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氨基羰基羧基羟基保护基团及其稳定性

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Amino Protecting Groups Stability Protecting group is stable under these conditions Protecting group is moderately stable / might react Protecting group is labileFmoc-NR29-Fluorenylmethyl carbamate, FMOC amino, FMOC amine, FMOC amideH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RTpH = 12,RTpH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3,RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2/CH2Cl2 BOC-NR2t-Butyl carbamate, BOC amine, BOC amino, BOC amideH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Cbz-NR2 / Z-NR2Benzyl carbamateH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RTpH > 12,100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2Ac-NR2AcetamideH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2TrifluoroacetamideH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 PhthalimideH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°C Bases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Bn-NR2BenzylamineH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Tr-NR2Triphenylmethylamine (Tritylamine)H2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 BenzylideneamineH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Ts-NR2p-Toluenesulfonamide, TosylamideH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2H2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RTpH > 12,100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 1,3-Dioxanes1,3-DioxolanesH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RTpH > 12,100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl21,3-Dithianes 1,3-DithiolanesH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°C Bases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 N,N-DimethylhydrazoneH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2H2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 t-Butyl esterH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Benzyl esterH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 S-t-Butyl esterH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 2-Alkyl-1,3-oxazolineH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2MOM-OR Methoxymethyl ether, MOM etherH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 THP-OR Tetrahydropyranyl ether, THP etherH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2t-Butyl etherH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Allyl etherH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Bn-OR Benzyl etherH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2TBDMS-OR t-Butyldimethylsilyl ether, TBDMS etherH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 TBDPS-OR t-Butyldiphenylsilyl ether, TBDPS etherH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Ac-OR Acetic acid ester, Acetate ester, AcetateH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Pv-OR Pivalic acid ester, Pivalate ester, PivalateH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Bz-OR Benzoic acid ester, Benzoate ester, BenzoateH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RTpH > 12,100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2 Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3 Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnH Reduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4 Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl21,2- and 1,3-diolsAcetonideH2O:pH < 1, 100°C pH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 Benzylidene acetalH2O:pH < 1,100°CpH = 1, RT pH = 4, RT pH = 9, RT pH = 12, RT pH > 12, 100°CBases:LDA NEt3, Py t-BuOK Others:DCC SOCl2Nucleophiles:RLi RMgX RCuLi Enolates NH3, RNH2NaOCH3Electrophiles:RCOCl RCHO CH3I Others::CCl2Bu3SnHReduction:H2 / Ni H2 / Rh Zn / HCl Na / NH3LiAlH4NaBH4Oxidation:KMnO4OsO4CrO3 / Py RCOOOH I2, Br2, Cl2MnO2 / CH2Cl2 T. W. Green, P. G. M. Wuts, Protective Groups in Organic Synthesis, Wiley-Interscience, New York, 1999, 207-215, 716-719.。

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有机化学中的保护基团

有机化学中的保护基团

有机化学中的保护基团
保护基团是有机化学中常用的一种技术，用于保护有机分子中的某些原子或基团不受其他反应的影响。

这种技术通常在有机合成过程中使用，可以使得化学反应更加精确和可控。

常见的保护基团包括：
羰基保护基团：常见的羰基保护基团有甲基羰基（MOM）、叔丁基羰基（SBM）和二甲基羰基（DMB）。

羰基保护基团通常用于保护羧基（COOH）。

羧基保护基团：常见的羧基保护基团有甲基羧基（Methyl）、叔丁基羧基（TBD）和二甲基羧基（DMD）。

羧基保护基团通常用于保护氨基（NH2）。

醛保护基团：常见的醛保护基团有甲基醛（MEOH）、二甲基醛（DME）和三甲基醛（TME）。

醛保护基团通常用于保护醇（OH）。

酮保护基团：常见的酮保护基团有甲基酮（MTOH）、叔丁基酮（TBOH）和三甲基酮（TMOH）。

酮保护基团通常用于保护酮（COH）。

当化学反应完成后，通常需要去除保护基团，以便得到所需的最终产物。

这种过程称为解保护。

解保护的方法取决于保护基团的种类和有机物的结构。

常见的解保护方法包括用酸或碱溶液去除保护基团，或者使用高温氧化或氧气氧化等方法。

保护基团在有机合成中非常重要，因为它可以使得化学反应更加精确和可控。

它还可以使得合成过程更加简单，因为只有在解保护后才能得到所需的最终产物。

保护基团在药物合成、染料合成和其他领域都有广泛应用。

羟基的保护与去保护

羟基的保护与去保护

1. 苄醚类主要有苄基、对甲氧苄基及三苯甲基醚 ；
2. 苄基醚的裂解主要是通过催化加氢的方法，Pd是理想的催化剂，用Pt时 会产生芳环上的氢化作用。
3. 甲氧基苄醚的合成与苄基醚相似。但甲氧基取代的苄基醚较未取代的苄 基醚更容易通过氧化去保护。
方法2.3.2：甲基醚
1. Protection: 用碱脱去醇ROH质子，再与合成子 ＋CH3作用。如： NaH/Me2SO4, Ag2O/MeI, CH2N2/BF3.Et2O
3. TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂显出比TBDMS基 团更好的稳定性。
方法2.2： 烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
1. 常用的有THP (2-四氢吡喃)，MOM（甲氧基甲机基），EE（2-乙氧 基乙基），SEM-Cl。
2. 保护基形成的化合物都对酸不稳定，一般在酸性条件下脱保护。其对 酸的稳定性是 MOM > EE > THP
？
羟基的常见保护策略
转化为酯：糖、核苷、多酚
转化为醚
硅醚
三甲基硅醚 (TMS-OR) 叔丁基二甲基硅醚 (TBDMS-OR or TBS-OR) 叔丁基二苯基硅醚 (TBDPS-OR) …
烷氧基甲基醚或烷氧基取代甲基醚
烷基醚
苄醚 甲基醚 烯丙基醚、叔丁基醚 …
方法1：酰化为酯
手段：乙酰化(Ac)、苯甲酰化(Bz)、特戊酰化(Pv)…
J. Org.Chem.1996, 61, 2065)
Protection: Compound 1 (3.00g, 4.286mmol) was dissolved in dry DMF (17 mL). To this solution at 0 oC was
added imidazole (874.3 mg, 12.86mmol), followed by TMSCl (1.63 mL, 12.86 mmol). After stirring at 0 oC for 1.5 h, the reaction mixture was diluted with EtOAc (300 mL) and washed with water (3 × 20 mL) and then brine (30 mL). The organic layer was dried and concentrated in vacuo. The resulting material was then dissolved in dry DMF (20 mL) and treated at 0 oC with imidazole (816 mg, 12.00 mmol), followed by chlorodimethylsilane (1.135g, 12.00mmol). The reaction mixture was stirred for 1h at 0oC and then diluted with EtOAc (200mL). The organic layer was washed with water and brine. Upon silica gel chromatography (10% ethyl acetate in hexane), 3.197 g (90%) of the desired product 2 was obtained.
有关官能团的保护

有关官能团的保护

有机合成中的基团保护、导向基(高考必备）（一）基团保护在有机合成中，些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应，这样就不能达到预计的合成目标，因此，必须采取对这些基团进行保护，完成合成后再除去保护基，使其复原。

对保护措施一定要符合下列要求：①只对要保护的基团发生反应，而对其他基团不反应；②反应较容易进行，精制容易；③保护基易脱除，在除去保护基时，不影响其他基团。

下面只简略介绍要保护的基团的方法。

1、羟基的保护在进行氧化反应或某些在碱性条件进行的反应，往往要对羟基进行保护。

如防止羟基受碱的影响，可用成醚反应。

防止羟基氧化可用酯化反应。

2、对氨基的保护 氨基是个很活泼的基团，在进行氧化、烷基化、磺化、硝化、卤化等反应时往往要对氨基进行保护。

（1）乙酰化（2）对NR 2可以加H + 质子化形成季铵盐，– NH 2也可加H + 成 – NH 3而保护。

3、对羰基的保护羰基，特别是醛基，在进行氧化反应或遇碱时，往往要进行保护。

对羰基的保护一般采用缩醛或缩酮反应。

4、对羧基的保护 羧基在高温或遇碱性试剂时，有时也需要保护，对羧基的保护最常用的是酯化反应。

5、对不饱和碳碳键的保护碳碳重键易被氧化，对它们的保护主要要加成使之达到饱和。

（二）导向基在有机合成中，往往要“借”某个基团的作用使其达到预定的目的，预定目的达到后，再把借来的基团去掉，恢复本来面貌，这个“借”用基团 我们叫“导向基”。

当然这样的基团，要符合易“借”和易去掉的原则，如由苯合成1,3,5 – 三溴苯,在苯的亲电取代反应中，溴是邻、对位取代基，而1,3,5 – 三溴苯互居间位，– OH –OR– NH 2 CH 3COCl 或酸酐–NH 2－C －CH 3 O–COOH + R –OH – COORH +–CHO + 2ROH – CH(OR)2H +－O －C －RO– OH显然不是由溴的定位效应能引起的。

但如苯上有一个强的邻、对位定位基存在，它的定位效应比溴的定位效应强，使溴进入它的邻、对位，这样溴就会呈间位，而苯环上原来并无此类基团，显然要在合成时首先引入，完成任务后，再把它去掉，恰好氨基能完成这样的任务，因为它是一个强的邻、对位定位基，它可如下引入:– H → – NO 2 → – NH 2 ，同时氨基也容易去掉：– NH 2 → – N +2 → – H 因此，它的合成路线是：根据导向基团的目的不同，可分为下列几种情况： 1、致活导向可以用 但这种方法产率低，因为丙酮两个甲基活性一样，会有副反应发生：但在丙酮的一个甲基上导入一个致活基团，使两个甲基上的氢的活性有显着差别，这可用一个乙酯基（–COOC 2H 5）导入丙酮的一个甲基上，则这个甲基的氢有较大的活性，使这个碳成为苄基溴进攻的部位，因此，利用乙酰乙酸乙酯而不用丙酮，完成任务后，把乙酯基水解成羧基，利用β– 酮酸易于脱羧的特性将导向基去掉，于是得出合成路线为：2、致钝导向活化可以导向，有时致钝也能导向，如合成氨基是很强的邻、对位定位基，进行取代反应时容易生成多元取代物：如只在苯胺环上的氨基的对位引入一个溴，必须将氨基的活性降低，这可通过乙酰化反应来达到，同时乙酰氨基是一个邻、对位定位基，而此情况下对位产物是主要产物：3、利用封闭特定位置来导向例如合成 ，用苯胺为起始原料，用混酸硝化，一方面苯胺易被一方面，苯胺与硫酸还会生成硫酸盐，而 是一个间位定位基，硝化时得到H 2N Br NH 2+ Br 2NH 2Br Br Br NH 2 BrNHCOCH 3BrBr 2 H 2O3 NH 22– NH 3SO 4HOC 6H 5O+ C 6H 5BrOC 6H 5C 6H 5 BrO COOC 2H 2H 5 C 6H 5O COOC 2H 56H 5NH 2NO 2OC 6H 5 C 6H 5 Br碱C 6H 5 C 6H 5 O，所以苯胺硝化时，要把苯胺乙酰化后，再硝化。

第十章氨基羟基的保护与脱保护

第十章氨基羟基的保护与脱保护

酰胺化法
将羧酸与胺反应，生成酰胺类化合物。酰胺化反 应可以在酸性或碱性条件下进行，常用的酰胺化 试剂有氯化铵、硫酸铵等。
酰卤法
将羧酸与卤素反应，生成酰卤类化合物。酰卤反 应通常在碱性条件下进行，常用的卤素试剂有氯 气、溴素等。
羧基脱保护方法
酯的水解
在酸性或碱性条件下，酯类化合物可以发生水解反应，生成相应的 羧酸和醇。常用的水解试剂有氢氧化钠、氢氧化钾等。
使用还原剂进行脱保护
在三苯甲基硫醚中加入还原剂，如氢化铝锂或硼氢化钠，可使三苯甲基硫醚分解为硫醇和苯。这种方 法适用于对酸敏感的硫醚，且反应条件温和，产率较高。
硫醇保护反应实例
硫醇与三苯甲基氯的反应
以吡啶为溶剂，将硫醇与三苯甲基氯在 室温下搅拌反应数小时，然后用水淬灭 反应，用乙酸乙酯萃取，经干燥、浓缩 后得到三苯
以甲醇为溶剂，将硫醇与二硫化物在碱性 条件下搅拌反应数小时，然后用水淬灭反 应，用乙酸乙酯萃取，经干燥、浓缩后得 到硫醚。
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醛酮保护与脱保护
醛酮保护方法
缩醛（酮）法
利用醇与醛酮在酸性条件下形成缩醛（酮） 的反应，保护羰基。
烯胺法
醛酮与仲胺反应生成烯胺，从而保护羰基。
肟法
酰胺的水解
酰胺类化合物在酸性或碱性条件下也可以发生水解反应，生成相应 的羧酸和胺。常用的水解试剂有盐酸、硫酸等。
酰卤的还原
酰卤类化合物可以通过还原反应脱去卤素，生成相应的羧酸。常用 的还原试剂有氢气、氢化铝锂等。
羧基保护反应实例
乙酸乙酯的制备
将乙酸与乙醇在硫酸催化下加热反应，生成乙酸乙酯和水。该反应为典型的酯化反应， 用于保护乙酸的羧基。
氨基保护反应实例
酰胺化反应实例
以苯甲酰氯和氨为例，在碱性条 件下反应生成苯甲酰胺，实现氨 基的保护。