基团保护
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12.4 基团的保护(P209)保护基应满足下列3点要求(李209):(1) 保护基在温和条件下容易引入所要保护的分子。
(2) 保护基与被保护基形成的结构能够经受住保护阶段所发生的反应的条件,而不起反应。
(3) 保护基易于在温和条件下除去,即可以在不损及分子其余部分的条件下除去,而且对反应物分子不起其他作用(如不会因空间效应而引起立体结构的变化)。
一、羟基的保护醇与酚都容易被氧化、烷基化和酰基化(酚羟基使苯环易于氧化)。
但有不同,仲醇和叔醇常易脱水,有时要加以阻止。
保护醇类ROH 的方法一般是将羟基制成醚类ROR ′或酯类ROCOR ′,前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。
这是羟基保护的主要方法。
(一)形成甲醚类(讲)先用碱脱去羟基的质子,再与合成子+CH 3作用,如使用试剂NaH /(CH 3)2SO 4、CH 3I/OH -或(CH 3)2SO 4/OH -。
ROH ROCH 3333对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。
C 6H 5OH C 6H 5OCH 3C 6H 5OH CH 3I 或(CH 3)2SO 4-HI对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。
(二)形成混合型缩醛⑴ 四氢吡喃醚ROTHP (Tetrahydropyranyl )(讲)制备时,使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。
对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱、金属氢化物稳定。
(前讲义)ROH O ,TsOH,Et O ROH +2欲恢复到醇类,则在酸性水溶液中进行水解,即可脱去保护基团。
(三)形成乙酸酯类(ROCOCH 3)用乙酐在吡啶中将一级、二级醇转变为乙酸酯,吡啶是用来吸收生成的乙酸(巨167):ROH ROCOCH 3K 2CO 3溶液(CH 3CO)2O 吡啶-CH 3OH ROH二、二醇的保护三、羰基的保护 最重要的是形成缩醛和缩酮。
缩醛和缩酮的保护基不与碱、氧化试剂或亲核试剂(如H -,RMgBr)作用,而通常以酸水解回复到羰基。
基团保护方法
以下是 8 条关于基团保护方法的内容:
1. 嘿,你知道吗,有一种基团保护方法叫酯化保护!就像给基团穿上一件坚固的盔甲。
比如在合成复杂分子时,为了不让某个基团捣乱,我们就可以把它变成酯呀。
这多神奇!
2. 哇塞,还有醚化保护呢!这就好比给基团罩上一个保护罩。
举个例子,在一些反应里,我们把基团醚化,让它乖乖待着,不影响我们想要的反应进行。
3. 听我说呀,酰胺化保护也很厉害哟!就如同给基团找了个安全的小窝。
比如说,特定情况下,把基团变成酰胺,它就安稳啦。
4. 嘿呀,你晓得不,硅烷化保护超有用的呀!它简直是基团的超级保镖。
就像在某些精细合成中,用硅烷化给基团提供强大保护。
5. 哇哦,苄基化保护可是不能小瞧的呢!这就好像给基团围了一道篱笆。
想想看,特定反应需要的时候,苄基化保护能发挥大作用呢。
6. 咦,酰基化保护也很棒呀!它像是给基团戴上了一顶特别的帽子。
比如在某些合成路线里,酰基化保护让反应顺顺利利的。
7. 嘿,还有烷氧基甲基化保护呢!这不就是给基团安排了一个专属房间嘛。
在一些复杂反应体系中,这种保护方法太实用啦。
8. 哎呀呀,卤代保护也不容忽视啊!简直是基团的秘密武器。
像在一些情况下,卤代一下,起到的保护作用可大着呢!总之,基团保护方法多种多样,各有各的神奇之处,我们可得好好掌握呀!。
有机合成中的保护基团在有机化学合成中,保护基团是一种重要的工具,用于保护化合物中的特定官能团或功能基团,以防止其在反应条件下发生不必要的变化或分解。
通过使用适当的保护基团,有机化学家能够实现高选择性和高收率的合成反应,从而有效地构建复杂的有机分子。
本文将介绍一些常见的保护基团及其在合成过程中的应用。
一、醇的保护基团1. 苄基(Bn)- 苄基是最常用的醇保护基团之一,它通过醇和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易地被去除,因此是一个理想的保护基团。
它广泛应用于糖类、多羟基醇和其他含醇化合物的合成中。
2. 丙二酰基(Ac)- 丙二酰基是另一种常用的醇保护基团。
丙二酰基化反应通常在醇和丙酰氯或丙二酸酐的存在下进行。
这个保护基团可以在碱性和酸性条件下容易去除,适用于多数醇类化合物的保护。
二、羧酸的保护基团1. 甲酯基(MeO)- 甲酯基是最常用的羧酸保护基团,在碱性或酸性条件下都可以容易去除。
甲酯化反应通常在酸催化下进行,可以实现选择性地保护羧酸基。
2. 苄基(Bn)- 苄基也可以用作羧酸的保护基团,它通过羧酸和苄溴化物反应制备。
苄基保护基团在碱性条件下容易去除,适用于一些特殊的有机合成反应。
三、胺的保护基团1. 丙酰胺基(AcNH)- 丙酰胺基是最常用的胺保护基团之一。
它通过胺和丙酰氯反应制备,可以在酸性条件下容易去除。
丙酰胺基在多肽合成和其他涉及胺基反应的有机合成中广泛应用。
2. 苄基(Bn)- 苄基也可以用作胺的保护基团,它通常通过胺和苄溴化物反应制备。
苄基在碱性条件下可以容易去除,适用于一些特殊的有机合成反应。
四、醛和酮的保护基团1. 乙二醇基(EG)- 乙二醇基是最常用的醛和酮的保护基团,它通过醛或酮和乙二醇反应制备。
乙二醇基在酸性条件下可以容易去除,适用于多数醛酮化合物的保护。
2. 氧代硅基(Si OR)- 氧代硅基是另一种常用的醛和酮保护基团,通过醛或酮和硅醇反应制备。
氧代硅基在酸性条件下可以容易去除,并可以通过适当的硅硫化剂在碱性条件下去除。
有机合成中的基团保护在有机合成中,某些不希望起反应的官能团,在反应试剂或反应条件的影响下而产生副反应,这样就不能达到预计的合成目标,因此,必须采取措施保护某些官能团,待完成反应后再除去保护基,使其复原。
1、保护措施必须符合如下要求①只对要保护的基团发生反应,而对其它基团不反应;②反应较易进行,精制容易;③保护基易脱除,在除去保护基时,不影响其它基团。
2、常见的基团保护措施①羟基的保护在进行氧化或某些在碱性条件下进行的反应,往往要对羟基进行保护。
a.防止羟基受碱的影响,可用成醚反应。
b.防止羟基氧化可用酯化反应。
②对羧基的保护羧基在高温或碱性条件下,有时也需要保护。
对羧基的保护最常用的是酯化反应。
③对不饱和碳碳键的保护碳碳双键易被氧化,对它们的保护主要用加成反应使之达到饱和。
;④对羰基的保护(以信息题出现)羰基,特别是醛基,在进行氧化反应或遇碱时,往往要进行保护。
对羰基的保护一般采用生成缩醛或缩酮的反应。
(缩醛或缩酮)(缩酮)生成的缩醛或缩酮水解又变成原来的醛或酮。
3、题例解析例1、已知下列信息:①烯键在一定条件下氧化可生成二元醇:②醛能发生如下反应生成缩醛:缩醛比较稳定,与稀碱和氧化剂均难起反应,但在稀酸中温热,会水解为原来的醛。
现有如下合成路线:试回答下列问题:(1)写出A、B的结构简式:________、________。
(2)写出反应Ⅲ的化学方程式:________。
解析:由题给信息知,欲使CH2=CH—CHO变为CH2OH—CHOH—CHO,需将C=C双键氧化,而—CHO对氧化剂敏感,故应先进行保护,待C=C双键氧化完毕,再将醛基还原出来,故合成路线为:答案:(1)A:CH2=CH=CH(OC2H5)2 B:CH2OH—CHOH—CH(OC2H5)(2)CH2OH—CHOH—CH(OC2H5) CH2OH—CHOH—CHO+2C2H5OH例2、已知胺(R—NH2)具有下列性质:−R—NHCOCH3+CH3COOH(Ⅰ)R—NH2+(CH3CO)2O−→−R—NH2+CH3COOH(Ⅱ)R—NHCOCH3+H2O−→硝基苯胺是重要的化工原料,其合成路线如下:(1)a、c、e分别为________。
12.4 基团的保护(P209)保护基应满足下列3点要求(李209):(1) 保护基在温和条件下容易引入所要保护的分子。
(2) 保护基与被保护基形成的结构能够经受住保护阶段所发生的反应的条件,而不起反应。
(3) 保护基易于在温和条件下除去,即可以在不损及分子其余部分的条件下除去,而且对反应物分子不起其他作用(如不会因空间效应而引起立体结构的变化)。
一、羟基的保护醇与酚都容易被氧化、烷基化和酰基化(酚羟基使苯环易于氧化)。
但有不同,仲醇和叔醇常易脱水,有时要加以阻止。
保护醇类ROH 的方法一般是将羟基制成醚类ROR ′或酯类ROCOR ′,前者对氧化剂或还原剂都有相当的稳定性。
这是羟基保护的主要方法。
(一)形成甲醚类(讲)先用碱脱去羟基的质子,再与合成子+CH 3作用,如使用试剂NaH /(CH 3)2SO 4、CH 3I/OH -或(CH 3)2SO 4/OH -。
ROH ROCH 3333对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。
C 6H 5OH C 6H 5OCH 3C 6H 5OH CH 3I 或(CH 3)2SO 4-HI对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱稳定。
(二)形成混合型缩醛⑴ 四氢吡喃醚ROTHP (Tetrahydropyranyl )(讲)制备时,使用二氢吡喃与醇类在酸催化下进行加成作用。
对RMgX 、LiAlH 4、CrO 3、碱、金属氢化物稳定。
(前讲义)ROH O ,TsOH,Et O ROH +2欲恢复到醇类,则在酸性水溶液中进行水解,即可脱去保护基团。
(三)形成乙酸酯类(ROCOCH 3)用乙酐在吡啶中将一级、二级醇转变为乙酸酯,吡啶是用来吸收生成的乙酸(巨167):ROH ROCOCH 3K 2CO 3溶液(CH 3CO)2O 吡啶-CH 3OH ROH二、二醇的保护三、羰基的保护 最重要的是形成缩醛和缩酮。
缩醛和缩酮的保护基不与碱、氧化试剂或亲核试剂(如H -,RMgBr)作用,而通常以酸水解回复到羰基。
保护基团方法大全Protecting Groups in Organic Synthesis选择保护基的原则:(1) 保护基的供应来源,包括经济程度。
(2) 保护基团必须能容易进行保护,且保护效率高。
(3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性,如保护中忌讳产生新的手性中心。
(4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应和后处理过程。
(5) 保护基以后的化合物对分离、纯化、各种层析技术要稳定。
(6) 保护基团在高度专一的条件下能选择性、高效率地被除去。
(7) 去保护过程的副产物和产物能容易被分离。
呼之即来,挥之即去。
呼之即来,挥之即去。
切莫请神容易,送神难。
切莫请神容易,送神难。
羟基的保护基1). 酯类保护基 t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.OH HO OH OHPivCl (1eq) Py-CH2Cl2 0-25 oCHOOO90% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453酯类保护基的除去(cleavage) 碱性条件下水解,水解能力:t-BuCO(Piv) < PhCO < MeCO < ClCH2CO 常用的碱:K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系,如KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3OTBDMS TBDMSO O O OTBDMSDIBAL(2.5eq) CH2Cl2, -78 oCTBDMSOOH95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453ClCH2CO的去除可以用硫脲,氨/甲醇,苯,吡啶水溶液,NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。