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QM-169系列 稀土抛光粉悬浮分散剂

QM-169系列 稀土抛光粉悬浮分散剂
QM-169系列 稀土抛光粉悬浮分散剂

QM-169系列稀土抛光粉悬浮分散剂

产品说明书

产品名称:QM-169系列抛光粉悬浮剂

物化性与技术指标:

外观:细微黄棕色或白色粉末PH值:6.5-8.5

水份含量:≤1.5%水溶性:易溶于水

应用特点:

A.显著的分散性:将QM-169悬浮剂加入抛光粉中,或直

接加入水中,经充分分散,硅醇基间形成氢键,产生立体网状结构,增加分散体系的粘度,从而达到增稠防沉作用。

B.优越的稳定性、补强性、增稠性及流变控制性

能:QM-169悬浮剂卓越的亲水性主要用于抛光粉、橡胶、医药及化妆品等的高活性填料,特别是氧化铈抛光粉、氧化铝抛光粉、涂料和油墨触变剂、着色系统的防沉剂。

C.出色的悬浮性能:可以与氧化铝、氧化铈、氧化锆和

氧化铬等抛光粉简单混合,可制成各种高悬浮性成品,特别应用于有高速抛光要求的抛光粉。

安全性:符合ROHS标准,无异味,无毒性

添加量:1-3%,具体添加量根据抛光粉性能、应用条件而定。

贮存:宜在干燥通风贮存,注意防潮、防水。

包装:5/20/40kg/桶(可按客户要求包装);使用后应密闭,注意防潮。

省模抛光步骤

随着塑料制品日溢广泛的应用,如日化用品和饮料包装容器等,外观的需要往往要求塑料模具型腔的表面达到镜面抛光的程度。而生产光学镜片、镭射唱片等模具对表面粗糙度要求极高,因而对抛光性的要求也极高。抛光不仅增加工件的美观,而且能够改善材料表面的耐腐蚀性、耐磨性,还可以使模具拥有其它优点,如使塑料制品易于脱模,减少生产注塑周期等。因而抛光在塑料模具制作过程中很重要的一道工序。 1 抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种: 1.1 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用种方法。 1.2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。 1.3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步: (1)宏观整平溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。 (2)微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。 1.4 超声波抛光

氧化铈

氧化铈中文名称:氧化高铈;二氧化铈;氧化铈;二氧化铈(抛光粉);铈土,氧化铈;发乳白色的,玻璃白 性质:铈的氧化物的总称。常见者有三氧化二铈(dicerium trioxide,Ce2O3)和二氧化铈(cerium dioxide,CeO2)。在三氧化二铈与二氧化铈之间存在相当多的氧化物物相,均不稳定。三氧化二铈具有稀土倍半氧化物的六方结构。熔点2210℃。沸点3730℃。对空气 相,例如Ce n2n-26ll,蓝色固体。Ce712,在CeO2晶胞结构基础上短缺七分之一的氧,蓝黑色固体,熔点1000℃(分解)。Ce9O16暗蓝色固体,熔点625℃(分解)。Ce l0O18,在CeO2晶脆结构基础上短缺十分之一的氧,暗蓝色固体,熔点575~595℃(分解)。Ce ll O2O,暗蓝色固体,熔点435℃(分解)。它们在半导体材料、高级颜料及感光玻璃的增感剂、汽车尾气的净化器方面有广泛应用。 形状纯品为白色重质粉末或立方体结晶,不纯品为浅黄色甚至粉红色至红棕色(因含有微量镧、镨等)。几乎不溶于水和酸。相对密度7.3。熔点1950℃。有毒,半数致死量(大鼠,经口)约1g/kg。 储存密封保存。 用途 氧化剂。有机反应的催化剂。钢铁分析作稀土金属标样。氧化还原滴定分析。脱色玻璃。玻璃搪瓷遮光剂。耐热合金。 规格 按纯度分为:低纯:纯度不高于99%,高纯:99.9%~99.99%,超高纯99.999%以上 按粒度分为:粗粉、微米级、亚纳米级、纳米级 安全说明:产品无毒、无味、无刺激、安全可靠,性能稳定,与水及有机物不发生化学反应,是优质玻璃澄清剂、脱色剂及化工助剂。 主要用作玻璃脱色剂、玻璃抛光粉、也是制备金属铈的原料,高纯氧化铈也用于生产稀士发光材料.溶于水,能溶于强无机酸。用作玻璃的脱色、澄清剂、高级抛光粉,还用于陶瓷电工、化工等行业。 类别:稀土元素化合物 化学性质:为浅黄色面心立方结构。为强的氧化剂,稀酸中较稳定,在浓酸中将放出

年产500吨高端氧化铈基稀土抛光粉升级改造项目可研报告(可编辑)

年产500吨高端氧化铈基稀土抛光粉升级改造项目可研 报告 目录 一、企业基本情况 1 二、项目实施的目的和意义 2 (一)国内外发展现状 2 (二)拟解决的关键问题 4 (三)主要技术经济指标 4 (四)项目市场前景 5 三、项目主要内容及预期目标9 (五)项目概况及预期目标 9 (六)项目产业化10 (七)项目推广应用 11 (八)项目具体内容 12 四、项目实施条件 15 (九)建设条件和厂址选择 15 (十)原材料供应16 (十一)环境保护17 (十二)项目技术基础19 五、项目进度安排及考核指标19

六、项目投资预算 20 (十三)投资估算和资金筹措20 (十四)资金筹措,贷款的偿还方式: 21 七、项目经济和社会效益分析21 (十五)经济效益分析条件: 21 (十六)生产成本估算: 22 (十七)财务评价: 23 (十八)财务分析24 (十九)社会效益25 安阳市岷山有色金属有限责任公司 年产500吨高端氧化铈基稀土抛光粉升级改造项目 一、企业基本情况 安阳市岷山有色金属有限责任公司始建于1992年,经过20年的发展,现在拥有有5个分公司(安阳旭辉磨料有限责任公司,河南圣达公司,安阳鑫隆化工有限公司,安阳岷山合金公司,安阳岷山锌业公司),集矿山开发、冶炼、综合回收、技术研发为一体的综合性有色金属集团公司。公司已通过质量管理、安全、环境三体系认证,属于“河南省首发上市后备企业”、“河南省高成长型企业”、“河南省节能减排先进单位”、“河南省资源综合利用企业”、“河南省企业技术研发中心”、“河南省百强企业”。综合实力位居国内行业前五名。 公司与北京恩菲开发的底吹熔融电热还原炼铅工业装置和工艺告别了焦炭作为铅冶炼行业主要能源的历史,具有流程短、低碳化、

抛光布轮使用方法

厦门其鸿昌工贸有限公司 抛光布轮 抛光布轮的主要材料是棉布:1。纯棉布2。麻布3。绒布4。尼绒5。细毛毡 . 抛光布轮,字而意义就是用布做成轮式用来抛光,其为抛光机器常用材料之一。其结构分为三种:1。非缝合式整布轮。

多用细软棉布制成,宜抛光形状复杂工件,或用于小型工件的精抛光。2。缝合式。多用粗布、无纺布及细平布等制成,缝线可采用同心圆式螺旋式及直辐射形式,宜抛光各种镀层及形状较简单的工作。3。风冷布轮。采用45度角线裁法,呈环形皱褶状,中间装有金属圆盘,具有通风散热的特点,宜抛光大型工件。 抛光布轮在抛光,磨光研磨行业工业中的选择及使用方法:一.选择抛光轮的大小 马达功率决定抛光轮的大小,马达的转轴必须与抛光轮配套。将抛光轮放在转轴的中央,用扳手拧紧。抛光轮表面线速均匀才能获得最佳抛光效果,所以如果用太大的抛光轮配较小的马达,当抛光时线速度将下降很多,抛光效果将受影响。 二.用抛光轮的方法 抛光轮的转动方向朝向你自己,并已获得足够的速度。将抛光蜡轻轻靠在轮子边缘,并确保在转动轴水平面的下方,直到表面覆盖满蜡。用一块干净的金属件轻轻靠在轮表面几秒钟,使蜡展开。反复几次,使蜡均匀覆盖在表面上。当表面完全覆盖上蜡后,就可以进行抛光工序了。必要时可再涂抛光蜡于轮上(最好擦除轮子上的蜡后再涂)。用做粗抛、中抛(切削抛)、精抛(上光)的轮子应该分开,而且务必分开,否则上光过程将被粗糙的颗粒划伤表面。

三.正确使用抛光轮 轮转向朝自己,并全速运转。用抛光蜡靠在轮边沿几秒钟,使蜡附着在轮子上(不要把蜡放在已经抛光好的物件上)。握紧工件轻靠轮面,并确保工件在轮中心轴水平面下方,否则轮子有可能将工件从手中甩出。正确的操作方法是,用工件轻轻碰一下轮面然后拿开工件。这有助于磨去表面的锐角,避免产生斑点。必要时补加蜡,但不要过量。如过量将使工件产生许多深的斑点痕迹。如果不慎用蜡过多,用铁刷子等工具擦去,必要时重涂。不要用力将蜡压在轮表面上,要让轮自由旋转。当工件由粗糙改为精抛(上光)时,不要有粗糙颗粒残留在轮子中,否则将产生划痕。抛光完成时,用沾有滑石粉的软布擦拭工件表面,去掉蜡质。简单的试一下就可以掌握整个过程。 抛光布轮所适用的行业包括: 木 业:国内外各种砂光机.毛刷辊及扫灰毛刷等. 家俬业:抛光布轮,棕刷,油漆刷,剑麻条等. 抛光业:各种毛轮,布轮,棕轮,布片,钢丝轮及抛光器材等. 表 业:钢丝刷,油刷,羊毛刷,圆盘刷. 皮业: 磨光机,唰皮机滚刷,皮带刷等. 陶瓷业:压机圆刷,压机滚刷,釉线圆刷,机室除尘手扫

(完整)氧化铈抛光汇总及效果分析,推荐文档

氧化铈抛光汇总及效果分析 随着光学技术和集成电路技术的迅猛发展,对光学元器件的精密和超精密抛光、集成电路的化学机械抛光技术的要求越来越高,甚至达到了极为苛刻的程度,尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。铈系稀土抛光粉(VK-Ce02)因具有切削能力强、抛光精度高、抛光质量好、使用寿命长等特点,在光学精密抛光领域已占有极其重要的地位。 一、氧化铈抛光粉的种类 氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高。 1. 高铈抛光粉VK-Ce02,含氧化铈95%以上,浅黄色,比重在7.3左右,主要适用于精密光学镜头的高速抛光。该抛光粉的性能优良,抛光效果好。 2. 中铈抛光粉,含氧化铈70%~85%之间,黄色或褐色,比重在6.5左右,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。 3. 低铈系稀土抛光粉,含氧化铈40%~60%之间,适用于电视机显像管、眼镜片和平板玻璃等的抛光。 二、氧化铈抛光粉的应用领域 氧化铈抛光粉VK-Ce02,主要用于玻璃制品的抛光,大的行业来说,主要应用于以下领域: 1. 眼镜、玻璃镜片抛光; 2. 光学镜头、光学玻璃、透镜等; 3. 手机屏玻璃、手表面(表门)等; 4. 液晶显示器各类液晶屏; 5. 水钻、烫钻(发卡,牛仔裤上的钻石)、灯饰球(大型大厅内的豪华吊灯); 6. 水晶工艺品; 7. 部分玉石的抛光; 三、氧化铈的抛光机制 CeO2颗粒的硬度并不高,如下表所示,氧化铈的硬度远低于金刚石、氧化铝,也低于氧化锆和氧化硅,与三氧化二铁相当。因此仅从机械方面来看,以低硬度的氧化铈去抛光基于氧化硅的材料,如硅酸盐玻璃、石英玻璃等,是不具有技术可行性的。但是氧化铈却是目前抛光基于氧化硅材料甚至氮化硅材料的首选抛光粉。可见氧化铈抛光还具有机械作用之外的其他作用。 常用研磨、抛光材料的硬度 在CeO2晶格中通常会出现氧空位使得其理化性能发生变化,并对抛光性能产生一定的影响。常用的氧化铈抛光粉中均含有一定量的其他稀土氧化物,氧化镨(Pr6O11)也为面心立方晶格结构,可适用于抛光,而其他镧系稀土氧化物没有抛光能力,它们可在不改变CeO2晶体结构的条件下,在一定范围内与之形成固溶体。对高铈抛光粉VK-Ce02而言,氧化铈的纯度越高,抛光能力越大,使用寿命也增加,特别是硬质玻璃和石英光学镜头等长时间循环抛光时,以使用高纯度的氧化铈抛光粉为宜。

抛光刷规格型号

对于一些五金产业来说,很多产品需要对其表面进行打磨,以达到一些波纹或者简单的图案,对于机床生产来说,机器加工后的零件表面棱边上一般都会有毛刺,那么应该如何解决这些问题呢?接下来让安徽鑫耀刷业有限公司为您解答,希望给您带来帮助! 研磨丝抛光盘刷,用于工业加工零件的抛光,如汽车零件抛光铝型材的抛光,金属板材的表面处理。钢丝抛光轮,用于金属器件及零件的抛光处理用于抛光、除锈、去毛刺等多中用途。各种抛光刷用于清除缸体内壁平台空口的毛刺、交叉口毛刺、表面氧化层,以及机械工业制造。 采用正确的研磨膏和抛光工具,可获得极佳的抛光效果。机械抛光常用的工具有抛光布轮,抛光刷和抛光转盘。抛光工具的材料有着不同的硬度,从金属,各种纤维(如木材,人造纤维)到软毛耗。抛光工具的硬度直接影响着钻石磨粒露出的程度,从而影响金属的去除

速率。光操作时耗费时间和费用昂贵的工序,遵循一定的守则可以降低抛光操作的成本。抛光的每一个步骤必须保持清洁,这一点最重要。抛光必须在清洁无尘的室内进行。硬尘粒会污染研磨材料,损害已接近完成的模具表面。每个抛光工具只使用一个级别的抛光钻石膏,抛

光工具会显得饱和,随着不断使用情况会有所改善。当要转换更细一级的砂号时,必须清洗双手和工件。用肥皂清洗双手,用除至容积清洗工件。用肥皂清洗双手,用除脂容积清洗工件。抛光时所用的压力与抛光工具的硬度和研磨膏的等级应互相调整和适应。进行最细一级的抛光时,压力要调整到与抛光工具的重量相当。要获得较大的钢材除去率,必须使用较硬的抛光工具和较粗砂粒的钻石膏。塑胶模具的最终抛光应沿着工件脱模的方向进行。开始抛光是要先处理角落、边角和圆角等较难抛光的地方。处理尖角及边角应特别小心,注意不要形成圆角或圆边,应尽量采用较硬的抛光工具。 安徽鑫耀刷业有限公司拥有先进的生产设备,人性化的管理模式,公司经过多年的发展,已从当初十几人的手工制作发展到如今的自动化生产,现己形成专业刷体注塑、包胶、磨胶,刷轴(精钢轴.不锈钢轴)

纳米二氧化铈溶液

运输及保存: 1、运输与存放过程中要避免光直射,适合运输与存放温度为5℃~50℃。 2、保质期一年,建议半年内使用。 包装:50Kg/桶,或可据客户要求

Nano-cerium oxide solution Features: SH-005series-based solution is the Ceria Ceria powders dispersed in aqueous medium,the formation of a high degree of fragmentation,homogenization and stabilization of nano-ceria water-based liquids.With a small grain size characteristics,suitable for isolation of UV sunscreen agent in cosmetics,plastics,paints used in the anti-aging agents;and lattice-type intact than the major and the formation of pores in ceramics is not easy;product has a good dispersion of transparent,easy-to-be added to plastic,silicone rubber and other polymers. Specifications: Model Main technical parameters PH Value ProportionConcentration (%) Particle size (nm) Solvent Appearance SH-0057~9 1.5~1.620~4020~500 Water-organic solvent Milky yellowish liquid Note:According to customer demand can produce into different concentrations and different particle size. Application areas: 1,as the inorganic UV absorber:Add in the glass,can absorb ultraviolet and infrared rays, for automotive glass,not only UV,but also to reduce the temperature inside the vehicle, thereby saving air-conditioning electricity. 2,can be used in fuel cell materials,hydrogen storage materials,nano-cerium oxide tungsten electrodes,gas catalyst,some permanent magnetic materials,all kinds of alloy steel and non-ferrous metals. 3,for the alloy coating:Add in the zinc-nickel,zinc,diamond and zinc alloy zinc power to change the crystallization process,to promote crystal plane preferred orientation produced, the organization more uniform coating,more compact,so as to enhance corrosion resistance; 5,with in functional ceramics(such as electronic ceramics,structural ceramics):Can a low sintering temperature,inhibiting crystal growth,improve the ceramic densification; 6,polymers(such as paint,ink and paper,etc.):increase the polymer thermal stability and anti-aging properties. 7,for plastic,rubber,heat stabilizer,anti-aging agents and lubricants can improve the lubrication coefficient,

抛光粉

稀土抛光粉的发展现状及应用 一项目的背景情况 抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。 铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,故比其他抛光粉(如Fe2O3红粉)的使用效果佳,而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛增,发展前景看好。 1.1 稀土抛光粉的发展过程 红粉(氧化铁)是历史上最早使用的抛光材料,但它的抛光速度慢,而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展,于二十世纪30年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中,一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员,于1943年提出了一种叫做巴林士粉(Barnesite)的稀土氧化物抛光粉,这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点,激起了美国等国家的群起研究。这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。 国外于60年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。 目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为200吨以上者)。其中,法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年,我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料,研制成功不同类型稀土抛光粉。北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于1976年研制并推广了739型稀土抛光粉,1977年又研制成功了771型稀土抛光粉。1979年甘肃稀土公司研制成功了797型稀土抛光粉。目前国内

抛光机的使用方法以及注意事项示范文本

抛光机的使用方法以及注意事项示范文本 In The Actual Work Production Management, In Order To Ensure The Smooth Progress Of The Process, And Consider The Relationship Between Each Link, The Specific Requirements Of Each Link To Achieve Risk Control And Planning 某某管理中心 XX年XX月

抛光机的使用方法以及注意事项示范文 本 使用指引:此管理制度资料应用在实际工作生产管理中为了保障过程顺利推进,同时考虑各个环节之间的关系,每个环节实现的具体要求而进行的风险控制与规划,并将危害降低到最小,文档经过下载可进行自定义修改,请根据实际需求进行调整与使用。 汽车表面经喷涂之后,可能会出现粗粒、砂纸痕、流 痕、反白、橘皮等漆膜表面的细小缺陷,为了弥补这些缺 陷,通常在喷涂后进行研磨抛光处理,以提高漆膜的镜面 效果,达到光亮、平滑、艳丽的要求。这里我们来了解一 下抛光机的构造及操作注意事项。 抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本 元件组成。电动机固定在底座上,固定抛光盘用的锥套通 过螺钉与电动机轴相连。抛光织物通过套圈紧固在抛光盘 上,电动机通过底座上的开关接通电源起动后,便可用手 对试样施加压力在转动的抛光盘上进行抛光。抛光过程中 加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流

入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。 抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用最细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。解决这个矛盾的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有最大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到最小。 抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产

研磨剂、抛光液、清洗剂培训教材

研磨剂、清洗剂、抛光液培训教材 一、研磨剂: 用磨料、分散剂(又称研磨液)和辅助材料制成的混合剂,(习惯上也列为磨具 ,使用时磨粒呈自由状态。由于分散剂和辅助材料的 即可直接使用。膏状的常称作研磨膏,可直接使用或加研磨液稀释后使用,用油稀释的称为油溶性研磨膏;用水稀释的称为水溶性研磨膏。固体研磨剂(研磨皂)常温时呈块状,可直接使用或加研磨液稀释后使用。研磨剂中的磨料起切削作用,常用的磨料有刚玉、碳化硅、碳化硼和人造金刚石等。精研和抛光时还用软磨料,如氧化铁、氧化铬和氧化铈等。分散剂使磨料均匀分散在研磨剂中,并起稀释、润滑和冷却等作用,常用的有煤油、机油、动物油、甘油、酒精和水等。辅助材料主要是混合脂,常由硬脂酸、脂肪酸、环氧乙烷、三乙醇胺、石蜡、油酸和十六醇等中的几种材料配成,在研磨过程中起乳化、润滑和吸附作用,并促使工件表面产生化学变化,生成易脱落的氧化膜或硫化膜,借以提高加工效率。此外,辅助材料中还有着色剂、防腐剂和芳香剂等(研磨液是由多种化工活性剂和功能性助剂配制而成的溶液,它具有无毒、无腐蚀,不易变质等性能,在抛光工艺中有重要的地位。抛光液的种类很多,应根据加工条件来选择,合理选择抛光液,能使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳,可以防止工件的锈蚀,保持与提高工件表面的光泽,起到清洗工件与磨具的作用。抛光液还可以去除油污,软化工件表面以加速磨削,减少磨具对工件的冲击,改善工作条件。在光整效率、工件的研磨质量、抛光的光亮度等方面,抛光液都显示出其独特的效果)。

二、清洗剂 常用的化学清洗药剂可有不同的分类方法。例如按其化学组成可分为无机化学清洗剂和有机化学清洗剂;按其中有的清洗剂可能对不同的污垢有不同的作用,或对同一种污垢具有两种或两种以上的作用,则应按其在一般情况下的主要作用归类。 1.水和非水溶剂 污垢的溶剂是指那些能把清洗对象的污垢以溶解或分散的形式剥离下来,且没有稳定的、化学组成确定的新物质生成的物质。它包括水及非水溶剂。 (1)水:水是自然界存在的,也是最重要的溶剂。在工业清洗中,水既是多数化学清洗剂的溶剂,又是许多污垢的溶剂。在清洗中,凡是可以用水除去污垢的场合,就不用非水溶剂及各种添加剂。 (2)非水溶剂:非水溶剂包括烃与卤化烃、醇、醚、酮、酯、酚等及其混合物于它主要用于溶解有机污垢,如油垢及某些有机化合物垢。 2.表面活性剂 其分子中同时具有亲水的极性基团与亲油的非极性基团,当它的加入量很少时,即能大大降低溶剂(一般是水)的表面张力以及液界面张力,并且具有润滑、增溶、乳化、分散和洗涤等作用。 表面活性剂有多种分类方法。普遍根据它在溶剂中的电离状态及亲水基团的离子类型分类。最常用的有阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂及非离子表面活性剂等。前三类为离子型表面活性剂。 表面活性剂在家庭生活及工业生产的清洗中,有广泛的用途。 3.酸-碱清洗剂 借助于和污垢发生酸碱反应(有时也伴有氧化-还原等反应),使污垢转变为可溶解或分散于清洗液的清洗剂,多为有机酸、无机酸、碱及水解后呈酸性或碱性的盐。 大多数酸—碱清洗剂都是由酸、碱的水溶液加必要的助剂组成的。另一类在高温条件下以熔融状态和污垢作用的酸或碱,使原来不溶解或难溶解于清洗介质中的污垢,转化为易溶解的化合物,这类酸与碱通常称为熔融剂。这种清洗剂对于用溶剂或溶液难以清除的污垢时,有良好的效果。

教你使用抛光条范文

教你使用抛光条范文 相信每个美眉去美甲店做美甲的时候总少不了一个步骤,那就是美甲师拿着一根抛光条在你十指间摩擦、摩擦,然后你的指甲盖就duang的一下亮起来了!是的,这就是抛光条的作用,帮你修整不平整的指甲表面,然后涂上指甲后,整个指甲才能bling、bling的亮瞎路人!那么抛光条怎么用呢?告诉你: “沙沙沙…”抛光条在你的指甲盖摩擦摩擦后,你的甲面就能更加亮泽持久了!那么抛光条怎么用呢?下面我们来了解! 分类:有三面抛光条和四面抛光块两种。 使用方法:一般按照黑、白、灰的使用顺序依次抛光,黑色面可抛去指甲表面的角质,白色面可把指甲表面抛得更细,灰色面可把表面抛亮。 温馨小提示:如果甲盖较薄,不可用四面抛光块最粗的那一面抛,否则指甲会越抛越薄。抛光时切勿来回摩擦,因为摩擦所产生的热度会令人不适。 抛光条有什么用 没做过美甲,你怎么能说你是时尚的icon呢?美甲控们无时无刻都得保持双手处于bling的状态,当然,这也要得益于抛光条的作用,抛光条有什么作用呢? 抛光条是用于做指甲抛光的!抛光是美甲重要一步,所以这个美甲工具很重要,它能将指甲面处理得光滑细致,让指甲看起来光亮无

比干净健康,抛光条有砂质不同的抛光面,使用时,先粗面磨平,再用细面抛光。 抛光条哪里买得到 美甲控们一天不折腾自己的指甲就闹得慌,恨不得天天都换一套指甲颜色有木有,但是在美甲店做一次指甲动辄百八十,荷包真是伤不起,只能自己在家DIY。在家DIY就少不了美甲工具了,那么抛光条哪里买得到呢? 抛光条并不难买,在一般的商超或者是美妆店都可以买得到,如果你想买质量比较靠谱,价格又比较亲民的产品,可以上网网购,价格在2-10元之间不等。 抛光条好还是抛光块好 不知道大家到美甲店做美甲的时候有没有仔细观察美甲师的工具呢?做指甲抛光时,除了有常见的抛光条,还有四四方方的抛光块,那么如果自己在家DIY美甲,是抛光条好还是抛光块好呢? 这个要看个人的手感啦,有人觉得抛光条最常用也是最实用的,它拿在手上方便,也有人觉得抛光块打磨比较细致,打磨面更多选择。 抛光条和指甲锉有什么区别 自己在家DIY美甲,没有美甲店里那么多工具,那么可不可以用指甲锉代替抛光条呢?其实抛光条和指甲锉大大的不同,那么抛光条和指甲锉有什么区别呢?

氧化铈抛光粉

氧化铈抛光粉 简介: 氧化铈抛光粉广泛用于玻璃抛光,具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高 微观形貌(北京国瑞升科技有限公司)(2张) 。 成分结构: 氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈(CeO2),其次分别为氧化镧 (La2O3)、氧化镨(Pr2O3),此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。 发展历史: 随着稀土工业的发展,于二十世纪 30 年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中,稀土抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点,激发了西方国家的研究热情。这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。国外于 60 年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪 90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种。目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为 200 吨以上者。其中,法国罗地亚公司年生产能力为 2200 多吨,是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量达1500 吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968 年,我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。目前国内已有14 个稀土抛光粉生产厂家(年生产能力达30 吨以上者),但与国外相比仍有较大差距,主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定,未能达到标准化、系列化,还不能完全满足各种工业领域的抛光要求。 生产工艺:

抛光粉发展历程.

抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。 铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,故比其他抛光粉(如Fe2O3红粉)的使用效果佳,而被人们称为"抛光粉之王".目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛增,发展前景看好。 1.1 稀土抛光粉的发展过程 红粉(氧化铁)是历史上最早使用的抛光材料,但它的抛光速度慢,而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展,于二十世纪30年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中,一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员,于1943年提出了一种叫做巴林士粉(Barnesite)的稀土氧化物抛光粉,这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点,激起了美国等国家的群起研究。这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。 国外于60年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。 目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家(年生产能力为200吨以上者)。其中,法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种,工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年,我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料,研制成功不同类型稀土抛光粉。北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于1976年研制并推广了739型稀土抛光粉,1977年又研制成功了771型稀土抛光粉。1979年甘肃稀土公司研制成功了797型稀土抛光粉。目前国内已有14个稀土抛光粉生产厂家(年生产能力达30吨以上者),最大的一家年生产能力为2220吨。但与国外相比仍有较大差距,主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定,未能达到标准化、系列化,还不能完全满足各种工业领域的抛光要求,因此必须迎头赶上。 1.2 稀土抛光粉的组成及分类 1.2.1 以稀土抛光粉中CeO2量来划分: 稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将铈抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉,一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低铈抛光粉,其铈含量在50%左右,或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。 对于高铈抛光粉来讲,氧化铈的品位越高,抛光能力越大,使用寿命也增加,特别是硬质玻璃长时间循环抛光时(石英、光学镜头等),以使用高品位的铈抛光粉为宜。低铈抛光粉一般含有50%左右的CeO2,其余50%为La2O3?SO3,Nd2O3?SO3,Pr6O11?SO3等碱性无水硫酸盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物,此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高铈抛光粉比几乎没有两样,因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光,但使用寿命难免要比高铈抛光粉低。 1.2.2以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分: 稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。对于一定组分和加工工艺的抛光粉,平均颗粒尺寸越大,则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下,颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度最大。相反地,如果抛光粉颗粒平均粒度较小,则磨削量减少,磨削速度降低,玻璃表面平整度提高,标准抛光粉一般有较窄的粒度分布,太细和太粗的颗粒很少,无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面,而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。此外,稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分,稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术,稀土抛光粉属于超细粉体,国际上一般将超细粉体分3种:纳米级 (1nm~100nm);亚微米级(100nm~1μm);微米级(1μm~100μm),据此分类方法,稀土抛光粉可

抛光方法

抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种: 1.1机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。1.2化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。 1.3电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步:(1)宏观整平溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra>1μm。 (2)微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra<1μm。 1.4超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过程,利于表面光亮化。 1.5流体抛光 流体抛光是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的。常用方法有:磨料喷射加工、液体喷射加工、流体动力研磨等。流体动力研磨是由液压驱动,使携带磨粒的液体介质高速往复流过工件表面。介质主要采用在较低压力下流过性好的特殊化合物(聚合物状物质)并掺上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。 1.6磁研磨抛光 磁研磨抛光是利用磁性磨料在磁场作用下形成磨料刷,对工件磨削加工。这种方法加工效率高,质量好,加工条件容易控制,工作条件好。采用合适的磨料,表面粗糙度可以达到Ra0.1μm。 在塑料模具加工中所说的抛光与其他行业中所要求的表面抛光有很大的不同,严格来说,模具的抛光应该称为镜面加工。它不仅对抛光本身有很高的要求并且对表面平整度、光滑度以及几何精确度也有很高的标准。表面抛光一般只要求获得光亮的表面即可。镜面加工的标准分为四级:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于电解抛光、流体抛光等方法很难精确控制零件的几何精确度,而化学抛光、超声波抛光、磁研磨抛光等方法的表面质量又达不到要求,所以精密模具的镜面加工还是以机械抛光为主。

抛光粉资料

平磨工序的技术要领 氧化铈抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,与传统抛光粉-铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等优点。广泛的应用到平板玻璃、光学玻璃、荧光屏、光学玻璃零件、示玻管、眼镜片,不锈钢、水晶制品、陶瓷制品等各种抛光加工领域的最终抛光,用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完成的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分 钟。. 淡黄或黄褐色助粉末。密度7.13g/cm3。熔点2397℃。不溶于水和碱,微溶于酸。在2000℃温度和15Mpa压力下,可用氢还原氧化铈得到三氧化二铈,温度游离在2000℃间,压力游离在5Mpa压力时,氧化铈呈微黄略带红色,还有粉红色,其性能是做抛光材料。 详细内容名称:氧化铈;cerous oxide 分子式:Ce02 分子量:172.13 CAS 号:12014-56-1 规格: 按纯度分为:低纯:纯度不高于99%,高纯:99.9%~99.99%,超高纯99.999%以上 按粒度分为:粗粉、微米级、亚纳米级、纳米级 安全说明:产品无毒、无味、无刺激、安全可靠,性能稳定,与水及有机物不发生化学反应,是优质玻璃澄清剂、脱色剂及化工助剂。 主要用作玻璃脱色剂、玻璃抛光粉、也是制备金属铈的原料,高纯氧化铈也用于生产稀士发光材料.溶于水,能溶于强无机酸。用作玻璃的脱色、澄清剂、高级抛光粉,还用于陶瓷电工、化工等行业。 稀土在各种玻璃中主要作用 (1)稀土抛光作用 ??稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点,与传统抛光粉—铁红粉相比,不污染环境,易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜,一分钟完成的工作量,如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。所以,稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物,是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。目前我国有稀土抛光粉厂几十家,生产规模上百吨的十余家。中外合资包头天骄清美稀土抛光粉有限公司是我国目前最

稀土抛光粉的发展与应用

稀土抛光粉的发展现状及应用 铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,故比其他抛光粉(如Fe2O3 红粉)的使用效果佳,而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛增,发展前景看好。铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,故比其他抛光粉(如Fe2O3 红粉)的使用效果佳,而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛增,发展前景看好。 我国具有丰富的铈资源,据测算,其工业储量约为1800 万吨(以CeO2 计),这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础,也是我国独有的一大优势,并可促进我国稀土工业继续高速发展。 1、稀土抛光粉的发展过程红粉(氧化铁)是历史上最早使用的抛光材料,但它的抛光速度慢,而且 铁锈色的污染也无法消 除。随着稀土工业的发展,于二十世纪30 年代,首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次世界大战中,一个在伊利诺斯州罗克福德的W F 和Barnes J 公司工作的雇员,于1943 年提出了一种叫做巴林士粉(Barnesite )的稀土氧化物抛光粉,这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点,激起了美国等国家的群起研究。这样,稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。 国外于60 年前开始生产稀土抛光粉,二十世纪90 年代已形成各种标准化、系列化的产品达30 多种规格牌号。 目前,国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15 家(年生产能力为200 吨以上者)。其中,法国罗

稀土抛光粉化学分析方法 第1部分:氧化铈量的测定 滴定法(标准

I C S77.120.99 H14 中华人民共和国国家标准 G B/T20166.1 2012 代替G B/T20166.1 2006 稀土抛光粉化学分析方法 第1部分:氧化铈量的测定 滴定法 C h e m i c a l a n a l y s i sm e t h o d s o f r a r e e a r t h p o l i s h i n gp o w d e r P a r t1:D e t e r m i n a t i o no f c e r i u mo x i d e c o n t e n t T i t r i m e t r y 2012-11-05发布2013-05-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局

前言 G B/T20166‘稀土抛光粉化学分析方法“共分2个部分: 第1部分:氧化铈量的测定滴定法; 第2部分:氟量的测定离子选择性电极法三 本部分为第1部分三 本部分是按照G B/T1.1 2009给出的规则起草的三 本部分代替G B/T20166.1 2006‘稀土抛光粉化学分析方法氧化铈量的测定滴定法“三本部分与G B/T20166.1 2006相比主要变化如下: 删除了方法原理中的 在尿素存在下,用亚砷酸钠-亚硝酸钠还原三价锰 ; 删除了试剂尿素和亚砷酸钠-亚硝酸钠; 取消了测定步骤中尿素和亚砷酸钠-亚硝酸钠的使用三 本部分由全国稀土标准化技术委员会(S A C/T C229)归口三 本部分负责起草单位:包头天骄清美稀土抛光粉有限公司三 本部分参加起草单位:包头稀土研究院二北京有色金属研究院三 本部分主要起草人:谢兵二刘致文二崔凌霄二李宝莹二黄仲汉二韩秀芳二渠利娜二郭昱二王素梅三本部分所代替标准的历次版本发布情况为: G B/T20166.1 2006三

目前常用的几种抛光方法

目前常用的几种抛光方法 目前常用的抛光方法有以下几种: 1.1 机械抛光 机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。 1.2 化学抛光 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10 μ m 。 1.3 电解抛光 电解抛光基本原理与化学抛光相同,即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。与化学抛光相比,可以消除阴极反应的影响,效果较好。电化学抛光过程分为两步: (1 )宏观整平溶解产物向电解液中扩散,材料表面几何粗糙下降,Ra > 1 μ m 。 (2 )微光平整阳极极化,表面光亮度提高,Ra < 1 μ m 。 1.4 超声波抛光 将工件放入磨料悬浮液中并一起置于超声波场中,依靠超声波的振荡作用,使磨料在工件表面磨削抛光。超声波加工宏观力小,不会引起工件变形,但工装制作和安装较困难。超声波加工可以与化学或电化学方法结合。在溶液腐蚀、电解的基础上,再施加超声波振动搅拌溶液,使工件表面溶解产物脱离,表面附近的腐蚀或电解质均匀;超声波在液体中的空化作用还能够抑制腐蚀过

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