水热法生长晶体

水热法在低维人工晶体生长中的应用与发展张　勇　王友法　闫玉华(武汉理工大学生物中心,武汉　430070) 摘　要　水热法是人工晶体生长技术中比较重要的一种方法,是利用高温、高压水溶液使得通常难溶或者不溶的物质溶解和重结晶。

随着科学技术的发展,人工晶体越来越向低维化方向发展,本文在介绍水热法晶体生长特点和基本生长设备的基础上,重点介绍了一下水热法在生长纳米晶粒及针状晶体等低维化人工晶体的应用与发展。

关键词　水热法　人工晶体　针状晶体　纳米晶粒作者简介:张勇(1977～),男,硕士研究生.主要从事生物医用材料的研究.1　前言当今,在高新技术材料领域中,人工晶体作为一种特种功能材料,在材料、光学、光电子、医疗生物领域有着广泛的应用。

而且凝固态物理的发展以及高温高压技术的进步有力地推动了人工合成晶体生长技术和理论的全面发展。

用于人工晶体生长的方法有多种,如:物理气相沉积、水热法、低温溶液生长、籽晶提拉、坩埚下降等。

其中水热法晶体生长可以使晶体在非受限的条件下充分生长,可以生长出形态各异、结晶完好的晶体而受到广泛的应用。

因此,水热法可用于生长各种大的人工晶体,制备超细、无团聚或少团聚、结晶完好的微晶[1]。

随着研究和应用技术的发展,目前,大的三维块状晶体已远远不能满足高新技术对材料的要求,人工晶体不断向纤维化和纳米化发展。

大量的SiC ,Al 2O 3晶须用于材料增韧,纳米SrTiO 3,ZnO ,PZT ,BaTiO 3用于电子、半导体器件制造[2,3],羟基磷灰石晶须及纳米粉用于人工替代材料的增韧及显影[4,5],以及这二年光电子通信的高速发展对大量晶体纤维的需求都很大程度上促进了人工晶体低维化的发展。

本文在介绍水热法晶体生长的特点及生长设备的基础上,重点介绍了近几年水热法用于纳米晶粒及晶体纤维的研究进展。

2　水热法晶体生长的特点及其生长设备2.1　水热法及其晶体生长特点水热法,又称热液法。

晶体的热液生长是一种在高温高压下过饱和溶液中进行结晶的方法。

单晶制备方法范文单晶制备是一种重要的晶体制备方法，用于制备高纯度、大尺寸和高质量的单晶材料。

本文将介绍几种常见的单晶制备方法。

1.熔融法熔融法是制备单晶材料最常用的方法之一、该方法首先将原料粉末加入坩埚中，通过加热坩埚使其熔化。

然后，将熔融体缓慢冷却，使其中的原子或分子有足够的时间重新排列成为有序的晶体结构。

最后，通过剖析、切割或溶解等方法得到单晶。

2.水热法水热法是通过在高温高压的水环境中进行晶体生长的方法。

该方法通常使用混合溶液，将试样和溶剂一起装入高压釜中。

随着温度升高和压力增加，试样溶解，晶体逐渐从溶液中生长。

通过控制温度、压力和溶液成分，可以实现单晶的生长。

3.气相输运法气相输运法是通过在高温气氛中使试样在晶界和界面扩散的方法。

首先，将原料制成粉末，然后将粉末放入烧结体中，在高温下加热。

粉末在高温气氛中扩散，形成晶体生长的条件。

最终得到单晶。

4.化学气相沉积法化学气相沉积法是通过在合适的气氛中，使气态反应物沉积到衬底表面上形成单晶的方法。

该方法通常使用低温和大气压或低气压条件下进行。

通常先将衬底加热到合适的温度，然后通过输送反应气体，使气体中的原子或分子在衬底表面沉积，并逐渐形成单晶。

5.溶液法溶液法是通过在适当的溶剂中将试样溶解并逐渐冷却结晶得到单晶的方法。

溶解试样后，通过逐渐控制溶液的温度和溶剂挥发的速度，使溶液中的试样逐渐结晶为单晶。

溶液法适用于生长一些不易用其他方法制备的化合物单晶。

总结单晶制备方法相对复杂，需要仔细选择适合的方法和条件。

除了以上几种常见的方法外，还有其他一些专用的单晶制备方法，例如激光熔融法、分子束外延法等。

单晶制备方法的选择要考虑材料的物化性质、成本和实际需求等因素。

单晶的制备对于材料科学研究和器件制造都具有重要的意义。

水热法晶体生长过程1 水热法晶体生长概述水热法是一种通过在高温高压水环境下溶解物质，利用自身的物理化学性质来形成晶体的方法。

该方法在材料科学、化学、生物学等领域都有广泛应用，因为它可以在温和的条件下控制晶体的生长速度、形态和尺寸等参数，进而制备出具有特定结构和功能的晶体材料。

在水热法晶体生长过程中，晶体生长的速度、形态和质量等方面都受到溶解度、温度、压力、溶液pH值等多种因素的影响。

因此，通过对这些因素的控制，可以有效地调控水热法晶体生长的过程和品质。

2 溶解度和饱和度的影响在水热法晶体生长过程中，溶解度和饱和度是影响晶体生长速度和质量的关键参数。

溶解度是指某一温度和压力下溶液中溶解物质所能达到的最大浓度，它受温度、压力、溶解物质种类和溶剂性质等因素的影响。

当溶解度超过饱和度时，过剩的溶质就会逐渐沉淀出来，形成晶体。

因此，控制饱和度是控制晶体生长速率和品质的重要手段。

3 温度和压力的影响在水热法晶体生长中，温度和压力也是影响晶体生长速率和品质的重要因素。

一般来说，晶体的生长速率随着温度的升高而增加，但是过高的温度也会导致晶体生长速率过快，从而形成不规则的结晶体。

此外，在高温高压的条件下，晶体的生长速率也更快。

因此，在水热法晶体生长中，温度和压力的选择需要根据溶液的物理性质和晶体的特性来进行合理的控制。

4 PH值的影响在水热法晶体生长中，溶液的pH值也是影响晶体生长速率和形态的关键因素。

当pH值过低或过高时，晶体生长过程会受到不良影响。

酸性溶液会导致晶体生长速度过慢和溶解度下降，碱性溶液则会导致晶体形态不规则和晶体生长速率过快。

因此，选择合适的缓冲剂、调整溶液pH值是控制水热法晶体生长的重要手段之一。

5 结论通过对水热法晶体生长过程中影响晶体生长速率和品质的因素进行全面掌握和研究，可以在实际生产中进行优化和控制，进而制备出具有特定结构和功能的晶体材料。

此外，对于水热法晶体生长技术的创新和发展也将有助于解决许多科学和工程领域的相关问题。

水热法生长晶体新发展姓名：孙帆学号：21101711041摘要：在本篇论文中讲述了水热法晶体生长的基本原理以及水热法应用的最新发展。

水热法在发展中出现了许多新方法，有微波水热法、水热晶化法、水热沉淀法以及其他的一些方法，并且利用这些方法，一些研究者做了一系列的实验并取得了一些成果。

关键词：水热法微波水热法水热晶化法水热沉淀法在现在的高科技领域中，人工晶体作为一种功能材料被广泛用于光学、医疗生物、光电子等领域。

而用于生长晶体的方法多种多样，例如水热法，这是在高温高压下从饱和热水溶液中培养晶体的方法；还有提拉法，是一种直接从熔体中拉出单晶的方法；焰熔法也是晶体生长的一种方法，它是用氢氧火焰熔化粉料并使之结净的方法。

此外还有物理气相沉淀、低温溶液生长、坩埚下降等各种方法，都能够使得晶体生长。

其中水热法晶体生长可以使晶体在非受限的条件下充分生长，能够长出各种形态的、结晶完好的晶体，从而水热法得到了广泛的应用。

1 水热法晶体生长的基本原理水热法又称为水热反应法，它是以水为反应介质，在高压釜内高温高压条件下进行化学反应来制备所需要的晶体的一种方法。

用水热法得到的晶体位错密度较低，可以生长出极少缺陷、去想好、完美的晶体，并且能够合成与开发一系列特种介稳结构、特种凝聚态的新合成产物，此外，水热法晶体具体有较快的生长速率等等优点。

水热法的实质就是一种相变过程，也就是说生长基元从周围环境中不断的通过界面而进入晶格座位的过程，水热条件下的晶体生长是在密闭很好的高温高压水溶液中进行的。

利用釜内上下部分的溶液之间存在的温度差，使釜内溶液产生强烈对流，从而将高温区的饱和溶液放入带有籽晶的低温区，形成过饱和溶液。

水热条件下晶体生长包括以下几个步骤：（1）营养料在水热介质中溶解，以离子、分子团的形式进入溶液（溶解阶段）；（2）由于体系中存在十分有效的热对流及溶解区和生长区之间的浓度差，这些离子、分子或离子团被输运到生长区（输运阶段）；（3）离子、分子或离子团在生长界面上的吸附、分解与脱附；（4）吸附物质在界面上的运动；（5）结晶（（3），（4），（5）统称为结晶阶段）。

水热法生长晶体新发展姓名：孙帆学号：041摘要：在本篇论文中讲述了水热法晶体生长的基本原理以及水热法应用的最新发展。

水热法在发展中出现了许多新方法，有微波水热法、水热晶化法、水热沉淀法以及其他的一些方法，并且利用这些方法，一些研究者做了一系列的实验并取得了一些成果。

关键词：水热法微波水热法水热晶化法水热沉淀法在现在的高科技领域中，人工晶体作为一种功能材料被广泛用于光学、医疗生物、光电子等领域。

而用于生长晶体的方法多种多样，例如水热法，这是在高温高压下从饱和热水溶液中培养晶体的方法；还有提拉法，是一种直接从熔体中拉出单晶的方法；焰熔法也是晶体生长的一种方法，它是用氢氧火焰熔化粉料并使之结净的方法。

此外还有物理气相沉淀、低温溶液生长、坩埚下降等各种方法，都能够使得晶体生长。

其中水热法晶体生长可以使晶体在非受限的条件下充分生长，能够长出各种形态的、结晶完好的晶体，从而水热法得到了广泛的应用。

1 水热法晶体生长的基本原理水热法又称为水热反应法，它是以水为反应介质，在高压釜内高温高压条件下进行化学反应来制备所需要的晶体的一种方法。

用水热法得到的晶体位错密度较低，可以生长出极少缺陷、去想好、完美的晶体，并且能够合成与开发一系列特种介稳结构、特种凝聚态的新合成产物，此外，水热法晶体具体有较快的生长速率等等优点。

水热法的实质就是一种相变过程，也就是说生长基元从周围环境中不断的通过界面而进入晶格座位的过程，水热条件下的晶体生长是在密闭很好的高温高压水溶液中进行的。

利用釜内上下部分的溶液之间存在的温度差，使釜内溶液产生强烈对流，从而将高温区的饱和溶液放入带有籽晶的低温区，形成过饱和溶液。

水热条件下晶体生长包括以下几个步骤：（1）营养料在水热介质中溶解，以离子、分子团的形式进入溶液（溶解阶段）；（2）由于体系中存在十分有效的热对流及溶解区和生长区之间的浓度差，这些离子、分子或离子团被输运到生长区（输运阶段）；（3）离子、分子或离子团在生长界面上的吸附、分解与脱附；（4）吸附物质在界面上的运动；（5）结晶（（3），（4），（5）统称为结晶阶段）。

水热法生长ZnO∶Ga晶体过程及性能研究I. 引言A. 研究背景和意义B. 客户需求概述C. 文章结构介绍II. 水热法生长ZnO∶Ga晶体的原理和方法A. 水热法的基本原理B. ZnO∶Ga晶体的结构和性质C. 水热法生长ZnO∶Ga晶体的步骤和条件III. 实验设计和结果分析A. 实验设计流程和方案B. 实验结果分析和研究C. 实验结果的解释和讨论IV. 优化ZnO∶Ga晶体的生长条件和性能A. 水热法生长条件的调节和优化B. ZnO∶Ga晶体性能的测试和分析C. 对实验结果的解释和分析V. 结论A. 结论总结B. 研究的不足和未来方向VI. 参考文献注意：以上提纲中的章节和内容仅供参考，可以根据自己需要进行调整和修改。

I. 引言A. 研究背景和意义随着科技的不断进步，人们对晶体的研究越来越深入。

晶体具有特殊的物理、光学、电学和化学特性，可以应用于太阳能电池、LED、光伏电池、激光器等领域。

其中，ZnO∶Ga晶体是一种非常有潜力的材料，因其光学、光电特性良好而受到广泛关注。

同时，由于其物理性质的特殊性质，ZnO∶Ga晶体在光电领域中有着广泛的应用前景。

因此，研究ZnO∶Ga晶体的生长过程和性质，对于进一步提高其性能，扩大其应用范围具有重要的意义。

B. 客户需求概述为了满足客户需求，研究ZnO∶Ga晶体的生长和性能，此项研究主要包括水热法生长ZnO∶Ga晶体的过程和性能研究。

水热法可以通过调节反应温度、反应时间和反应物物质浓度等条件来控制ZnO∶Ga晶体的形貌和尺寸。

而对于研究ZnO∶Ga晶体的性能，则需要通过对其结构和光电特性等方面进行测试和研究。

基于此，本研究旨在通过水热法生长ZnO∶Ga晶体，探究其结构和性能特点，为其在光电领域的应用提供支持。

C. 文章结构介绍本文共分为六个部分，除了引言，还包括水热法生长ZnO∶Ga晶体的原理和方法、实验设计和结果分析、优化ZnO∶Ga晶体的生长条件和性能、结论和参考文献。

光学晶体的生长和应用光学晶体是一类非常重要的功能材料，它们在电子工业、光学工业、通信工业等多个领域得到了广泛应用。

本文将就光学晶体的生长和应用作一些探讨。

一、光学晶体的生长方法1.1 水热法生长水热法是一种在高压高温下生长晶体的方法。

水热法生长速度快，晶体生长的芯部结构致密，晶面较为光滑。

因此，水热法是目前最为常用的晶体生长方法之一。

水热法生长时，种晶质量对生长速度、晶面质量、直径以及光质量等都有着很大的影响。

1.2 熔融法生长熔融法是指用熔融的晶体原料，在合适的温度梯度下形成的晶体生长方法。

熔融法生长的晶体杂质较少，晶面更为光滑。

熔融法适用于生长一些难以用其它方法生长的晶体。

但是，熔融法生长速度慢，晶体的成本也相对较高。

1.3 气相传输法生长气相传输法，是通过高温气流使晶体原料结晶，从而形成晶体的方法。

气相传输法对晶体的精度要求比较高，需要控制热源和环境的稳定性，不宜大批量生产。

二、光学晶体的应用2.1 光电通讯光学晶体在光电通讯中有着广泛的应用，比如，它们可以作为制造光电调制器和金属-Semiconductor-Metal(MSM)光探测器的材料。

2.2 紫外线透过性设备晶体的光学性质决定它的透过性和折射率，这也使得光学晶体在紫外线透过性设备中有着广泛的应用，比如说，手表玻璃、防晒镜片等。

2.3 激光设备激光设备是目前最为广泛使用光学晶体的领域。

它们可以作为激光晶体控制器的材料，并且在激光切割、激光雕刻以及激光成像等领域得到广泛应用。

2.4 医疗设备在医疗设备中，光学晶体也使用的非常广泛，比如说，它们可以作为制造医用镜片的材料，同时也可以制作医用激光的材料。

三、结语光学晶体的生长和应用是一个庞杂的话题，文章所述仅是其中的冰山一角。

在未来，随着科学技术的不断发展，光学晶体的应用将更加广泛深入。

水热法生长ZnO∶Ga晶体过程及性能研究张一骐;王金亮;任孟德;雷威;左艳彬【摘要】采用水热法于36#水热反应釜中在四种条件下制备了ZnO:Ga晶体,对比了四种参数条件下晶体的生长速度及生长质量,深入分析了过快生长速度工艺下晶体产生微孔的原因.在D工艺条件下(4MKOH +0.25M LiOH+1.25mlH2O2,360-340℃)获得了生长速度适宜、高质量的ZnO:Ga单晶,晶体最大尺寸达到32.36 mm×27.46 mm×5.52 mm.Ga:ZnO晶体的生长习性为形成一个单锥六棱具有显露p锥面即(101-1)和负极面(0001-)的柱体,而柱显露m面(101-0)发生退化.测试ZnO:Ga晶体的双晶摇摆曲线显示晶体具有优良的结晶质量,其中+c[002]晶面的FWHM为11arc sec,而-c晶面的结晶质量略低于+c方向,FWHM为17arc sec.较之纯ZnO晶体,Ga:ZnO晶体在750nm处透过率曲线开始下降,其在大于750nm 波长的可见及红外光区的特异吸收性能将具有广泛的应用前景.【期刊名称】《超硬材料工程》【年(卷),期】2016(028)003【总页数】6页(P57-62)【关键词】ZnO∶Ga;水热法;晶体;过程;性能【作者】张一骐;王金亮;任孟德;雷威;左艳彬【作者单位】中国有色桂林矿产地质研究院有限公司,国家特种矿物材料工程技术研究中心,广西超硬材料重点实验室,广西桂林 541004;桂林理工大学地球科学学院,广西桂林 541006;中国有色桂林矿产地质研究院有限公司,国家特种矿物材料工程技术研究中心,广西超硬材料重点实验室,广西桂林 541004;中国有色桂林矿产地质研究院有限公司,国家特种矿物材料工程技术研究中心,广西超硬材料重点实验室,广西桂林 541004;桂林理工大学地球科学学院,广西桂林 541006;中国有色桂林矿产地质研究院有限公司,国家特种矿物材料工程技术研究中心,广西超硬材料重点实验室,广西桂林 541004【正文语种】中文【中图分类】TQ174氧化锌作为一种重要的金属氧化物半导体陶瓷材料，在光电、压电、气敏等方面的性能和应用受到了相关领域研究人员的广泛关注。

水热法合成单晶的特点
水热法是一种常用的合成单晶材料的方法。

它是利用高温高压
下水溶液的特殊性质来促进晶体生长的过程，具有如下特点。

水热法合成单晶的特点之一是高度的晶体纯度。

由于水热条件
下晶体生长的反应环境是相对封闭的，外界杂质很难进入反应体
系中。

因此，在水热法下合成的单晶晶体中杂质的存在较少，纯
度较高。

水热法合成单晶的特点之二是良好的晶体形态可控性。

在水热
反应中，温度、压力、溶液浓度以及加入的添加剂等因素都会对
晶体生长过程产生影响。

通过控制这些因素，可以实现对单晶晶
体形态的调控，获得具有特定形状和结构的晶体。

水热法合成单晶的特点之三是晶体生长速度较快。

水热反应中，高温和高压能够提供充足的能量，促使晶体快速生长。

相比较其
他合成方法，水热法不仅可以获得较大尺寸的单晶，而且能够在
相对较短的时间内完成晶体生长。

水热法合成单晶的特点之四是适用于多种物质。

水热法对于无
机晶体、有机晶体以及生物晶体的合成均具有一定的适用性。

在
水热反应条件下，许多物质的溶解度都可以得到提高，从而可以
在水相中完成晶体生长过程。

水热法合成单晶的特点包括高纯度、晶体形态可控性、快速生
长速度以及适用性广泛。

这使得水热法成为了制备单晶材料的重
要方法，在材料科学、化学、物理等领域中得到广泛应用。

水热法生长磷酸铁锂单晶及其性质研究摘要橄榄石结构的磷酸铁锂作为一种极为重要的高级锂离子电池正极材料被广泛的应用于高能量，高功率系统例如插入式充电混合电动力汽车（PHEV）[1,2]。

尽管其展现了优秀的特性例如电化学活性，高热稳定性，环境友好等[3-6]，但是电子/离子导电率低的瓶颈仍难以克服，因而很难在高功率器件中推广使用[3,7,8]。

过去的几十年，大量的尝试集中于提高导电性到应用级别，最成功的方法是制备LiFePO4–C复合材料：即将LiFePO4颗粒用碳网包裹，可将体系的导电性能达到LiCoO2的级别。

另外一种已经证明可行的方法就是在LiFePO4晶格的Li（M1）位或Fe(M2)位掺入二价(Mg2+, Mn2+, Ni2+,Cu2+)或超价离子（Al3+, Cr3+, Zr4+, Nb5+），但是直到现在为止对其机理解释仍存在很大争议[9-12]。

制备亚微米或纳米尺度的磷酸亚铁锂被证明可提高电化学性能因为缩短了锂离子与电子的迁移路径，另外减小晶格尺寸也对电极-电解液界面接触尤为重要，可以减少锂离子插入（脱出）晶格的机械应力。

但随之也会出现许多亟待解决的问题，例如磷酸铁锂由于被纳米化了，继而增强他的活性，所以被纳米化的磷酸铁，在磷酸铁锂表面的亚铁离子就很容易被氧化，从而形成了三价的铁离子，这样杂质被引入而且材料失去以往的活性[10-12]。

纳米级的LiFePO4结构中，由于LiFePO4晶格的非高晶化致使不能得到平稳的电压。

在尺寸是是纳米的情况下，LiFePO4生产的批次常常不稳定，不一致。

严重的团聚现象在充放电中经常会出现，纳米级的LiFePO4振实密度很难提高，因而体单晶是很有前景的生长方法。

运用桂林水热法成功制备出了毫米级磷酸铁锂体晶体，单晶呈六棱柱结构或者晶体呈圆形，等长的外观，等大的外表。

通过实验得到毫米级磷酸铁锂晶体的XRD衍射峰谱图，10-40°范围内的主强峰相较于低纬磷酸锂铁材料多出（020）面，说明在晶体生长后期主要由（020）面控制，主要成六棱柱属性终止于（010），（200），（101）这三个表面，这些优势面有望在材料的电化学和表面交换性能中发挥重要作用。

当今，在高新技术材料领域中，人工晶体作为一种特种功能材料，在材料学、光学、光电子、医疗生物领域有着广泛的作用。

用于人工晶体生长的方法有多种，如：物理气相沉淀、水热法、低温溶液生长、籽晶提拉、坩埚下降等。

其中水热法晶体生长可以使晶体在非受限的条件下充分生长，可以长出形态各异、结晶完好的晶体而受到广泛应用。

水热法可用于生长各种大的人工晶体，制备超细、无团聚或少团聚、结晶完好的微晶[1]。

适合生长熔点较高，具有包晶反应或非同成分融化，而在常温下又不溶解各种溶剂或溶解后即分解，不能再结晶的晶体材料。

与其他的合成方法相比，水热法合成的晶体具有纯度高、缺陷少，热应力小质量好等特点。

近年来随着科学技术的不断发展，水热法合成技术得到广泛应用，该技术已成功地应用于人工水晶的合成、陶瓷粉末材料的制备和人工宝石的合成等领域。

1水热法晶体生长的基本原理及影响因素1.1晶体生长的基本原理水热法又称热液法，晶体的热液生长是一种在高温高压下过饱和溶液中进行结晶的方法。

它实质上是一种相变过程，即生长基元从周围环境中不断地通过界面而进入晶格座位的过程，水热条件下的晶体生长是在密闭很好的高温高压水溶液中进行的。

利用釜内上下部分的溶液之间存在的温度差，使釜内溶液产生强烈对流，从而将高温区的饱和溶液放入带有籽晶的低温区，形成过饱和溶液。

根据经典的晶体生长理论，水热条件下晶体生长包括以下步骤：（1）营养料在水热介质里溶解，以离子、分子团的形式进入溶液（溶解阶段）；（2）由于体系中存在十分有效的热对流及溶解区和生长之间的浓度差，这些离子、分子或离子团被输运到生长区（输运阶段）；（3）离子、分子或离子团在生长界面上吸附、分解与脱附；（4）吸附物质在界面上的运动；（5）结晶（3、4、5统称为结晶阶段）。

同时利用水热法生长人工晶体时由于采用的主要是溶解—再结晶机理，因此用于晶体生长的各种化合物在水溶液中的溶解度是采用水热法进行晶体生长时必须首先考虑的。

第三章水热法生长宝石晶体与鉴别☐一、水热法生长宝石晶体概述☐二、影响宝石晶体生长的因素☐三、水热法生长水晶、红宝石、祖母绿、海蓝宝石晶体☐四、水热法生长宝石晶体的鉴别一、水热法生长宝石晶体概述☐1、定义水热法也称热液法，是在密封的高压容器内，从水溶液中生长出晶体的方法，在一定程度上再现了地下热液矿床矿物结晶的过程。

☐2、原理是利用高温高压的水溶液使那些在大气条件下不溶或难溶的物质溶解，或反应生成该物质的溶解产物，通过控制高压釜内溶液的温差使产生对流以形成过饱和状态而析出生长晶体的方法。

3、水热法宝石晶体生长的分类☐（1）等温法等温法主要利用物质的溶解度差异来生产晶体。

所用原料为亚稳定相物质，籽晶为稳定相物质。

高压釜内上、下无温差，是这一方法的特色。

此法的缺点是无法生长出晶形完整的大晶体。

（2）摆动法摆动法的装置由A、B两个圆筒组成，其中A筒放置培养液，B筒放置籽晶，两筒间保持一定的温度差。

定时地摆动A、B两个圆筒以加速它们之间的对流，利用两筒之间的温差在高压环境下生长出晶体，此法也曾用于水晶的生长。

（3）温差法温差法是在立式高压釜内生产晶体，高压釜内部的对流挡板将釜腔分成上、下两部分，籽晶挂在生长区的培育架上，晶体在籽晶上逐步生长；对流挡板的下部为培养料区(也称溶解区)，溶解区内放人适量的高纯度原料和矿化剂。

加热，使高压釜的上、下部分形成一定的温差。

4、水热法宝石晶体生长所需的设备☐水热法宝石晶体生长所需的基本设备有：高压釜、炉子、热电偶、温度控制器和温度记录器。

高压釜☐高压釜为可承高温高压的钢制釜体。

一般可承受1100oC的温度和109Pa的压力，具有可靠的密封系统和防爆装置。

由于内部要装酸、碱性的强腐蚀性溶液，当温度和压力较高时，在高压釜内要装有耐腐蚀的贵金属内衬，如铂金或黄金内衬，以防与釜体材料发生反应。

也可利用在晶体生长过程中釜壁上自然形成的保护层来防止进一步的腐蚀和污染。

5、水热法生长宝石晶体的优缺点☐（1）优点a、能够生长存在相变(如a石英等)和在接近熔点时蒸汽压高的材料(如ZnO)或要分解的材料(如V02)。