第五篇_基团保护

锂化合物的全部反应。反应完毕，l，3-二噻环己烷化合物可在
高汞离子存在下用酸水解，变为羰基化合物。
43
例3 合成
44
例4 合成
45
例5 合成
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5.5 羧基常用的保护
形成羧酸酯的形式被保护，
常用甲酯、乙酯、叔丁酯或苄酯。
叔丁酯用酸除去，苄酯用氢解法除去。 还可用酰胺和酰肼来保护羧基 。
甲酯和乙酯可以用羧酸直接与甲醇或乙醇发生酯化反应制得，又 可以被碱水解。 叔丁酯可由羧酸先变为酰氯，再与叔丁醇作用，或者通过羧酸与 异丁烯直接作用而得。它不能氢解，在通常条件下也不被氨解及 碱催化水解 。 苯甲酯可由羧酸与苯甲基卤在碱性条件下反应而得。它除了可在 强酸性或碱性条件下水解，还可以被氢解 。
2-叔丁氧羰基氧亚胺基苯乙腈
N O O N
23
O
NH2 COOH
Boc 2O NaOH, t -BuOH, H 2 O 78%
NH2.HCl HO COOMe
Boc2 O Et3 N 95% HO
NHB
C
H N Boc 2O HN O DMAP, Et N
24
B
N Boc
N
常用脱保护剂：三氟乙酸/CH2Cl2、HF/H2O
25
2、苄氧羰基（Cbz或Z） • 常用保护试剂：苄氧甲酰氯（CbzCl） • 常用脱保护剂：催化氢解、锂氨还原
26
27
3、 9-芴甲氧基羰基（Fmoc）：常用于多肽合成 常用保护试剂：Fmoc-Cl(9-fluorenylmethoxycarbonyl-Cl) 常用脱保护剂：NH3, Et2NH(DEA), 哌啶(六氢吡啶) ，吗啡啉
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5.1.3 生成烷基醚保护基

要点二
详细描述
在有机合成中，酮是一种常见的反应物和产物，但它的羰 基容易受到氧化和还原等反应的影响。为了保护酮的羰基 ，可以使用各种保护基团，如甲氧羰基、乙氧羰基、丙氧 羰基等。这些保护基团可以与酮形成稳定的化学键，从而 避免酮参与不必要的反应。
THANKS
谢谢
详细描述
在有机合成中，羧酸是一种常见的反应物和产物，但它的羧基容易受到脱羧和氧化等反应的影响。为了保护羧酸 ，可以使用各种保护基团，如甲酯、乙酯、丙酯等。这些保护基团可以与羧酸形成稳定的化学键，从而避免羧酸 参与不必要的反应。
醛基保护基团的应用实例
总结词
醛基保护基团能够保护醛免受氧化和还原等反应的影响。
保护。
硅氧基
如三甲基硅氧基，常用 于醇的保护，易于脱去
。
磷酸酯基
如磷酸三乙酯、磷酸三 丁酯等，适用于醇的保
护，并可耐强酸。
氨基保护基团
乙酰基
常用于伯胺的保护。
苯磺酰基
适用于仲胺和叔胺的保护，可 在酸性条件下脱去。
甲磺酰基
适用于仲胺的保护，可在酸性 条件下脱去。
丙酮肟基
适用于伯胺的保护，可在酸性 条件下脱去。
羧基保护基团
甲酯基
常用于羧酸的保护，可在碱性条件下脱去。
苯甲酯基
适用于不活泼羧酸的保护，可在碱性条件下 脱去。
乙酯基
适用于羧酸的保护，可在碱性条件下脱去。
氨基甲酸酯基
适用于羧酸的保护，可在酸性或碱性条件下 脱去。
醛基保护基团
烯丙基
常用于醛的保护。
苯甲酰基
适用于醛的保护，可在酸性条件下脱 去。
乙酰基
亲核加成反应
在形成氮-保护基团时，通常发 生亲核加成反应，即试剂进攻有 机物中的硝基、磺酸酯等基团，

HO MeO
SS RH
NH2 CH(SEt)2 N
O
FeCl3. 6H2O
CH2Cl2, r. t./15min
HO MeO
CeCl3 7H.2O, NaI
MeCN/reflux 3~5h
R= aryl, alkyl, alkenyl
O RH
5 examples 83%~93%
NH
N O
75%~85%
①O N
Me3Si O
② NH3/MeOH
H3C CH3 O
TFA/CHCl3
H3C
O NHR
H
+ CO2 + RNH3
HO
HO
O
HO
H2N N
O
HN O
53%
O PhCH2O NHR
HBr/AcOH
H2 Pd-C
C6H5CH2Br + CO2 + RNH2 C6H5CH3 + CO2 + RNH2
CN CN
浓NaOH/H2O H3C
50 oC
Ar
O
99%
7.1 基团的保护和去保护
7.1.3 氨基的保护
;
缩写
Tfac
保护基 结构式
O F3C NHR
Boc(t-Box)
H3C CH3 O H3C O NHR
Tceoc Cbz(“Z”) Phth
O Cl3C O NHR
O C6H5CH2O NHR
O
CHO
Ti4+ mont HO(CH2)2OH
O
toluene/reflux, 1h
OO O
O 91%
O

基团保护及其在有机合成中的作用
基团保护是有机合成中的一种重要技术，它可以有效地保护有机物质的活性基团，从而使
其不受其他反应的影响，从而实现有机合成反应的有效性。

基团保护的原理是，在有机合成反应中，将活性基团（如羟基、羧基、氨基等）与一种保护基团（如甲基、乙基、乙氧基等）结合，形成一种新的保护基团，从而使活性基团不受其他反应的影响，从而实现有机合成反应的有效性。

基团保护在有机合成中的作用是非常重要的，它可以有效地保护有机物质的活性基团，从
而使其不受其他反应的影响，从而实现有机合成反应的有效性。

例如，在有机合成中，可
以使用基团保护技术，将羟基保护成甲基羟基，从而使其不受水的影响，从而实现有机合
成反应的有效性。

此外，基团保护还可以用于控制有机合成反应的速度，从而改变有机合成反应的产物组成。

例如，在有机合成中，可以使用基团保护技术，将羟基保护成甲基羟基，从而改变有机合
成反应的速度，从而改变有机合成反应的产物组成。

总之，基团保护是有机合成中的一种重要技术，它可以有效地保护有机物质的活性基团，从而使其不受其他反应的影响，从而实现有机合成反应的有效性，并可以用于控制有机合
成反应的速度，从而改变有机合成反应的产物组成。

因此，基团保护在有机合成中具有重
要的作用。