07.11.2020
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3.5 PDP的制造工艺及装置
由磁控溅射法在整个玻璃基 板上形成ITO膜之后,还要利 用光刻法形成电极的图形。 光刻法的工序如下所述 ①在玻璃整个表面上形成的 膜层表面上涂布光刻胶,所谓 光刻胶是指紫外线感光性树 脂,分紫外线照射硬化的负型 和紫外线照射分解的正型两 大类; ②中间经过掩模用紫外线照 射光刻胶,使其曝光;
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3.5 PDP的制造工艺及装置
3.5.2.2 汇流电极的形成
透明电极形成之后,接着在其上形成汇流电极。汇 流电极与透明电极成对引起气体放电,同时汇流电极还起 着使透明电极线电阻下降的作用。
利用真空蒸镀或溅射镀膜形成Cr—Cu—Cr三层膜之 后,可由前述的光刻法形成所需要的图形。此外,现在也 在考虑利用其他的方法,例如采用其他金属做成感光浆料, 这样可省去蚀刻工程。
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3.5 PDP的制造工艺及装置
真空蒸镀的原理如图所示。
在真空室中加热坩埚,使其中 的镀料熔化蒸发,蒸发出的原子沉 积在置于坩埚对面的相对较冷的 玻璃基板上。根据镀料熔点、饱 和蒸气压的不同及沉积速率的要 求,可选用电阻蒸发源、电子束蒸 发源、感应加热蒸发源等。真空 蒸镀可在高真空下制取高纯度的 膜层,但要想获得合金膜或化合物 膜,还需要采取其他必要的措施。
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3.5 PDP的制造工艺及装置
3.5.2.5 保护层的形成
前基板制造的最后一道工序是形成保护膜。从名称上看, 该层是覆盖在电极之上,对其起保护作用的绝缘层。但 其作用远不止如此,它还起阴极的作用,具有放出电子、 维持放电状态、限制放电过流等许多重要功能。目前, 保护层所采用的MgO膜是用电子束(electron beam,EB) 加热真空蒸镀法形成的。应该说,PDP至关重要的保护 层,目前无论从材料还是从工艺来讲,都还处于未完全 确定的状态,有待今后进一步开发并采用新的材料、新 的工艺等。