L12-Al3Li金属间化合物点缺陷浓度的第一原理计算
- 格式:pdf
- 大小:2.31 MB
- 文档页数:9
目录摘要 (1)1金属间化合物的定义 (1)2金属间化合物晶体结构 (1)2.1 金属间化合物晶体结构分类 (1)2.2金属间化合物晶体结构特点 (2)2.2.1几何密排相 (2)2.2.2拓扑密排相 (5)2.3 金属间化合物晶体结构的稳定性 (6)2.3.1几何密排相 (8)2.3.2拓扑密排相 (10)3金属间化合物的电子理论 (11)3.1金属间化合物的结合键形式 (11)3.2合金的基态性质 (12)3.3金属间化合物的电子结构方法 (13)4 总结 (16)5 参考文献 (16)金属间化合物晶体结构、结构稳定性和电子理论摘要为了促进金属间化合物在结构材料方面的应用,首先必须理解金属间化合物的晶体结构、结构稳定性及电子理论。
本文从金属间化合物的定义出发,详细介绍了金属间化合物晶体结构的分类、特点和稳定性,并且为了弄清金属间化合物的结合键形式,从合金的基态性质出发介绍了两种研究金属间化合物电子结构的方法,即第一性原理和固体与分子经验电子理论。
作者认为,金属间化合物的电子结构决定了结合键形式,而结合键形式又决定了结构类型。
根据能量最低最稳定的原则,表征晶体结构的参数应以原子结合能为主,其它参数如原子尺寸、负电性和电子浓度均不够全面,金属间化合物的电子结构计算方法也应着重计算不同结构下的原子结合能。
关键词:金属间化合物,晶体结构,结合键,基态性质,第一性原理1金属间化合物的定义金属间化合物是指由两个或更多的金属组元或类金属组元按比例组成的具有金属基本特性和不同于其组元的长程有序晶体结构的化合物。
金属间化合物具有金属的基本特性,如金属光泽、金属导电性及导热性等。
金属间化合物的晶体结构不同于其组元,为有序的超点阵结构。
组元原子各占据点阵的固定阵点,最大程度地形成异类原子之间的结合。
2金属间化合物晶体结构2.1 金属间化合物晶体结构分类图1为金属间化合物晶体结构的分类,粗略分为两类,即几何密排相(Geometrically Close-packed Phase)和拓扑密排相(Topologically Close-packed Phase)。
缺陷平衡浓度详细推导过程缺陷平衡浓度(Defect Equilibrium Concentration)是材料科学中一个重要的概念,用于描述材料中缺陷的浓度。
在材料中,缺陷是指晶体结构中的缺失、替代或杂质等不完美之处。
缺陷的存在对材料的性质和性能有着重要的影响,因此研究缺陷平衡浓度对于理解材料行为具有重要意义。
缺陷平衡浓度的推导过程可以从热力学的角度出发。
根据热力学原理,材料中的缺陷会趋向于达到平衡状态,即缺陷的生成和消失达到动态平衡。
在平衡状态下,缺陷的生成速率和消失速率相等。
为了推导缺陷平衡浓度,我们可以考虑一个简单的缺陷模型,即点缺陷模型。
在这个模型中,假设材料中存在两种缺陷:空位(Vacancy)和间隙原子(Interstitial)。
空位是晶体中原子缺失形成的缺陷,而间隙原子是晶体中额外插入的原子。
根据热力学原理,空位的生成和消失可以用以下方程描述:\[V \rightleftharpoons V^*\]其中,V表示空位,V*表示空位的活化态。
同样地,间隙原子的生成和消失可以用以下方程描述:\[I \rightleftharpoons I^*\]其中,I表示间隙原子,I*表示间隙原子的活化态。
根据动态平衡的原理,空位的生成速率和消失速率相等,即:\[k_1[V] = k_{-1}[V^*]\]其中,k1和k-1分别表示空位生成和消失的速率常数,[V]和[V*]分别表示空位和空位的活化态的浓度。
同样地,间隙原子的生成速率和消失速率相等,即:\[k_2[I] = k_{-2}[I^*]\]其中,k2和k-2分别表示间隙原子生成和消失的速率常数,[I]和[I*]分别表示间隙原子和间隙原子的活化态的浓度。
在平衡状态下,空位和间隙原子的活化态浓度可以用Boltzmann分布来描述,即:\[ [V^*] = [V] \exp\left(-\frac{E_v}{kT}\right)\]\[ [I^*] = [I] \exp\left(-\frac{E_i}{kT}\right)\]其中,Ev和Ei分别表示空位和间隙原子的活化能,k表示玻尔兹曼常数,T表示温度。
Al-Zr系金属间化合物的第一性原理研究阮海光;黄福祥;钟明君;陈志谦;张照超【摘要】利用基于密度泛函理论的第一性原理赝势平面波法,计算了Al-Zr系3种金属间化合物在0 K时的生产焓、结合能及相关弹性性能,表征了Al_3Zr、Al_2Zr 和AlZr 3种化合物的结构稳定性、硬度和韧/脆性等,并结合总态密度和分波态密度等电子结构分析,揭示了化合物韧/脆性机制。
研究表明:Al_3Zr、Al_2Zr和AlZr 3种化合物的结构均具有稳定性,Al_2Zr在所计算的化合物中具有最高硬度,Al_3Zr次之,AlZr最低,且所有化合物均表现为脆性。
结合电子结构发现,3种化合物的Al的3s、3p轨道和Zr的4d轨道的价电子具有强烈的杂化作用,从而形成共价键,并导致材料具有低温脆性。
【期刊名称】《重庆理工大学学报》【年(卷),期】2017(031)005【总页数】9页(P60-67)【关键词】第一性原理;铝锆化合物;稳定性;弹性性能;电子结构【作者】阮海光;黄福祥;钟明君;陈志谦;张照超【作者单位】[1]重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆400054 [2]西南大学材料与能源学部,重庆400715;;[1]重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆400054 [2]西南大学材料与能源学部,重庆400715;;[1]重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆400054 [2]西南大学材料与能源学部,重庆400715;;[1]重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆400054 [2]西南大学材料与能源学部,重庆400715;;[1]重庆理工大学材料科学与工程学院,重庆400054 [2]西南大学材料与能源学部,重庆400715【正文语种】中文【中图分类】O482铝合金由于具有优良的综合性能,如比强度和比刚度高、良好的导电性能、耐腐蚀性好,易回收等,目前被广泛用于航天、汽车、电子、生物医学、建筑等领域,并已发展成为继钢铁之后使用最广泛的有色金属材料[1-5]。
点缺陷平衡浓度公式
缺陷平衡浓度是指在半导体材料中,空穴和电子之间达到平衡的浓度。
在点缺陷理论中,空穴和电子通过空位、间隙等缺陷进行扩散和复合,形成平衡状态。
点缺陷平衡浓度公式可以用以下方式表达:
[ n_i^2 = N_c \cdot N_v \cdot e^{-\frac{E_g}{kT}} ]
其中,(n_i) 是固体中自由电子和空穴的浓度,(N_c) 是价带和导带之间的能隙态密度,(N_v) 是价带中的态密度,(E_g) 是材料的能隙,(k) 是玻尔兹曼常数,(T) 是绝对温度。
这个公式描述了在热平衡条件下,自由电子和空穴的浓度与能隙的关系。
当材料的能隙较小,温度较高时,自由电子和空穴的浓度较高;而当能隙较大,温度较低时,浓度较低。
点缺陷平衡浓度公式是半导体物理学中的重要基础公式,对于理解半导体材料的电学性质和缺陷行为具有重要意义。
通过该公式,我们可以计算出材料中自由电子和空穴的浓度,从而进一步研究材料的导电性能和光学性质。
需要注意的是,该公式是在一定假设条件下得出的近似解,实际情况可能会受到其他因素的影响,如杂质掺杂、非平衡态效应等。
因此,在具体应用中需要综合考虑其他因素进行修正和分析。