体管的PN结截断，IGBT处于关断状态。
2. 开通状态：IGBT的控制极施加正电压，形成正向偏置，使得P型区域与N型区域之间形成导通通道。
此时，通过控制极的电流可以控制IGBT的导通和截断。
三、工作原理：1. 开通过程：当控制极施加正电压时，形成正向偏置，P型区域的空穴和N型区域的电子会相互扩散并重新组合，形成导通通道。
同时，由于控制极的电流非常小，所以可以忽略控制极的电流对导通过程的影响。
因此，IGBT的导通主要由两个PN结之间的电压来决定。
2. 关断过程：当控制极施加负电压时，形成反向偏置，导致PN结截断。
此时，由于控制极的电流非常小，所以可以忽略控制极的电流对截断过程的影响。
因此，IGBT的截断主要由两个PN结之间的电压来决定。
四、特性分析：1. 低开通电压降：IGBT的开通电压降（VCEsat）非常低，通常在1-2V之间。
这意味着在导通状态下，IGBT可以承受较低的功耗。
2. 高电流承载能力：由于IGBT具有双极型晶体管的结构，因此具有较高的电流承载能力。
普通来说，IGBT的电流承载能力可达几百安培至几千安培。
3. 快速开关速度：IGBT的开关速度较快，通常在数十纳秒至几微秒之间。
这使得IGBT在高频率应用中具有优势。
4. 温度敏感性：IGBT的导通电压降和截断电压升会随着温度的变化而变化。
IGBT工作原理一、概述IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor，绝缘栅双极晶体管）是一种高性能功率开关器件，结合了MOSFET的高输入阻抗和BJT的低导通压降特性。
本文将详细介绍IGBT的工作原理及其相关参数。
二、IGBT结构IGBT由四个区域组成：N+区（源极）、P区（基极）、N区（漏极）和P+区（栅极）。
其中，N+区和P+区为电极区，N区和P区为导电区。
三、工作原理1. 导通状态：当栅极电压高于阈值电压时，栅极与基极之间形成正向偏置，P 区中的空穴和N区中的电子被注入，形成导电通道，使得N+区和P+区之间形成低阻抗通路，IGBT处于导通状态。
2. 关断状态：当栅极电压低于阈值电压时，栅极与基极之间形成反向偏置，P 区中的空穴和N区中的电子被吸引回原区域，导电通道被截断，IGBT处于关断状态。
四、关键参数1. 阈值电压（Vth）：栅极电压高于该值时，IGBT开始导通。
2. 饱和电压（Vce(sat)）：在导通状态下，漏极与源极之间的电压降。
3. 最大漏极电流（ID(max)）：IGBT能够承受的最大漏极电流。
4. 开关速度：IGBT的开关速度取决于栅极电压的变化率，即栅极电流的上升和下降速度。
五、应用领域IGBT广泛应用于工业控制、电力电子、交通运输等领域。
例如：1. 变频器：IGBT作为变频器的主要开关元件，用于控制电机的转速和输出功率。
2. 逆变器：IGBT用于将直流电能转换为交流电能，广泛应用于太阳能发电、风能发电等领域。
3. 电力传输与配电系统：IGBT用于电力变压器的控制、电网的稳定性控制等。
4. 电动汽车：IGBT作为电动汽车的主要功率开关器件，用于控制电机的启停和输出功率。
六、IGBT的优势和挑战1. 优势：- 高开关速度：IGBT具有快速开关速度，适用于高频率开关应用。
- 低导通压降：IGBT的导通压降较低，能够降低功率损耗。
- 高耐压能力：IGBT具有较高的耐压能力，可以承受较高的电压。
IGBT工作原理概述：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）是一种广泛应用于功率电子领域的半导体器件，其工作原理结合了MOSFET和双极型晶体管的特点，具备高电压驱动能力和低导通压降的优点。
本文将详细介绍IGBT的工作原理，包括结构、导通和关断过程，以及其在电力电子应用中的典型工作模式。
一、IGBT结构IGBT由P型衬底、N型绝缘栅、N型漏极和P型源极组成。
其结构与MOSFET相似，但漏极区域引入了P型材料，形成PN结，使得IGBT具备双极型晶体管的特性。
二、导通过程1. 开关状态：当IGBT的栅极电压为正值时，栅极与源极之间形成正向偏置，使得栅极-漏极之间的PN结处于正向偏置状态。
此时，漏极区域的P型材料中的空穴被N型材料中的电子注入，形成导电通道。
2. 导通过程：当外部施加正向电压时，电子从源极注入漏极区域，与空穴复合，形成导电通道。
该导电通道具备低导通压降的特性，使得IGBT能够承受高电流和高电压。
三、关断过程1. 关断状态：当IGBT的栅极电压为负值时，栅极与源极之间形成反向偏置，使得栅极-漏极之间的PN结处于反向偏置状态。
此时，漏极区域的P型材料中的空穴被源极注入，形成截断区域。
2. 关断过程：当外部施加负向电压时，电子从漏极区域流向源极，与空穴复合，截断导电通道。
IGBT的关断速度取决于电子与空穴的复合速度，以及PN结的电容特性。
四、IGBT的典型工作模式1. 开关模式：IGBT在开关模式下，栅极电压快速切换，使得IGBT能够实现高效率的功率开关。
该模式适合于频繁开关的应用，如电力电子变换器、机电驱动等。
2. 线性模式：IGBT在线性模式下，栅极电压保持稳定，使得IGBT能够承受连续电流。
该模式适合于需要稳定输出的应用，如电力放大器、线性稳压器等。
五、IGBT的应用领域IGBT广泛应用于电力电子领域，如交流变流器、直流变流器、机电驱动、电力放大器等。
IGBT工作原理引言：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）是一种广泛应用于电力电子领域的半导体器件，具有高压、高频和高温等特点。
本文将详细介绍IGBT的工作原理及其应用。
一、IGBT的结构IGBT由三个主要部分组成：N沟道型MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）、P型BJT（Bipolar Junction Transistor）和绝缘层。
N沟道型MOSFET负责控制电流，P型BJT负责放大电流。
绝缘层用于隔离控制信号和功率信号。
二、IGBT的工作原理当IGBT的控制端施加正向电压时，P型BJT的集电结区域会打开，使得电流可以通过。
同时，N沟道型MOSFET的栅极电压也会增加，进而改变N沟道的导电能力。
这样，控制信号就可以通过控制端调节IGBT的导通程度。
当IGBT的控制端施加负向电压时，P型BJT的集电结区域会关闭，导电能力降低。
此时，IGBT的导通能力会减弱或完全关闭。
因此，控制信号可以控制IGBT的导通和截止状态。
三、IGBT的应用1. 变频器：IGBT广泛应用于变频器中，用于调节交流电机的转速。
通过控制IGBT的导通时间和截止时间，可以改变输出电压和频率，从而实现电机的调速。
2. 逆变器：IGBT被广泛应用于逆变器中，将直流电转换为交流电。
逆变器常用于太阳能发电系统、风能发电系统和电动车辆中，将储存的直流电转换为交流电供电。
3. 电力传输：IGBT可用于电力传输系统中，提高电网的稳定性和效率。
通过控制IGBT的导通和截止时间，可以实现电力的调节和控制。
4. 电力电子设备：IGBT被广泛应用于电力电子设备中，如电源、逆变器、变频器等。
IGBT具有高效率、高频率和高可靠性的特点，可以满足各种电力电子设备的需求。
结论：IGBT是一种重要的半导体器件，具有广泛的应用领域。
本文详细介绍了IGBT 的结构、工作原理以及应用。
IGBT工作原理概述：IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor，绝缘栅双极晶体管）是一种常用的功率半导体器件，具有高电压和高电流承受能力，广泛应用于电力电子领域。
本文将详细介绍IGBT的工作原理。
一、IGBT的结构：IGBT由NPN型双极晶体管和PNP型双极晶体管组成，中间夹有绝缘栅层。
其结构类似于MOSFET（金属-氧化物半导体场效应晶体管）和双极型晶体管的结合体。
二、IGBT的工作原理：1. 关断状态：当IGBT的控制端施加低电平时，绝缘栅层中的绝缘栅极电势低于临界电势，绝缘栅极与N型区之间形成一个反向偏置结。
此时，NPN型双极晶体管的集电区发生反向偏置，导致PNP型双极晶体管的发射结正向偏置。
因此，整个IGBT处于关断状态，几乎不导电。
2. 开启状态：当IGBT的控制端施加高电平时，绝缘栅层中的绝缘栅极电势高于临界电势，绝缘栅极与N型区之间形成一个正向偏置结。
此时，NPN型双极晶体管的集电区正向偏置，导致PNP型双极晶体管的发射结反向偏置。
这样，整个IGBT处于开启状态，可以导通大电流。
3. 开关过程：在IGBT的开启过程中，控制端的电压从低电平逐渐升高到高电平。
当控制端电压达到临界电压时，绝缘栅极与N型区之间的结电容开始充电，使绝缘栅层中的绝缘栅极电势高于临界电势，IGBT开始开启。
开启后，绝缘栅极电势继续上升，使绝缘栅层中的绝缘栅极电势保持高于临界电势，维持IGBT的开启状态。
当控制端电压降低到一定程度时，绝缘栅极与N型区之间的结电容开始放电，使绝缘栅层中的绝缘栅极电势低于临界电势，IGBT开始关闭。
关闭后，绝缘栅极电势继续下降，使绝缘栅层中的绝缘栅极电势保持低于临界电势，维持IGBT的关闭状态。
三、IGBT的特点：1. 低饱和压降：IGBT的饱和压降较低，可以减少功率损耗，提高效率。
2. 高开关速度：IGBT具有快速的开关速度，可以实现高频率开关操作。
IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)此主题相关图片如下：8.30-20.jpg绝缘栅双极型晶体管，是由BJT(双极型三极管)和MOS(绝缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件, 兼有MOSFET的高输入阻抗和GTR的低导通压降两方面的优点。
GTR饱和压降低，载流密度大，但驱动电流较大;MOSFET驱动功率很小，开关速度快，但导通压降大，载流密度小。
IGBT 综合了以上两种器件的优点，驱动功率小而饱和压降低。
非常适合应用于直流电压为600V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。
结构此主题相关图片如下：8.30-21.jpgIGBT结构图左边所示为一个N 沟道增强型绝缘栅双极晶体管结构， N+ 区称为源区，附于其上的电极称为源极。
P+ 区称为漏区。
器件的控制区为栅区，附于其上的电极称为栅极。
沟道在紧靠栅区边界形成。
在漏、源之间的P 型区(包括P+ 和P 一区)(沟道在该区域形成)，称为亚沟道区( Subchannel region )。
而在漏区另一侧的P+ 区称为漏注入区( Drain injector )，它是IGBT 特有的功能区，与漏区和亚沟道区一起形成PNP 双极晶体管，起发射极的作用，向漏极注入空穴，进行导电调制，以降低器件的通态电压。
附于漏注入区上的电极称为漏极。
IGBT 的开关作用是通过加正向栅极电压形成沟道，给NPN晶体管提供基极电流，使IGBT 导通。
反之，加反向门极电压消除沟道，切断基极电流，使IGBT 关断。
IGBT 的驱动方法和MOSFET 基本相同，只需控制输入极N一沟道MOSFET ，所以具有高输入阻抗特性。
当MOSFET 的沟道形成后，从P+ 基极注入到N 一层的空穴(少子)，对N 一层进行电导调制，减小N 一层的电阻，使IGBT 在高电压时，也具有低的通态电压。
此主题相关图片如下：8.30-22.jpg三菱制大功率IGBT模块工作特性静态特性IGBT 的静态特性主要有伏安特性、转移特性和开关特性。
IGBT 的伏安特性是指以栅源电压Ugs 为参变量时，漏极电流与栅极电压之间的关系曲线。
输出漏极电流比受栅源电压Ugs 的控制，Ugs 越高， Id 越大。
它与GTR 的输出特性相似.也可分为饱和区1 、放大区2 和击穿特性3 部分。
在截止状态下的IGBT ，正向电压由J2 结承担，反向电压由J1结承担。
如果无N+ 缓冲区，则正反向阻断电压可以做到同样水平，加入N+缓冲区后，反向关断电压只能达到几十伏水平，因此限制了IGBT 的某些应用范围。
IGBT 的转移特性是指输出漏极电流Id 与栅源电压Ugs 之间的关系曲线。
它与MOSFET 的转移特性相同，当栅源电压小于开启电压Ugs(th) 时，IGBT 处于关断状态。
在IGBT 导通后的大部分漏极电流范围内， Id 与Ugs呈线性关系。
最高栅源电压受最大漏极电流限制，其最佳值一般取为15V左右。
IGBT 的开关特性是指漏极电流与漏源电压之间的关系。
IGBT 处于导通态时，由于它的PNP 晶体管为宽基区晶体管，所以其B 值极低。
尽管等效电路为达林顿结构，但流过MOSFET 的电流成为IGBT 总电流的主要部分。
此时，通态电压Uds(on) 可用下式表示Uds(on) = Uj1 + Udr + IdRoh式中Uj1 ——JI 结的正向电压，其值为0.7 ～1V ;Udr ——扩展电阻Rdr 上的压降;Roh ——沟道电阻。
通态电流Ids 可用下式表示：Ids=(1+Bpnp)Imos式中Imos ——流过MOSFET 的电流。
由于N+ 区存在电导调制效应，所以IGBT 的通态压降小，耐压1000V的IGBT 通态压降为2 ～ 3V 。
IGBT 处于断态时，只有很小的泄漏电流存在。
动态特性IGBT 在开通过程中，大部分时间是作为MOSFET 来运行的，只是在漏源电压Uds 下降过程后期， PNP 晶体管由放大区至饱和，又增加了一段延迟时间。
td(on) 为开通延迟时间， tri 为电流上升时间。
实际应用中常给出的漏极电流开通时间ton 即为td (on) tri 之和。
漏源电压的下降时间由tfe1 和tfe2 组成。
IGBT的触发和关断要求给其栅极和基极之间加上正向电压和负向电压，栅极电压可由不同的驱动电路产生。
当选择这些驱动电路时，必须基于以下的参数来进行：器件关断偏置的要求、栅极电荷的要求、耐固性要求和电源的情况。
因为IGBT栅极- 发射极阻抗大，故可使用MOSFET驱动技术进行触发，不过由于IGBT的输入电容较MOSFET为大，故IGBT的关断偏压应该比许多MOSFET驱动电路提供的偏压更高。
IGBT在关断过程中，漏极电流的波形变为两段。
因为MOSFET关断后，PNP 晶体管的存储电荷难以迅速消除，造成漏极电流较长的尾部时间，td(off)为关断延迟时间，trv为电压Uds(f)的上升时间。
实际应用中常常给出的漏极电流的下降时间Tf由图中的t(f1)和t(f2)两段组成，而漏极电流的关断时间t(off)=td(off)+trv十t(f)式中，td(off)与trv之和又称为存储时间。
IGBT的开关速度低于MOSFET，但明显高于GTR。
IGBT在关断时不需要负栅压来减少关断时间，但关断时间随栅极和发射极并联电阻的增加而增加。
IGBT 的开启电压约3～4V，和MOSFET相当。
IGBT导通时的饱和压降比MOSFET低而和GTR接近，饱和压降随栅极电压的增加而降低。
正式商用的IGBT器件的电压和电流容量还很有限，远远不能满足电力电子应用技术发展的需求;高压领域的许多应用中，要求器件的电压等级达到 10KV 以上，目前只能通过IGBT高压串联等技术来实现高压应用。
国外的一些厂家如瑞士ABB公司采用软穿通原则研制出了8KV的IGBT器件，德国的 EUPEC生产的6500V/600A高压大功率IGBT器件已经获得实际应用，日本东芝也已涉足该领域。
与此同时，各大半导体生产厂商不断开发IGBT 的高耐压、大电流、高速、低饱和压降、高可靠性、低成本技术，主要采用1um以下制作工艺，研制开发取得一些新进展IGBT 原理方法IGBT是强电流、高压应用和快速终端设备用垂直功率MOSFET的自然进化。
由于实现一个较高的击穿电压BVDSS需要一个源漏通道，而这个通道却具有很高的电阻率，因而造成功率MOSFET具有RDS(on)数值高的特征，IGBT消除了现有功率MOSFET的这些主要缺点。
虽然最新一代功率MOSFET 器件大幅度改进了RDS(on)特性，但是在高电平时，功率导通损耗仍然要比IGBT 技术高出很多。
较低的压降，转换成一个低VCE(sat)的能力，以及IGBT的结构，同一个标准双极器件相比，可支持更高电流密度，并简化IGBT驱动器的原理图。
IGBT导通IGBT硅片的结构与功率MOSFET 的结构十分相似，主要差异是IGBT增加了P+ 基片和一个N+ 缓冲层(NPT-非穿通-IGBT技术没有增加这个部分)。
如等效电路图所示(图1)，其中一个MOSFET驱动两个双极器件。
基片的应用在管体的P+和 N+ 区之间创建了一个J1结。
当正栅偏压使栅极下面反演P基区时，一个N 沟道形成，同时出现一个电子流，并完全按照功率 MOSFET的方式产生一股电流。
如果这个电子流产生的电压在0.7V范围内，那么，J1将处于正向偏压，一些空穴注入N-区内，并调整阴阳极之间的电阻率，这种方式降低了功率导通的总损耗，并启动了第二个电荷流。
最后的结果是，在半导体层次内临时出现两种不同的电流拓扑：一个电子流(MOSFET 电流); 空穴电流(双极)。
IGBT关断当在栅极施加一个负偏压或栅压低于门限值时，沟道被禁止，没有空穴注入N-区内。
在任何情况下，如果MOSFET电流在开关阶段迅速下降，集电极电流则逐渐降低，这是因为换向开始后，在N层内还存在少数的载流子(少子)。
这种残余电流值(尾流)的降低，完全取决于关断时电荷的密度，而密度又与几种因素有关，如掺杂质的数量和拓扑，层次厚度和温度。
少子的衰减使集电极电流具有特征尾流波形，集电极电流引起以下问题：功耗升高;交叉导通问题，特别是在使用续流二极管的设备上，问题更加明显。
鉴于尾流与少子的重组有关，尾流的电流值应与芯片的温度、IC 和VCE密切相关的空穴移动性有密切的关系。
因此，根据所达到的温度，降低这种作用在终端设备设计上的电流的不理想效应是可行的。
IGBT阻断与闩锁当集电极被施加一个反向电压时， J1 就会受到反向偏压控制，耗尽层则会向N-区扩展。
因过多地降低这个层面的厚度，将无法取得一个有效的阻断能力，所以，这个机制十分重要。
另一方面，如果过大地增加这个区域尺寸，就会连续地提高压降。
第二点清楚地说明了NPT器件的压降比等效(IC 和速度相同) PT 器件的压降高的原因。
当栅极和发射极短接并在集电极端子施加一个正电压时，P/N J3结受反向电压控制。
此时，仍然是由N漂移区中的耗尽层承受外部施加的电压。
IGBT在集电极与发射极之间有一个寄生PNPN晶闸管，如图1所示。
在特殊条件下，这种寄生器件会导通。
这种现象会使集电极与发射极之间的电流量增加，对等效MOSFET的控制能力降低，通常还会引起器件击穿问题。
晶闸管导通现象被称为IGBT闩锁，具体地说，这种缺陷的原因互不相同，与器件的状态有密切关系。
通常情况下，静态和动态闩锁有如下主要区别：当晶闸管全部导通时，静态闩锁出现。
只在关断时才会出现动态闩锁。
这一特殊现象严重地限制了安全操作区。
为防止寄生NPN和PNP晶体管的有害现象，有必要采取以下措施：防止NPN部分接通，分别改变布局和掺杂级别。
降低NPN和PNP晶体管的总电流增益。
此外，闩锁电流对PNP和NPN器件的电流增益有一定的影响，因此，它与结温的关系也非常密切;在结温和增益提高的情况下，P基区的电阻率会升高，破坏了整体特性。
因此，器件制造商必须注意将集电极最大电流值与闩锁电流之间保持一定的比例，通常比例为1：5。
发展历史1979年，MOS栅功率开关器件作为IGBT概念的先驱即已被介绍到世间。
这种器件表现为一个类晶闸管的结构(P-N-P-N四层组成)，其特点是通过强碱湿法刻蚀工艺形成了V形槽栅。
80年代初期，用于功率MOSFET制造技术的DMOS(双扩散形成的金属-氧化物-半导体)工艺被采用到IGBT中来。
[2]在那个时候，硅芯片的结构是一种较厚的NPT(非穿通)型设计。
后来，通过采用PT(穿通)型结构的方法得到了在参数折衷方面的一个显著改进，这是随着硅片上外延的技术进步，以及采用对应给定阻断电压所设计的n+缓冲层而进展的[3]。
