流体抛光技术研究-文献综述
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超精密流体射流抛光加工技术研究与工艺系统开发目前,对于流体射流抛光加工技术的应用研究相对较少,且主要集中于去除机理研究、去除函数的优化及工艺参数实验等方面。
本文通过研究磨粒水射流加工技术进行快速、可靠的确定性去除的控制方法和工艺参数,及其对去除效率和去除函数轮廓造成的影响,探索流体射流加工技术的应用潜力和适用环境。
并采用流体射流技术开展超光滑光学元件的加工和回转对称面形误差的快速去除实验研究,验证射流抛光加工技术及其控制方法的可靠性和稳定性。
论文的主要研究内容如下:针对垂直射流时形成的W形去除函数,提出了采用回转函数的方法来取代通常采用的偏心式回转射流装置,从而得到虚拟的近高斯形去除函数;并提出逐层去除的驻留时间求解方法,实现了驻留时间图的快速有效求解及求解收敛的成功率。
针对传统抛光和小工具抛光加工中存在的中频误差问题,提出了一种随机路径的生成方法,并对比了不同加工路径下的生成表面特点。
根据确定性抛光加工的技术要求,开发了射流加工液压系统来满足确定性抛光加工中对射流束在长时间内保持压力稳定和不发散的功能要求。
针对不同工艺参数,比如射流压力、射流角度、射流距离等,进行定点射流实验,并研究了去除函数的轮廓变化特点。
结合计算流体仿真技术,对不同工艺参数设置下射流区域内的压力和速度分布,进行仿真研究。
通过实验结果与仿真结果的对比,揭示射流抛光加工中的材料去除机理。
针对在流体射流抛光(FJP)加工中,直接检测得到的去除函数并不呈理想的回转对称形,提出了解决方案。
一方面通过滤波和回转增强算法来减弱测量误差的影响;另一方面提出了增强算法来提高回转对称性,并在质量评价算法中添加修正因子来研究去除函数质量随射流时间的变化。
本文还对运动平台的动态反应及运动精度进行了检测,分析了可能造成抛光加工精度误差的影响因素;并根据分析结果,指导确定性抛光加工中的运动参数设置,对未来抛光加工装备及控制系统的开发提供了参考。
根据上述研究,本文开展了超精密光学镜片的射流修形加工实验研究。
磁性复合流体抛光机理及其使用寿命研究磁性复合流体抛光机理及其使用寿命研究摘要:磁性复合流体抛光技术是一种应用于金属材料表面处理的新兴技术。
本文通过实验研究,探讨了磁性复合流体抛光的机理,并对其使用寿命进行了研究。
研究结果表明,磁性复合流体抛光能够显著提高金属表面的光洁度和平整度,并且具有较长的使用寿命。
该研究对于进一步深入理解磁性复合流体抛光机理和优化其使用寿命具有一定的指导意义。
关键词:磁性复合流体抛光,机理,使用寿命,金属材料 1. 引言金属材料广泛应用于工业生产和日常生活中。
其表面质量对于材料的性能和外观至关重要。
因此,提高金属表面的光洁度和平整度是一个关键的问题。
传统的机械抛光方法存在效率低、加工不均匀等问题。
磁性复合流体抛光技术作为一种新兴技术,能够有效解决传统抛光方法存在的问题,具有广阔的应用前景。
2. 磁性复合流体抛光机理2.1 流体悬浮剂的选择磁性复合流体抛光的核心是流体悬浮剂的选择。
悬浮剂中的磁性颗粒能够随着磁力的作用在金属表面进行抛光,并且具有较好的可控性和均匀性。
在实验中,我们选择了一种磁性颗粒悬浮剂。
通过调节悬浮剂的浓度和粒径,得到了不同抛光效果的实验结果。
2.2 磁力的作用实验中,我们使用了一个电磁铁作为磁力的来源。
通过改变电磁铁的磁场强度和方向,可以调节磁性颗粒在金属表面的分布和运动路径。
当磁性颗粒受到磁力的作用,其在金属表面形成一个均匀的磁性液膜,从而实现了对金属表面的全面抛光。
3. 实验方法3.1 材料准备实验使用了一种常见的金属材料作为样品,将其切割成一定尺寸的块状。
然后,使用砂纸对样品进行粗磨,去除表面的大颗粒。
最后,使用超声波清洗仪对样品进行清洗,以去除残留的杂质。
3.2 实验装置实验装置由电磁铁、样品支架和测量仪器组成。
电磁铁用于产生磁场,样品支架用于固定样品,测量仪器用于测量金属表面的光洁度和平整度。
3.3 实验流程将样品放置在样品支架上,并将电磁铁放置在适当的位置。
流体抛光原理流体抛光原理是一种基于流体处理的表面抛光技术,广泛应用于精密光学材料、半导体材料、陶瓷材料等行业,以提高材料表面的光洁度和平整度。
其工作原理主要包括流体润湿性、颗粒集散、切削和溶解等过程。
首先,流体抛光需要一种流体介质作为基础材料。
该流体介质通常是一种粘性较小的溶液,可以提供必要的腐蚀和切削作用。
同时,流体介质还需要具备良好的流动性,能够在磨料颗粒与工件表面之间形成充分的接触和摩擦,以实现表面的抛光效果。
其次,颗粒集散是流体抛光的重要过程之一。
在流体介质中加入一定大小和形状的磨料颗粒,颗粒的大小和分布会直接影响抛光效果。
当流体介质在使用过程中与工件接触时,颗粒颗粒会通过流动性和表面张力的作用从流体溶液中散落出来,形成一定的颗粒浓度,并与工件表面发生磨擦作用。
颗粒在磨擦作用下会削除工件表面的不均匀性,进而达到抛光的效果。
流体抛光过程中的切削作用是另一个关键因素。
当流体介质中的磨料颗粒与工件表面接触时,通过流体的流动性和颗粒的硬度,颗粒会产生一定的切削力,将工件表面的不平整部分和微小颗粒削除。
在切削过程中,颗粒表面也会受到工件表面的磨擦作用,使颗粒表面变得更加平整,从而进一步提高表面的光洁度和平整度。
此外,流体抛光过程中还包括一定的溶解作用。
流体介质通常是一种可溶解或微溶解的液体,当与工件表面发生接触时,流体介质中的活性物质会与工件表面的材料发生化学反应。
这种化学反应会使工件表面的部分材料溶解或发生一定的变化,从而改善工件表面的质量。
综上所述,流体抛光技术通过流体润湿性、颗粒集散、切削和溶解等过程,利用流体介质中的磨料颗粒与工件表面的磨擦作用,削除工件表面的不均匀性和微小颗粒,进而提高表面的光洁度和平整度。
这种处理方法简单易行,可以应用于各种材料的表面抛光,是一种非常有效的抛光技术。
流体二维振动超精密抛光实验研究
杨忠高;何冰强;郭钟宁
【期刊名称】《现代制造工程》
【年(卷),期】2014(000)006
【摘要】基于流体二维振动超精密抛光方法对石英玻璃进行了抛光实验研究,将
超声波作为振动源,驱动抛光液在水平和垂直两个方向耦合振动实现对工件的抛光。
测试了振动场中的声强,讨论了不同输入电压对声强的影响。
分析了不同流场状态、工件装夹方式、磨料粒度以及抛光时间对抛光效果的影响,并得出了一些基本规律。
【总页数】5页(P99-103)
【作者】杨忠高;何冰强;郭钟宁
【作者单位】广东工贸职业技术学院,广州510510;广东机电职业技术学院,广
州510515;广东工业大学,广州510090
【正文语种】中文
【中图分类】TH16
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流体抛光,磨粒流工艺简介工件加工过程中,孔内会出现机加工残留,刀纹等加工痕迹,孔口也会有翻边产生,这就是常说的毛刺,毛刺的大小,多少,关系着产品的质量。
去毛刺的工艺有很多,机械研磨,化学灼烧,热处理,低温处理都可以去除机加工的毛刺。
今天主要针对磨粒流工艺进行一个全面的介绍。
工艺概述:磨粒流工艺应用于抛光去毛刺已经是非常常见的加工方式了,磨粒流去毛刺又称挤压衍磨加工,它是70年代初发展起来的一种新的光整加工工艺。
发展至今,在航天,军事,医疗,汽车零部件,模具等行业都有了很普遍的应用。
磨粒流工艺磨粒流:又称流体抛光,是指一种抛光去毛刺工艺,又称为流体抛光,或挤压研磨抛光,主要针对内孔、微细孔、不规则形状、球面曲面、齿轮等,磨料流加工技术是将磨粒包裹在高分子材料中作为磨料,施加压力使其流经工件表面并对表面进行挤压、刮削等微量去除材料的表面光整加工技术,具有流动性好、自适应性强等工艺特点使用磨粒流抛光去毛刺工艺,冶具夹持工件后,以上下往复挤压方式使磨料流经加工件表面、交叉孔或端角依需求进行去毛边、抛光或倒角加工,可依时间及流量计算机控制,达到全自动、经济高效率抛光,其抛光痕迹和工件使用的方向一致,因此具有同方向性加工特点。
磨粒流工艺抛光去毛刺设备三要素(1)磨粒流机床,为磨料的流动提供动力(2)研磨料,根据工件的加工要求可以分为两种,一种是半固态高分子磨料,一种是液态悬浮磨料,磨料是磨粒流工艺的核心技术,可以根据工件的材质,加工要求来定制粘度,粒度,磨料比重。
(3)夹具,常规夹具用于固定工件,磨粒流的夹具不仅要保障工件定位,还要考虑到对工件进行限流,制造磨粒流动的通道,还不能夹伤工件,对于不同材质的工件,也要使用相应的材质,是磨粒流工艺加工的核心工艺之一。
磨粒流工艺抛光去毛刺的工艺特点:1.去毛刺均匀,统一性好2.磨粒流机床操作简单,性能稳定。
3.磨粒流加工屑光整加工,一般仅去除微量金属,不仅加工均匀,具有较高的重复精度,而且由于磨粒流介质的弹性,磨粒在产生切削作用的同时,还对加工表面产生挤压作用,从而可以获得高的表面质量,均匀地去除前工序留下的表面缺陷层。
《振动辅助磨料流圆管精密抛光机理与工艺研究》篇一一、引言随着现代工业的快速发展,对圆管类零件的表面质量要求越来越高。
振动辅助磨料流圆管精密抛光技术作为一种新型的表面处理技术,以其高效率、高精度、低损伤等优点,在圆管类零件的表面处理中得到了广泛的应用。
本文旨在研究振动辅助磨料流圆管精密抛光的机理与工艺,为该技术的应用提供理论依据和实践指导。
二、振动辅助磨料流抛光技术概述振动辅助磨料流抛光技术是一种利用磨料在流体中高速运动,通过振动辅助作用对工件表面进行抛光的技术。
该技术通过控制磨料的粒度、浓度、流量以及振动参数等,实现对工件表面的高效、高精度抛光。
三、圆管精密抛光机理研究1. 磨料与工件的相互作用在振动辅助磨料流圆管精密抛光过程中,磨料与工件表面发生摩擦作用,通过磨料的切削、研磨和抛光作用,使工件表面达到所需的精度和光洁度。
同时,振动的作用使得磨料在工件表面产生高频冲击,进一步提高了抛光效果。
2. 振动对抛光过程的影响振动在圆管精密抛光过程中起到了关键作用。
一方面,振动可以使得磨料在工件表面产生高频往复运动,增强磨料与工件的相互作用;另一方面,振动可以降低工件表面的粗糙度,提高抛光效率。
此外,振动还可以使得磨料更加均匀地分布在工件表面,提高抛光均匀性。
四、圆管精密抛光工艺研究1. 工艺参数的选择与优化圆管精密抛光的工艺参数包括磨料粒度、浓度、流量、振动参数等。
通过实验和数据分析,选择合适的工艺参数组合,以实现最佳的抛光效果。
同时,根据工件的材料和表面质量要求,对工艺参数进行优化,以满足实际生产需求。
2. 抛光过程的控制与监测在圆管精密抛光过程中,需要对抛光过程进行控制和监测。
通过实时监测工件表面的粗糙度、光洁度等指标,以及磨料的消耗情况,及时调整工艺参数,保证抛光过程的稳定性和抛光质量。
五、实验研究与分析通过实验研究和分析,验证了振动辅助磨料流圆管精密抛光机理与工艺的有效性。
实验结果表明,该技术能够显著提高圆管类零件的表面质量和精度,降低表面粗糙度,同时保持较低的损伤程度。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述磁流变抛光是一种通过利用磁流变流体的特性来实现表面抛光的技术。
它可以用于光学元件的抛光,以改善其表面质量和光学性能。
本文将综述基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术。
磁流变抛光技术利用磁流变流体的流变特性,通过调节磁场的强度和方向来控制流体的流动行为,从而实现对光学元件表面的抛光。
磁流变流体一般由磁流变材料和基础流体组成,当施加磁场时,磁流变材料会发生类似于液体变固体的相变,使流体具有较高的黏度和流变性能。
1.磁场控制技术:磁场是磁流变抛光的关键因素,磁场的强度和方向会直接影响磁流变流体的流动行为。
相关专利技术主要涉及磁场控制装置的设计和优化,如磁铁的布置、磁场的稳定性和均匀性等方面。
2.抛光材料选择和制备技术:抛光材料是磁流变抛光的另一个重要方面,它既需要具备较高的磁流变效应,又要具备适当的硬度和表面平整度,以保证对光学元件表面的均匀抛光。
相关专利技术探索了不同的抛光材料和制备方法,如磁流变材料的合成、涂覆和粒度控制等。
3.抛光工艺优化技术:磁流变抛光的工艺参数对抛光效果有着重要的影响,如磁场的强度和方向、抛光时间、抛光速度等。
相关专利技术通过设计合适的工艺参数和优化工艺流程,以提高抛光效率和表面质量。
4.表面检测和评估技术:对抛光后的光学元件进行表面检测和评估是确保抛光效果的关键步骤。
相关专利技术涵盖了不同的表面检测方法和设备,如光学显微镜、激光扫描等,以及表面质量评估的指标和标准。
基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术主要集中在磁场控制技术、抛光材料选择和制备技术、抛光工艺优化技术以及表面检测和评估技术等方面。
这些专利技术的发展为提高光学元件的表面质量和光学性能提供了重要的技术手段。
立、卧式磁性复合流体抛光对比实验研究张瑞;姜晨;任鹤;SOULEYANE A Kiari Oumar【摘要】针对磁性复合流体(MCF)抛光的两种抛光头,进行MCF抛光特性对比实验研究.开展了黄铜H26的平面抛光实验,调查立式和卧式抛光头分别对工件材料去除率、表面形貌与粗糙度以及MCF水分损耗等抛光特性的影响.实验结果表明,卧式MCF抛光能够较快地降低表面粗糙度,获得较高的材料去除率,MCF水分损失相对较快;立式MCF抛光能够在相对较长时间内获得稳定的材料去除率和表面粗糙度,MCF水分损失也较为平稳.【期刊名称】《光学仪器》【年(卷),期】2018(040)005【总页数】8页(P70-77)【关键词】磁性复合流体;抛光;抛光特性;黄铜H26【作者】张瑞;姜晨;任鹤;SOULEYANE A Kiari Oumar【作者单位】上海理工大学机械工程学院,上海200093;上海理工大学机械工程学院,上海200093;上海理工大学机械工程学院,上海200093;上海理工大学机械工程学院,上海200093【正文语种】中文【中图分类】TH161.1引言光学玻璃元件是高精密光学系统的重要组件之一,能采用精密模压成型法制备完成。
玻璃透镜压模成型所用模具因能与高温软化的玻璃不发生粘连,所以模具的精度一定程度上决定着光学玻璃的精密程度,因此必须对模具进行精密加工处理。
磁性复合流体(magnetic compound fluid,MCF)抛光作为一种先进精密加工技术,在可控磁场的作用下,流体黏度可保持连续、无级变化,能够实现可控、确定性加工。
20世纪80年代初期,日本Tani等[1]发明了磁流体(magnetic fluid,MF)光整加工技术,采用把松散磨粒混入磁流体中,通过磁场控制磁流体中磨粒做机械运动,从而起到抛光作用,但是纳米级磁性粒子的饱和磁化强度和黏度过低。
20世纪90年代初期,美国Rochester大学光学研究中心的Kordonski等[2-3],研发了磁流变(magnetorheological fluid,MRF)加工技术,MRF中微米级磁性粒子的饱和磁化强度大,但是流变性和抗沉淀稳定性较差。
开题报告流体抛光技术研究一、选题的背景和意义以家乡慈溪为例,当地模具制造行业比较盛行,其中抛光是不可缺少的,特别是生产透明塑料件的模具,其抛光要求尤为高。
再者生活中买车的人越来越多,汽车抛光也显得频繁了.现代抛光技术应用已经很广泛了,很多制造业都离不开它,比如纺织、医疗、缝纫、精密齿轮、轴承、模具制造,还有宇航、兵器工业。
抛光对象最多的还是金属。
金属表面抛光技术是表面技术及工程学科领域中的重要组成部分,在工业生产过程中得到广泛的应用,特别是在电镀工业、涂饰、阳极氧化及各种表面处理过程中起到重要作用。
随着国民经济的迅猛发展,它已扩展到表面处理技术以外的领域,逐渐成为一门相对独立的专用技术。
还有化学抛光,它是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。
在化学抛光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。
由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使钢铁零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。
抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
总的来说,抛光技术发展前景很大。
不管现在还是未来,它是不可获却的,我相信随着科学的进步,它还将发挥更大作用。
二、研究目标与主要内容(含论文提纲)(1)磨粒流抛光技术包括该技术的发展历史,工作原理,国内外研究的现状,发展趋势等。
(2)磁流变抛光技术包括该技术的发展历史,工作原理,国内外研究的现状,发展趋势等。
(3)磨料水射流抛光技术包括该技术的发展历史,工作原理,国内外研究的现状,发展趋势等。
(4)磁射流抛光技术包括该技术的发展历史,工作原理,国内外研究的现状,发展趋势等。
1引言1.1抛光概述1.2抛光技术的种类1.3抛光研究现状2 磨粒流抛光技术2.1发展前景及历史2.2技术加工原理2.3主要影响因素2.4优点以及应用2.5研究现状2.6技术研究展望3 磁流变抛光技术3.1产生的背景及意义3.2发展历史3.3该技术的基本原理3.4抛光关键技术研究3.5研究现状和发展趋势4 磨料水射流抛光技术4.1技术简介及发展历史4.2技术基本原理4.3在各材料中的工作机理4.4该技术的主要特点4.5工艺参数对抛光效果的影响4.6目前技术上存在的问题5 磁射流抛光技术5.1技术起源的基本理论5.2技术概述及形成条件5.3磁射流抛光的工作原理5.4磁射流形成分析5.5该技术的应用5.6抛光实验5.7研究现状及发展前景6 总结三、拟采取的研究方法、研究手段及技术路线、实验方案等对于抛光方法的研究,这是一篇综述性的文章。
基于非牛顿流体新型液浮法抛光技术研究秦琳;弥谦;李宏【摘要】提出一种新的柔性抛光技术——液浮法抛光,通过软件仿真及实验对其进行探索性研究.针对抛光液为具有剪切增稠效应的流体,利用软件对该类液体的液浮法抛光技术模型进行流场分析,得到液浮抛光模型的流场压强、剪切力分布情况.仿真结果表明,液浮抛光技术对被加工件表面具有一定的剪切效果,可以实现对工件材料的去除.搭建实验平台,设计一组实验,其中配置以粒径12 nm的二氧化硅为溶质,分子量200的聚乙二醇为溶剂的非牛顿幂律流体作为抛光液的剪切增稠基液(其中二氧化硅质量分数为9%),加入质量分数为18%的氧化铈作为磨料的抛光液,对于初始粗糙度为23.97 nm的K9玻璃经过90 min的抛光,其粗糙度可达到1.023 nm,实验结果表明,该技术可用于光学元件的抛光加工.【期刊名称】《应用光学》【年(卷),期】2019(040)002【总页数】6页(P223-228)【关键词】光学元件加工;液浮抛光技术;剪切增稠;fluent流场分析【作者】秦琳;弥谦;李宏【作者单位】西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心,西安710021;西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心,西安710021;西安工业大学陕西省光学先进制造工程技术研究中心,西安710021【正文语种】中文【中图分类】TN205;TH706引言目前先进的超精密抛光技术层出不穷[1],如离子束抛光、化学机械抛光[2-3]、弹性发射加工[4]、射流抛光、磁流变抛光等技术,这些技术都各有各的抛光特点,并且都取得了一定的抛光效果,都可达到超光滑加工的要求,即能够获得亚纳米精度的光学元件光滑表面,但是它们都存在一定的局限性,比如抛光介质为造价昂贵的磁流变液[5]或者化学溶剂介质[6],加工成本高且对环境造成危害;需要高精密的数控机床去控制其加工精度,并且容易产生波纹误差;对工件的加工方式为点抛光或小面积抛光,加工效率低。
《振动辅助磨料流圆管精密抛光机理与工艺研究》一、引言随着现代工业的快速发展,对圆管类零件的表面质量要求越来越高。
振动辅助磨料流圆管精密抛光技术作为一种新型的表面处理技术,其通过结合振动和磨料流的特点,实现圆管类零件的高效、高精度抛光。
本文旨在研究振动辅助磨料流圆管精密抛光机理与工艺,为该技术的应用提供理论支持和实践指导。
二、振动辅助磨料流抛光技术概述振动辅助磨料流抛光技术是利用高压力的磨料流体在振动场的作用下,对工件表面进行冲击、剪切和摩擦,从而达到去除表面微小凸起、提高表面粗糙度、增强表面光洁度的目的。
该技术具有抛光效率高、抛光精度高、适用范围广等优点。
三、振动辅助磨料流圆管精密抛光机理研究(一)振动场对抛光过程的影响振动场是振动辅助磨料流抛光技术的核心。
在振动场的作用下,磨料流体产生周期性的冲击和剪切力,使工件表面产生微小的变形和剪切。
这些微小的变形和剪切有助于去除工件表面的微小凸起和杂质,同时使工件表面更加光滑。
(二)磨料流体的作用磨料流体在高压下喷射到工件表面,通过其冲击力、剪切力和摩擦力去除工件表面的微小凸起和杂质。
同时,磨料流体中的磨料颗粒在工件表面产生研磨作用,进一步提高了工件的表面质量。
(三)抛光机理分析根据上述分析,振动辅助磨料流圆管精密抛光的机理可以概括为:在振动场的作用下,磨料流体对工件表面产生周期性的冲击和剪切力,去除工件表面的微小凸起和杂质;同时,磨料颗粒在工件表面产生研磨作用,使工件表面更加光滑。
这一过程不断重复,直至达到所需的表面质量。
四、振动辅助磨料流圆管精密抛光工艺研究(一)工艺流程设计振动辅助磨料流圆管精密抛光工艺流程主要包括:工件预处理、安装夹具、设置抛光参数、启动抛光设备、抛光完成后清洗工件等步骤。
其中,抛光参数的设置对抛光效果具有重要影响。
(二)抛光参数优化抛光参数包括振动频率、振幅、磨料流量、压力等。
通过实验和数值模拟等方法,对这些参数进行优化,以获得最佳的抛光效果。
流体包裹体文献综述游智敏(地球科学与资源学院011070班)摘要:流体包裹体是研究矿物中和岩石中的古流体,通过利用现代热力学原理,可以恢复流体捕获时的物理化学条件,如温度、压力,密度,成分,组分逸度等。
对它们的研究可以定性和定量分析流体参与下的各种地质作用,尤其是成矿作用。
对流体包裹体的正式研究始于1858年国外学者Sorby对包裹体地质温度计原理和方法提出,它的发展经历了漫长的过程,可以分为五个阶段。
国内流体包裹体起步晚,在流体包裹体理论研究方面与国际先进水平存在差距。
此文还总结了水盐体系,CO2-H2O体系这两个主要类型的流体包裹体盐度测算的测温方法,与数据计算公式表格。
关键词:流体包裹体研究进展盐度计算NaCl-H2O体系CO2体系0 引言地质体中的流体包裹体多是微米级的观察和研究对象。
流体包裹体与微量元素,同位素,微粒矿物等都是微体、微区、和微量物质,但对他们的分析研究、其成果进展等却极大地丰富了宏观地球科学,带来了重要信息,开拓了新的思路,延展了研究领域。
对流体包裹体定性和定量分析可解释地壳乃至地幔中流体参与下的各种地质作用过程,它已广泛应用于矿床学、构造地质学、壳幔作用、油气勘探、研究演化、变质学等地学领域。
1、流体包裹体的定义和研究内容流体包裹体是研究存在于矿物和岩石包裹体中的古流体,通过对其进行定性和定量分析可解释地壳乃至地幔中的流体参与下的各种地质过程。
矿物在生长过程中所圈闭的流体保存了当时地质环境的各种地质地球化学信息(P、T、pH、X、W等),是相关地质过程的密码。
流体包裹体分析已广泛应用于矿床学、构造地质学、壳幔演化、地壳尺度上流体迁移、石油勘探以及岩浆岩系统演化过程等地质领域。
研究流体包裹体是研究包裹体各种性质及其相互关系、为成岩成矿过程提供物理化学和热力学条件数据、探讨地质作用地球化学和演化历史,并服务于找矿勘探。
流体包裹体的研究内容包括:(1)研究矿物中包裹体的成因、恢复地质环境。
TA1纯钛毛细管化学辅助磁性复合流体抛光实验研究*薛玉峰1, 张文韬1, 武韩强1, 孙 旭2, 郑旸轲1, 吴勇波1(1. 南方科技大学, 机械与能源工程系, 广东 深圳 518055)(2. 龙岩学院, 物理与机电工程学院, 福建 龙岩 364000)摘要 对医用TA1纯钛毛细管内表面进行镜面抛光,有助于减小检测样本残留、提高毛细管移液精度,从而提高体外诊断设备的检测精度与可靠性。
针对纯钛毛细管内表面质量差、材质难抛光的问题,提出一种新型化学辅助磁性复合流体抛光方法,将化学氧化与机械去除相结合,实现对毛细管内表面的高效精密抛光。
采用单因素实验探究抛光液中的铁粉质量、过氧化氢质量分数与苹果酸质量分数对毛细管内表面材料去除率和粗糙度的影响,获得最佳抛光参数;检测在抛光过程中毛细管内表面的材料去除与元素变化,分析该技术用于纯钛毛细管内表面的综合抛光效果。
结果表明:在铁粉质量为2 mg 、过氧化氢质量分数为7.2%、苹果酸质量分数为6%的条件下抛光90 min 后,纯钛毛细管内表面粗糙度由R a 675 nm 降至R a 75 nm ,无原始裂隙的平整抛光区域粗糙度低至R a 19.5 nm ,材料去除深度达28 μm ,原始表面的细微裂痕被基本去除,粗壮裂隙减小;抛光过程没有引入其他元素。
关键词 化学辅助磁性复合流体抛光;TA1纯钛毛细管;内表面;粗糙度中图分类号 TG58 文献标志码 A 文章编号 1006-852X(2023)06-0657-11DOI 码 10.13394/ki.jgszz.2023.0213收稿日期 2023-10-08 修回日期 2023-11-23金属毛细管在生物医学领域有着广泛的应用。
金属毛细管制成的加样针等医用针管部件是生化分析设备、血气电解质分析仪等体外诊断设备的关键零部件。
在样本吸取和试剂处理过程中,针管的内表面直接与含有多种离子(如钠离子、钾离子和氯离子等)的待测样本和试剂接触[1]。
流体抛光技术流体抛光是一种高效的表面处理技术,它已广泛应用于电子、半导体、光学、精密机械、航空航天等行业。
它具有精度高、速度快、成本低、操作简便等优点。
流体抛光的原理是利用特定的流动介质和研磨颗粒,在被抛光物体表面形成一层稳定的流体膜,研磨颗粒在流体膜中摩擦,从而去除表面的不合适的物质,使其达到平滑度、光洁度、粗糙度的要求。
流体抛光的关键在于选择适当的研磨颗粒和流动介质。
研磨颗粒的大小、形状、硬度和材料种类,决定了其对被抛光物体的研磨能力。
流动介质的粘度、表面张力和化学性质,影响着研磨颗粒与被抛光物体表面的接触力和效果。
还需要控制流动介质的流速和压力,以确保研磨颗粒和流体膜在表面均匀分布,达到均匀的抛光效果。
流体抛光可以分为精密抛光和化学机械抛光。
精密抛光是通过机械研磨,使被抛光物体表面达到高精度、高光洁度。
它广泛应用于光学仪器、精密仪器等行业。
化学机械抛光是在流体抛光的基础上,加入了化学反应,并根据反应条件来控制抛光速度和成分的变化。
化学机械抛光常用于半导体工艺中的晶圆抛光。
流体抛光的优点是高效、快速、成本低。
相对于传统的机械抛光、化学腐蚀和激光加工等技术,流体抛光可以在保证精度的情况下,减少加工时间和成本。
另外,由于流体抛光对被抛光物体表面的损伤非常小,因此对于一些脆性材料来说,流体抛光是一种比较优秀的表面处理方式。
但流体抛光也存在一些问题。
一是所选用的研磨颗粒、流动介质等条件较为苛刻,需要进行大量的研究和实验;二是流体抛光会成为生产过程中的污染源,需要进行配套的废水处理和污染控制。
总的来说,流体抛光技术具有广阔的应用前景和研究价值,在各个领域中都将扮演着重要的角色。
流体抛光原理流体抛光(fluid polishing)是一种通过流体动力学原理进行表面抛光的方法。
它是一种高效、精确的表面抛光技术,在许多应用领域得到了广泛的应用,如光学器件、半导体制造、航空航天等。
流体抛光的原理基于流体在表面上形成的流动层,利用流动中携带的磨料颗粒产生摩擦作用,从而使表面得到抛光,达到一定的平滑度和光泽度。
这种流动层与传统磨料研磨相比,能够更好地控制磨料的接触压力和摩擦力,从而最大限度地减少表面的破损和变形。
流体抛光的基本原理是通过流体的作用形成动态的流动层,这个流动层既包含磨料颗粒,又包含基体上被磨削的物质。
在流动层中,磨料颗粒随着流体的流动产生旋转和剪切,并不断与表面摩擦,达到物质的研磨和抛光效果。
流体抛光的磨削是一种流体动力学过程,既包括物质的磨损和去除,也包括物质的迁移和填平。
流体抛光的过程可以分为两个基本步骤:切削和抛光。
在切削阶段,流体中的磨料颗粒对表面的凹陷部分进行切削,使表面变得更加平整。
切削过程中,磨料颗粒不断地与表面接触,产生摩擦力,从而将表面的凸起物切削去除。
在抛光阶段,流体中的磨料颗粒不再以切削为主要方式,而是以填平和平滑表面为主要目的。
抛光过程中,磨料颗粒填充在凹陷的表面上,填平不均匀和粗糙的区域,使表面变得光滑。
流体抛光的效果取决于多个因素,如磨料颗粒的形状和大小、流体的流速和黏度、磨料颗粒与表面的接触力等。
磨料颗粒的形状和大小决定了其切削和填平的效果,较大的颗粒可以更快地填平表面的凹陷,但也容易产生划痕;较小的颗粒可以更好地进行切削和抛光,但耗时较长。
流体的流速和黏度会直接影响流动层的形成和流动性,高速流动可以加强抛光效果,但也容易造成表面的破损。
总而言之,流体抛光是一种基于流体动力学原理的表面抛光技术,通过流动层中的磨料颗粒在表面摩擦的作用下,实现对表面的磨削和抛光。
它具有高效、精确的特点,在一些对表面质量要求较高的应用领域得到了广泛应用。
随着科学技术的不断进步,流体抛光技术将会在更多领域发挥重要作用,为实现更高质量的表面加工提供有效途径。
《基于流体拓扑优化的磨料流流道设计方法研究》篇一一、引言在制造业中,磨料流技术是一种广泛使用的材料加工与抛光技术。
它利用了磨料颗粒与工件表面之间的相对运动,以实现材料的去除和表面精整。
然而,磨料流技术的效果和效率在很大程度上取决于流道的设计。
因此,本文提出了一种基于流体拓扑优化的磨料流流道设计方法,旨在提高磨料流技术的加工效率和抛光效果。
二、流道设计的重要性磨料流流道的设计是磨料流技术中的关键环节。
合理的流道设计可以确保磨料颗粒在流道中均匀分布,从而保证加工过程的稳定性和加工质量。
此外,良好的流道设计还能提高磨料颗粒的利用率,降低能耗,减少废弃物的产生。
因此,研究基于流体拓扑优化的流道设计方法具有重要的实际意义。
三、流体拓扑优化理论流体拓扑优化是一种基于计算机模拟和优化算法的流体设计方法。
它通过分析流体的流动特性,优化流道的形状和结构,以达到提高流体性能的目的。
在磨料流流道设计中,流体拓扑优化理论可以帮助我们更好地理解磨料颗粒在流道中的流动规律,从而设计出更合理的流道结构。
四、基于流体拓扑优化的磨料流流道设计方法1. 建立流道模型:根据磨料流技术的要求和工件的形状,建立流道的初步模型。
2. 流体模拟:利用计算机模拟软件对流道进行流体模拟,分析磨料颗粒在流道中的流动特性。
3. 拓扑优化:根据流体模拟的结果,利用优化算法对流道进行拓扑优化,调整流道的形状和结构。
4. 设计迭代:将优化后的流道模型应用于实际加工中,根据加工效果进行迭代设计,不断优化流道结构。
5. 最终设计:经过多次迭代设计后,得到最优的磨料流流道设计方案。
五、实验与分析为了验证基于流体拓扑优化的磨料流流道设计方法的有效性,我们进行了一系列的实验。
实验结果表明,经过流体拓扑优化设计的流道,磨料颗粒在流道中的分布更加均匀,加工过程的稳定性得到了显著提高。
同时,加工效率和抛光效果也得到了明显的提升。
此外,优化后的流道还提高了磨料颗粒的利用率,降低了能耗和废弃物的产生。
流体抛光技术研究精密零件制造中的最终精加工是一种劳动强度大而不易控制的过程,它在全部制造成本中所占的比重有时可高达15%。
磨料流加工技术是一种能够保证精度、效率、经济的自动化光整加工方法,是解决精密零件最终精加工的一种有效方法[1]。
它是以一定的压力强迫含磨料的粘弹性物质(半流动状态的蠕变体或粘弹性体,称其为柔性磨料或粘弹性磨料)通过被加工表面,利用其中磨粒的刮削作用去除工件表面微观不平材料而达到对工件表面光整加工的目的。
磨料流加工是20世纪60 年代由美国两公司独立发展起来的,最初应用于航空、航天领域的复杂几何形状合金工件的去毛刺加工。
随着科学技术的飞跃发展,在宇航、导弹、电子、计算机等精密机械零件的工艺性能要求不断提高的情况下,以前用手工、机械、化学等方法对零件表面进行抛光、倒角、去毛刺均有其局限性,特别是对零件内小孔径、相互交叉的孔径及边棱进行抛光、倒角、去毛刺更是无能为力;而磨料流加工技术由于具有对零件隐蔽部位的孔、型腔研磨、抛光、倒圆角的作用,又有对外表面各种复杂型面研磨、抛光的能力,因而具有其它方法无法比拟的优越性。
目前,这项技术已应用在宇航和兵器工业,同时也扩展到了纺织、医疗、缝纫、精密齿轮、轴承、模具制造等其它机械行业。
近年来,Fletcher 等研究了磨料流加工中应用的高分子聚合物的热特性和流变性,认为介质的流变性对磨料流加工的成败具有重要的作用。
Davies 和Fletcher 研究了几种配料的流变性与其相应的加工参数之间的关系,结果表明黏度和磨料的比例都会影响温度和介质通过工件时的压力下降,在磨料流加工过程中温度是影响介质黏度的一个重要因素。
Williams 和Rajurkar 的研究表明,介质的黏度和挤压力主要决定着表面的粗糙度和材料去除率,表面粗糙度精度的改善主要发生在磨料介质的前几个挤压往复行程中,并提出了估算动态有效切削磨粒数目的方法和每个行程中磨粒磨损量的计算方法。
他们还提出了多孔抛光中金属去除分布的实验方法与定量分析方法,发现用磨料流加工一个具有中心孔和四个外围孔的工件时,中心孔的金属去除率比外围孔的金属去除率高30%。
由于目前尚缺乏对传统以及特种加工过的工件表面进行磨料流加工的合理工艺数据,williams 等还开展了对车、铣、磨和电火花加工表面的磨料流加工研究,研究内容包括加工表面的材料去除和表面粗糙度的改善。
研究表明,初始的表面状况对材料去除量有很大影响,而且能够满足对表面粗糙度改善的要求,特别是磨料流加工可以大大改善所有电火花加工表面的状况,磨料介质的黏度对表面状况的改善影响显著;用扫描电子显微镜对磨料流加工表面的研究表明,磨料流加工去除了传统以及特种加工对工件表面的影响,使表面更加均匀一致;磨料流加工与磨削加工之间有许多的相似之处。
磨料流加工至今尚未广泛应用的一个重要原因就是依然缺乏对磨料流加工工艺复杂性的理论认识与理论支持,目前这一工艺只能由工程技术人员主观地人为地进行控制,而不适于大批量生产[2]。
为此,Petri等利用严格的实验技术,考虑了所有的关键参数,对磨料流加工过程提出了一种可预测的过程建模系统,即神经网络,该系统致力于各种产品和各种材料的磨料流加工过程建模。
由于磨料在介质中分布的内在随机性和变量的多样性,磨料流加工工艺的理论和实验研究遇到了很大的阻碍。
同时由于人们缺乏对磨料介质性能以及材料去除的复杂性和随机性的认识了解,磨料流加工工艺的建模也是很复杂的。
在国内王纯、杨建明和王沽针对传统的磨料流加工技术在磨料介质流速增大的情况下容易出现“剪切变稀” 现象从而易失效的不足,研究开发出了磨料流振动抛光机床和相应的加工技术,从而有利于较大幅度提高抛光效率,并提出了磨料流加工流动新的边界条件假设,用简易实验验证了这种假设。
汤勇等对磨料流加工存在的壁面滑动现象进行了实验研究,结果表明:磨料平均速度存在着临界值,在高于平均速度时存在壁面滑动现象,同时壁滑速度随磨料平均速度增加而增大;磨料黏度升高,会使平均速度临界值减小,而壁滑速度增加的程度却增大,存在壁滑是实现磨料流加工的前提条件。
综上所述,有关磨料流加工的研究工作可以归纳为两个方面:一是磨料流加工工艺及加工机理的实验研究;二是磨料流加工工艺的建模技术与加工过程的监控研究。
尽管磨料流加工技术已有50余年的研究和应用历史,而且国内外的一些研究工作者从20世纪70年代以来就一直在不懈地从事着该项技术的研究工作,但该项技术的研究和应用基本上还是停留于实验研究方面,或者说仍处于研究和应用的初级阶段,由于其加工过程只能由工程技术人员主观地进行控制,所以目前主要还是适于单件加工生产,很难推广应用于大规模生产。
这主要是因为目前还缺乏对磨料流加工过程的综合复杂特性的理论支持。
而磨料流加工所用夹具的设计是决定磨料流加工效果甚至是决定磨料流加工成败的一个关键因素。
如夹具上磨料流的进出口位置、大小、方向、数量等的设计确定,对于磨料流在工件型腔或夹具型腔内的压力与流速分布具有重要影响,从而影响其加工的质量和效率。
这样的一些设计问题目前基本上完全依赖于设计人员个人的实践经验,其结构设计是否合理甚至是否达到最优设计,尚不能在设计阶段做出可靠的分析评价,而只能通过实际加工,根据加工的结果对其结构设计进行可行性评价。
实际中大多数的设计尤其是复杂的设计很难保证其一次设计的成功率,往往要经过多次的实验与反复修改,这不仅严重影响了加工生产周期的缩短,而且在无法进行结构设计修改的情况下容易造成夹具或模具的报废,从而造成很大的浪费,增加生产成本,延误市场竞争的战机。
要深入理解和控制磨料流加工过程,就必须更多地了解金属去除与表面生成的机理、过程模型、加工能力和控制方法,而要做到这些并解决上述存在的主要问题,就必须一方面借助于磨料流加工的传统实验研究方法,大量从事于磨料流加工机理和工艺规律的实验研究和数据积累,同时在此基础上充分利用现代数值计算和计算机虚拟仿真技术,开展磨料流加工虚拟技术的研究,从理论上对磨料流加工的过程进行虚拟仿真,实现虚拟制造。
利用磨料流加工虚拟技术可以在设计阶段实现对磨料流加工夹具设计方案的可行性评价以至实现其结构优化设计和磨料流加工过程的优化与监控。
磁流变抛光技术,是利用磁流变抛光液在磁场中的流变性进行抛光[3]。
在高强度的梯度磁场中,磁流变抛光液变硬,成为具有粘塑性的Bingham介质。
当这种介质通过工件与运动盘形成的很小空隙时,对工件表面与之接触的区域产生很大的剪切力,从而使工件表面的材料被去除。
和传统光学精密抛光方法相比较,磁流变抛光具有能够获得质量很高的光学表面、易于实现计算机控制,能够得到比较复杂的面形、去除效率高、不会存在刀具磨损、堵塞现象。
目前已经进行了磁流变抛光光学玻璃的初步研究工作。
配置了适合于光学玻璃研抛的磁流变液,测定了不同加工参数对抛光效率、表面质量的影响。
研究表明,磁流变抛光中工件材料的去除率与抛光盘的转速成正比,并在一定范围内随着外加磁场强度的增强而增大,工件材料的去除量与抛光时间成正比,符合光学玻璃抛光的Preston 方程。
用原子力显微镜对工件进行检测,抛光后的光学玻璃表面粗糙度可以达到1nm左右。
同时,还进行了MRF应用于微晶玻璃抛光的可行性研究,抛光后的微晶玻璃表面粗糙度达到0.684 nm。
磁流变抛光技术的优越性已经逐渐得到行业内的认同。
产品表面质量好,加工效率高,可以有效去除亚表面破坏层,抛光强度可以通过磁场强度等多项参数控制。
磁流变液在磁场作用下形成的“小磨头” 对工件表面进行加工,有利于实现非球面光学原件的加工。
目前,国内对磁流变抛光机理及其他材料的加工研究还不够深入,对大尺寸光学元件的加工更是很少涉及。
根据我国对磁流变抛光技术的研究及其应用现状,应着重研究以下 3 个方面:(1) 磁流变液基础理论的研究,配置出适合抛光加工的性能优良的磁流变液。
(2) 磁流变抛光理论模型的建立,实现非球面光学元件的加工。
(3) 设计出性能优良、经济适用的磁流变抛光机床。
磨料水射流是自19世纪80年代迅速发展起来的一种新技术,和传统加工技术相比,它具有加工时无工具磨损、无热影响,反作用力小、加工柔性高等优点,目前已被广泛应用到多种加工行业,用于加工陶瓷、石英、复合材料等多种材料[8]。
2磨料水射流抛光技术是在磨料水射流加工技术的基础上发展起来的集流体力学、表面技术于一体的一种新型精密加工技术。
目前,国内外对于它的研究还比较少,只有少数学者进行了探索性实验研究,尚未形成系统的研究成果。
理想的磨料水射流抛光加工结果是材料去除量小,表面质量高。
若想得到理想的抛光结果,需选用压力低、磨料尺寸小的磨料水射流,即微磨料水射流。
但目前微磨料水射流的理论还不成熟,有以下主要问题有待解决:(1)微细磨料水射流的形成。
普通的磨料水射流形成是利用文杜里效应引射,使磨料进入水射流的,但Miller发现,当射流直径小于300 ^m时,这种使磨料进入水射流的方式已不能应用。
现在对于微磨料水射流混合机理的研究还少见报道。
(2)磨料团聚。
当磨料颗粒为纳米级时,磨料的表面能很大,在磨料水射流形成过程中,磨料颗粒有团聚趋势。
在磨料水射流精抛光加工时,需要用到纳米级的磨料,而对于磨料水射流中纳米级磨料的分散问题目前还没有解决。
(3)微细磨料加工时发生喷嘴堵塞。
由于微细磨料水射流喷嘴尺寸较小,在射流开关的过程中,极易堵塞。
有的学者利用阀控制磨料进入喷嘴的时间,但同时,阀的快速磨损破坏又成为一个新的问题。
(4)因为对磨料水射流抛光技术的研究刚处于起步阶段,从实验到理论都还没有形成成熟的抛光工艺、理论。
磨料水射流精抛光加工时,材料去除机理是微观去除机理,各种材料的微观去除机理至今还没有定论。
(5)磨料水射流抛光加工(尤其是精抛光加工时),选用的磨料尺寸很小,而喷嘴尺寸由于经济和技术的原因,很难做到很小。
这时,由于喷嘴尺寸与磨料尺寸比很大而引起的尺寸效应,其中的规律尚不清楚。
综上所述,可以看出对于磨料水射流抛光技术的研究还处于初级阶段,今后应从理论、实验两方面对磨料水射流抛光技术进行进一步深入研究。
参考文献[1] 武利生, 李元宗. 磨料流加工研究进展[J]. 金刚石与磨料磨具工程,2005,1:69-73[2] 张凌云, 吴凤林. 磨料流加工技术现状及展望[J]. 机械工程与自动化,2006,13 8(5):166-168[3] 黄春峰, 赖传兴. 现代特种加工技术的发展[J]. 航空精密制造技术,2001(6):14 -20[4] 任红军. 磨粒流工艺技术及其应用[J]. 机械工人,2004(9):21-23[5] 张峰,张学军, 余景池等.磁流变抛光数学模型的建立[J]. 光学技术,2000,26 (2):190-192[6] 尤伟伟, 彭小强,戴一帆。