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第12卷 第3期强激光与粒子束V o l .12,N o .3 2000年6月H IGH POW ER LA SER AND PA R T I CL E B EAM S Jun .,2000 文章编号: 1001—4322(2000)03—0285—04超高阈值P ick -off 反射镜的研制Ξ 付雄鹰, 王建永, 丁 俊, 刘民才 范正修 (成都精密光学工程研究中心,成都610041) (中国科学院上海光机所,上海201800) 摘 要: 采用水中抛光技术抛制了90mm ×60mm ×10mm 的K 9玻璃基片,表面粗糙度达1nm 。
在A PS 1504镀膜机上,摸索了电子束蒸发镀膜的最佳工艺条件,较稳定地在该超光滑玻璃表面上镀制了对波长1054nm 、入射角45°、反射率R ≥99.5%的反射膜。
膜层的抗激光损伤阈值可达26J c m 2(1054nm ,1n s ),镀膜后该玻璃基片反射波前可达Κ 10(p 2v ),最终制备了超高阈值p ick 2off 反射镜。
关键词: 激光损伤阈值; 反射波前; p ick 2off 反射镜; 电子束蒸发; 水中抛光 中图分类号: TN 24 文献标识码: A 随着高功率激光器对输出功率的要求越来越高,同时要求器件的小型化,这显然将光学元器件承受的激光能量密度逐渐推向极限。
特别是对激光薄膜的要求更亦如此,如美国LLNL 将建造的N IF 激光器,对装置中部分大口径的反射元件要求抗激光损伤阈值大于18J c m 2(1054nm ,3n s ),对薄膜偏振分光镜要求阈值大于18J c m 2(1054nm ,3n s ),对一些透镜要求阈值大于30J c m 2(1054nm ,3n s )[1]。
我国将建造的“神光 ”激光器,对部分小口径的反射元件要求阈值大于30J c m 2(1054nm ,1n s ),如多程放大器系统中的p ick 2off 反射镜。
大尺寸反射镜高精度光学镜面Ni-P过渡层的制备方法姜伟;董慧;张云琨;王立波;张忠玉【期刊名称】《纳米技术与精密工程》【年(卷),期】2009(007)001【摘要】为了解决高精度光学系统中铝合金、铍反射镜易钝化、难加工的问题,采用自催化镍-磷合金作为过渡层后进行抛光的方法得到了高精度光学镜面.采用该方法所得到的镍-磷合金过渡层厚度为85 μm,磷质量分数为11.88%,镀层显微硬度为730 MPa.镍-磷合金过渡层与反射镜结合牢固、耐蚀性较好,可通过±200℃热震试验及96 h中性盐雾试验检测,适用于进行古典法抛光.经抛光后反射镜面形精度均方根值(RMS)为0.049λ(面形检测波长λ为0.6328μm),表面疵病等级为Ⅳ级,能够满足光学系统的要求.【总页数】6页(P41-46)【作者】姜伟;董慧;张云琨;王立波;张忠玉【作者单位】中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130031;中国科学院研究生院,北京,100049;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130031;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130031;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130031;中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春,130031【正文语种】中文【中图分类】TG178【相关文献】1.大尺寸椭圆凹曲面反射镜镜面加工技术的研究 [J], 孟平原;郑红云;王勇;程远2.光学自由曲面反射镜模芯的镜面成型磨削 [J], 谢晋;阮兆武3.应用于红外光学系统的铝合金反射镜面型变形研究 [J], 项建胜;潘国庆;孟卫华4.星载激光通信光学反射镜镜面热变形及其对光学系统影响的研究 [J], 张华;李晓峰;杨文淑5.条纹反射法检测光学反射镜面形 [J], 袁婷;张峰;陶小平;周润;付锦江因版权原因，仅展示原文概要，查看原文内容请购买。
铜抛光工艺嘿，咱今儿就来聊聊铜抛光工艺！你可别小瞧了这玩意儿，它就像是给铜制品施了一场魔法，能让它们瞬间变得亮晶晶、光彩照人呢！想象一下，一块原本黯淡无光的铜块，经过一系列的操作，就如同灰姑娘穿上了水晶鞋，一下子变得耀眼夺目。
铜抛光工艺可不简单哦，它需要各种技巧和耐心呢。
首先，得准备好各种工具和材料，就像战士上战场得拿好自己的武器一样。
有合适的抛光膏、抛光轮，当然还少不了一双灵巧的手。
然后，就可以开始动手啦！把铜制品放在抛光轮上，轻轻转动，就好像在给它做按摩一样。
看着铜表面的那些小瑕疵、小划痕一点点消失，心里那叫一个爽啊！这感觉就像看着自己精心培育的花朵慢慢绽放一样。
不过，这过程可得小心哦，不能太用力，不然可能会把铜给弄伤了。
这就跟咱待人接物一样，得温柔点儿，不然容易把事情搞砸啦。
而且，不同的铜制品可能需要不同的抛光方法和力度呢，得根据实际情况来调整。
在抛光的时候，还会有一些小细节要注意呢。
比如要保持工作环境的干净整洁，不能有灰尘啥的捣乱，不然会影响抛光效果哦。
这就好比咱出门得打扮得干干净净、利利索索的，不能邋里邋遢呀。
有时候，可能一次抛光还不够，还得反复几次，就像画画一样，得一层一层地上色，才能让颜色更加鲜艳、持久。
这需要我们有足够的耐心和毅力呢。
经过一番努力，当看到那光滑如镜、闪闪发光的铜制品摆在面前时，那种成就感简直爆棚啊！就好像自己创造了一件艺术品一样。
这就是铜抛光工艺的魅力呀，它能让普通的铜变得不普通，能让我们感受到创造美好的乐趣。
所以啊，别小看了这小小的铜抛光工艺，它里面可蕴含着大大的学问呢！它能让我们的生活变得更加多姿多彩，能让那些原本普通的铜制品焕发出新的光彩。
怎么样，是不是对铜抛光工艺有了新的认识和了解啦？赶紧去试试吧，说不定你也能成为一个铜抛光大师呢！。
铜电化学抛光晶面-回复铜电化学抛光晶面是一种利用电化学反应，在铜材料的表面形成平整、光滑的晶面或者提高晶面的质量的技术方法。
这种方法广泛应用在电子、半导体、光纤等领域，可以提高材料的光学、电学性能，同时也是材料科学领域中重要的研究内容之一。
首先，我们来了解一下铜电化学抛光晶面的原理。
铜材料具有良好的导电性和氧化性，因此可以在电化学条件下进行氧化还原反应。
在抛光过程中，选择合适的电解液和工艺条件，通过施加电流进入铜材料中，氧化剂和还原剂之间的反应可以使表面的颗粒得到溶解或者生成。
通过控制反应物的浓度、电流密度和时间等工艺参数，可以控制晶面的形态、尺寸和质量。
其次，我们来了解具体的铜电化学抛光晶面工艺流程。
首先，要准备好电解液，常用的电解液包括硫酸铜溶液、硫酸铵溶液和草酸铵溶液等。
其次，要选择合适的工艺条件，包括电流密度、温度和反应时间等。
最后，在电解槽中放置好铜材料，接上正负电源极，开始施加电流。
在反应过程中，通过不断调节工艺参数，保证晶面能够得到均匀的处理，并且在所需的时间范围内完成抛光。
在铜电化学抛光晶面的过程中，需要注意一些关键因素。
首先，电解液的选择非常重要，它应具备良好的溶解性和稳定性。
其次，电流密度的选择直接影响到晶面的形态和尺寸，过小的电流密度可能导致抛光不彻底，而过大的电流密度可能引发晶面受损。
此外，温度的控制也非常关键，适当的温度可以提高反应的速率，并且避免杂散电流对晶面的影响。
铜电化学抛光晶面技术具有许多优势。
首先，该技术可以实现对铜材料表面颗粒的溶解，从而实现光滑平整的晶面。
其次，该技术可以提高材料的质量和性能，比如减小晶面的缺陷、改善晶体结构和提高材料的导电性能。
此外，该技术还可以实现对铜材料的微纳米结构的调控，从而在电子学、光学和磁性材料等领域实现更多应用。
最后，铜电化学抛光晶面技术还存在一些挑战和发展方向。
首先，一些电解液对环境有污染，因此需要研发更环保的电解液。
此外，工艺参数的选择和控制也需要进一步优化，以实现更高效、更稳定的晶面抛光过程。
超精密研磨与抛光技术超精密研磨与抛光技术是超精密加工技术的一种。
超精密加工技术指的是超过或达到本时代精度界限的高精度加工。
超精密加工其实是个相对概念，而且随着工艺技术水平的普遍提高，不同时代有着不同的划分界限，但并严格统一的标准。
从现在机械加工的工艺水平来看，通常把加工误差小于0.01μm、表面粗糙度Ra小于0.025μm的加工称为超精密加工。
超精密加工技术起源于20世纪60时代初期——美国于1962年首先研制成功了超精密加工车床。
这一技术是为了适应现代高科技进展需要而兴起的，它综合运用了新进展的机械讨论成果及现代电子、计算机和测量等新技术，是一种现代化的机械加工工艺。
超精密加工拥有广阔的市场需求。
例如，在国防工业中，陀螺仪的加工涉及多项超精密加工技术，由于导弹系统的陀螺仪质量直接影响其命中率——据有关数据，Ikg的陀螺转子，其质量中心偏离其对称轴0.0005μm就会引起100m的射程误差和50m的轨道误差；在信息产业中，计算机上的芯片、磁盘和磁头，录像机的磁鼓、复印机的感光鼓、光盘和激光头，激光打印机的多面体，喷墨打印机的喷墨头等都要靠超精密加工才能达到产品性能要求：在民用产品中，现代小型、超小型的成像设备，如微型摄像机、针孔照相机等同样倚靠于超精密加工技术。
我们所说的超精密加工技术，除了超精密研磨和抛光技术外，还包括超精密磨削、超微细加工、光整加工和精整加工等。
这几种超精密加工方法能加工岀一般精密加工所无法达到的尺寸精度、形状精度及表面粗糙度。
但是，超精紧密削、超精密磨削等的实现在很大程度上倚靠于加工设备、加工工具，同时还受加工原理及环境因素的影响和限制，所以，现在假如想从这些方面提高加工精度，那是非常困难的。
而超精密研磨和抛光技术由于具有独特加工原理，可以实现纳米级甚至原子级的加工，已成为超精密加工技术中的一个紧要。
所以，超精密研磨与抛光技术如今备受关注。
研磨、抛光是历史最悠久的传统工艺。
铜电化学抛光晶面-回复什么是铜电化学抛光晶面？如何进行铜电化学抛光晶面过程？在实践中有哪些指导原则？这些问题都会在本文中一一作答。
首先，让我们来介绍一下什么是铜电化学抛光晶面。
铜电化学抛光晶面是一种利用电化学方法对铜材料表面进行抛光处理的技术。
通过在特定电解液中施加合适的电势和电流密度，可以去除铜材料表面的氧化物、污渍和微小凹陷，从而得到光滑平整的铜晶面。
那么，具体的铜电化学抛光晶面过程是怎样的呢？首先，我们需要准备一些实验设备和试剂。
常见的铜电化学抛光设备包括电解槽、电源、电极和温度控制装置等。
此外，还需要选择适合的电解液，常用的电解液成分包括硫酸、氯化铵和硫酸铜。
一般而言，铜电化学抛光晶面过程包括以下几个步骤。
首先，将待抛光的铜材料制成电极，并保证其表面不受污染和损坏。
接下来，将电极浸入预先调配好的电解液中，并控制合适的电势和电流密度。
在电解过程中，铜材料表面的氧化物、污渍和微小凹陷将被去除，同时铜离子将被还原沉积到电极表面。
该过程通常需要一定时间，具体时间长短取决于电解液成分、电流密度以及铜材料的表面状态。
在实践中，铜电化学抛光晶面有一些指导原则需要遵守。
首先，选择合适的电解液成分，确保能够提供足够的离子浓度和合适的化学反应条件。
其次，控制适当的电势和电流密度，以保证抛光效果和电解液的充分利用。
此外，注意保持电解液的温度稳定，避免过高或过低的温度对抛光效果产生不利影响。
最后，进行适量的后处理，如清洗和干燥，以确保抛光后的铜晶面质量。
在实际应用中，铜电化学抛光晶面具有广泛的应用前景。
例如，在微电子器件制造中，铜电化学抛光晶面可用于改善铜导线、接触等器件的表面质量和电学性能。
此外，在光学器件制造和材料科学研究中，铜电化学抛光晶面也常用于制备高质量的铜晶面样品。
综上所述，铜电化学抛光晶面是一种利用电化学方法对铜材料表面进行抛光处理的技术。
通过合适的电解液、电势和电流密度的控制，铜材料表面的氧化物、污渍和微小凹陷可以被去除，得到光滑平整的铜晶面。
铜及铜合金光亮化学抛光工艺哎呀，说起铜及铜合金的光亮化学抛光工艺，这可真是个技术活儿。
你知道吗，这事儿得从我那老朋友李师傅那儿说起。
李师傅是个老手艺人，专门搞铜器的，手艺那是一绝。
有次我去他那儿，看到他正在那儿忙活，手里拿着一块铜板，那铜板啊，黯淡无光，跟块废铁似的。
我问他这是干啥呢，他嘿嘿一笑，说：“这你就不懂了吧，我这是要给这铜板儿做个美容呢。
”我一听，美容？铜板儿还能美容？李师傅说，这叫化学抛光，能让铜板儿亮得跟镜子似的。
他给我展示了他的工具，有一堆化学试剂，还有几个大桶，里面装着不同颜色的液体。
他说，这第一步，得把铜板儿泡在一种特殊的溶液里，这溶液能去掉铜板上的杂质，让铜板儿看起来更干净。
我看着他小心翼翼地把铜板儿放进去，那铜板儿就像个害羞的小姑娘，慢慢沉下去，不一会儿，铜板上的杂质就开始溶解，浮在水面上，像一层薄薄的油花。
过了一会儿，李师傅把铜板儿拿出来，用清水冲了冲，然后放进另一个桶里。
这个桶里的液体是蓝色的，他说这是抛光液，能让铜板儿亮起来。
我看着铜板儿在桶里慢慢转，那液体就像魔法一样，铜板儿的颜色越来越亮，最后简直能照出人影来。
李师傅说，这抛光液里有一种特殊的化学成分，能和铜反应，生成一层光亮的膜。
我看着那铜板儿，心想，这铜板儿要是会说话，肯定得说：“哇，我怎么这么亮啊！”最后，李师傅把铜板儿拿出来，用布擦了擦，那铜板儿简直就跟新的一样，亮得能照出人影。
我问他，这得花多少钱啊？他说，不贵，就是费点功夫。
我心想，这手艺，真是值钱。
临走的时候，李师傅还送了我一块小铜板，说是让我也体验体验。
我拿着那块铜板，心里想，这铜板儿，可真是铜中的贵族啊，经过李师傅的手，它不再是一块普通的铜板，而是一块有故事、有温度的艺术品。
所以啊，这铜及铜合金的光亮化学抛光工艺，不仅仅是一门技术，更是一种艺术，一种对美的追求。
下次你看到一块光亮的铜板，可别小瞧它，那可是经过了手艺人的巧手，才变得如此光彩照人。
光学反射镜加工技术要求一、材料方面。
1. 纯度得够高。
咱这光学反射镜啊，就像一个很挑剔的美食家。
材料要是不纯净，就像饭菜里混进了沙子，那可不行。
对于反射镜材料，杂质越少越好。
就像我们希望镜子能完美反射光线，杂质多了就会干扰光线的反射路径，导致反射效果大打折扣。
2. 均匀性要好。
材料得像一块超级均匀的蛋糕，不能有的地方密度大，有的地方密度小。
要是不均匀，光线打上去的时候，反射的情况就会乱七八糟。
就好像你在一个坑坑洼洼的路面上开车，肯定没有在平整路面上顺畅，光线在不均匀的反射镜材料上也是这么个感觉。
二、形状精度。
1. 曲率要精准。
这反射镜的曲率就像运动员的跑道，得精确到不能差之毫厘。
如果曲率有偏差，光线就不会按照我们想要的方向反射。
比如说本来要把光线聚焦到一个点上的，结果因为曲率不对，光线就分散开了，就像一群乱跑的小羊羔，失去了控制。
2. 平面度要高（如果是平面镜的话）平面镜就得像超级平的溜冰场一样。
要是平面度不够，反射出来的图像就会变形。
想象一下，你在哈哈镜里看自己，脸都扭曲了，那可不行。
对于光学反射镜，平面度一差，它的光学性能就会变得很差劲。
三、表面质量。
1. 粗糙度要低。
这表面啊，得像婴儿的皮肤一样光滑。
要是表面粗糙，光线在上面反射的时候就会散射得到处都是。
就好比你把一个球扔到满是石头的地上，球会到处乱弹，光线在粗糙表面上也是这样，不能好好地按照我们的设计去反射。
2. 无划痕和瑕疵。
反射镜表面可不能有划痕或者小坑之类的瑕疵。
这就像一件漂亮的衣服，要是破了个洞或者划了一道口子就不好看了。
有了划痕或者瑕疵，光线在这些地方就会被打乱反射，影响整个反射镜的光学功能。
四、镀膜要求（如果有镀膜的话）1. 膜层均匀性。
镀膜得像给蛋糕均匀地抹奶油一样，到处都得厚度一致。
要是膜层不均匀，光线通过膜层的时候就会受到不同的影响，就像你在不同厚度的冰面上滑冰，速度和方向都会受到干扰。
2. 膜层附着力。
这膜得紧紧地粘在反射镜表面上，不能轻易脱落。
专利名称：一种反射镜的镜边抛光处理装置专利类型：实用新型专利
发明人：张惜,冯磊,刘海鹰
申请号：CN202123238441.X
申请日：20211221
公开号：CN216542426U
公开日：
20220517
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开一种反射镜的镜边抛光处理装置，包括抛光处理设备以及位于抛光处理设备下方的反射镜承载单元，所述反射镜承载单元包括底座；若干弹性承载机构，均匀分布呈一圈设置在所述底座上，若干所述弹性承载机构顶面配合形成用于承载反射镜的承载区域。
本发明弹性承载机构上承载有反射镜，抛光处理设备对反射镜进行抛光，操作时抛光处理设备启动将反射镜下压至合适位置，弹性承载机构能够在弹力作用下起到缓冲作用，避免抛光处理设备对反射镜的下压力度过大，从而顺利完成抛光过程，避免反射镜损坏。
申请人：扬州霞光光电有限公司
地址：225000 江苏省扬州市邗江经济开发区开发西路217号高新技术创业服务中心
国籍：CN
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