制绒段常见不良及常规解决方法

跳片后果：硅片发生跳动除引起碎片外，即便未破碎的硅片也将因硅 片间的相互接触而导致表面清洗不良，进而引起制绒表面出绒不 均而产生明显色差。
解决方法：硅片跳动主要因IPA不足引起，当硅片在有跳片预兆时， 就应及时往相应槽体一定量IPA（2#或3#槽），一般以2L为单位。 对于已发生较严重跳片的情形，尽量将硅片提至请水槽，并对硅 片进行相应处理（漂洗，硅片分离重新插入花篮等）。
花篮印外，伴有其他异常，需根据其
他相应异常进行工艺调整。
工艺异常及常规解决办法
制绒异常及解决办法：
3、发亮（发亮分大面积发亮及局部发亮） 大面积发亮：
工艺异常及常规解决办法
制绒异常及解决办法：
1、小雨点 小雨点因制绒过程IPA不足引起，IPA不足除引起小雨点外，也使跳片的概率上升， 因此，需予以及时解决。
制绒小雨点表现形式：硅片表面分布有很 细小白点，并且小白点形状呈现为从上而下逐 渐变大，与雨点形状相似，故称为小雨点。小
雨点产生原因为IPA不足导致的消泡不良，根据
制绒异常及解决办法：
2、花篮印 产生花篮印的原因有两种，一为花篮本身洁净度问题；二为制绒工艺有偏差，硅 片花篮接触区制绒差异显示，产生花篮印。 花篮印：花篮印既可为一两个齿位，也
为全部六个齿位。花篮印的存在会造 成B1片，对已制绒的片子可正常释
放，并做不良统计。
花篮自身引起的花篮印一般出现在新花 篮，以及旧花篮很长一段时间闲置未 用。因花篮自身引起的花篮印，硅片 的绒面一般均良好。对该情形，需按 花篮清洗工艺进行花篮清洗，清洗完 后先做小批量验证，验证合格即可正 常生产。 花篮印示意图 因制绒不良导致的花篮印，硅片表面除
挂碱印的危害：挂碱印的存在会导致B1甚至B2 类不良片的出现。 挂碱印的解决：1、首先观察各槽温度是否均在 工艺控制范围内；2、在各槽实际温度均在控
制范围内的前提下，对2#初抛槽及3#漂洗槽
内各补入2L IPA，完成IPA补加后，对后续 清洗第一篮硅片进行跟踪观察，查看问题是 否得到解决；3、若上述调整无效，对初抛预 清洗段进行换液处理。
设备异常及解决办法
鼓泡管堵塞引起制绒异常：
一厂因鼓泡管堵塞引起的制绒异常（发生时段：2009年5月）
设备异常及解决办法
设备异常常规解决流程：
当将问题引致设备异常方面，对设备异常的考证其实相对简单，当前设备异 常主要为含以下四个方面： 1、槽体洁净度 槽体洁净度考察：可采取亲自跟踪的方式，现场要求员工按作业指导书进行正常 的槽体清洁，在有需要的时候，可以要求员工取出槽体底部多孔板，以进行更细 致的槽体清洁； 2、鼓泡的考察 鼓泡的考察：由于我们线上多个槽体气体流量计的标准并不统一，因此，对鼓泡 的考察必须通过肉眼观察予以实现。鼓泡均匀性：鼓泡管上小孔的排布在槽体内 均匀，且占有很大面积比，鼓泡正常时，槽体各处均有大小较为一致的鼓泡；鼓 泡大小的确定：鼓泡大小可由流量计的调节予以实现，具体大小的判定可以要求 线上工段长一起予以确认； 3、加热器的考察 加热器的考察：加热器损坏对制绒有极大影响。考察方法如下：1、采用温度计 （煤油温度计或热电偶温度探测仪）进行温度测定；2、取出槽体多孔板，观察加 热器是否有明显损坏；3、要求设备对加热器加热状体进行测控，以查证是否确实 有异常；（最近案例：一厂6#槽）； 4、热电偶考察 热电偶显示的考察：热电偶显示异常会导致实际制绒温度产生较大偏差，考察方 法为：通过温度计对溶液进行测温，根据其与显示温度的差异判定其是否合格， 在温度偏差较小，且加热器无异常时，可以采取温度补偿的方法进行正常生产； （最近案例：二厂1线6#槽，3线4、5、6槽）。
制绒段常见异常及常规解 决方法
制绒不良树状结构图
片源异常及解决方法
指纹片源于：硅片厂家在硅片清洗过程时进
1、指纹及划痕
划伤区
行裸手插片，或者插片时所穿戴的手套
不能满足隔汗要求（自身来料检有时也
会引入）； 划痕源于：硅片厂家在插片过程的摩擦，同 时也来源于硅片厂家的硅片检验以及我 们公司自身的来料检验。 表现形式：指纹或划伤经制绒后均清晰显现， 制绒后，指纹或划伤区的颜色较正常区 域浅，从而显得该区域略显发白； 解决方法：指纹与划伤在制绒良好时，均不 会导致B2片产生，对B1片贡献也相对较 小。在上述问题产生时，可维持正常生 产时，同时，收集好指纹及划伤片的实 例照片，并进行指纹及划伤片数目大致
片源异常及解决方法
硅片切割后未及时清洗的表现形式：硅片切割后未及时清洗，硅片四周会因风干而导致表面脏污难以 去除，经制绒，表面脏污未去除区的出绒会较正常区域差而导致发白产生。其重要特征为：周边一
圈发白，且具有良好的重复性。
硅片表面脏污未得以完全去除（或硅片表面有机无残留）：硅片表面油污的存在导致硅片在制绒过程 根本难以出绒，硅片的腐蚀变得缓慢，相同条件下的硅片去重较正常情况明显减少。 解决方法：当出现硅片切割后未及时清洗或硅片表面脏污残留（有机洗剂残留）时，硅片的制绒将难
片源异常及解决方法
4、线痕
线痕片大幅存在，线痕片存在的隐患为：深线痕可能导致更高碎片率，多线 线痕可能影响外观并对效率有轻微影响。 线痕表现形式：线痕可从外观直接看出，一般为一根或数根直且细的沟壑（缺照 片）。 对单晶而言，线痕分为单线线痕及多线线痕，单线线痕一因切割断线引起，多 线线痕一般为切割浆料异常引起（如回收液的大量使用）。 对多晶而言，线痕除上述单线线痕及多线线痕外，还存在一种与单线线痕类似的 硬点线痕，硬点线痕产生的方式为多晶铸锭过程，涂层破损或其他因素引起碳原 子扩散进入硅熔体而形成局部碳化硅杂质，碳化硅的存在导致硅片切割时产生断 线，引起硬点线痕。 对于线痕片，其引起的影响相对较小，但由于其更属于隐性干扰，难以估量。因 此，在制绒段发现线痕片时，除非有质量部门的明确标识：线痕片，让步接收， 才可正常进行统一生产。否则，在有线痕片存在时，一律先搁置一边，待得到采 购、质量确认后，才统一进行正常生产。 黑名单：当前因各厂家自身控制以及我们采购、质量的严格把关，线痕片出现极 少。
片源异常及解决方法
脱胶不良解决方法： 脱胶不良在轻微时，脱胶不良区域硅片仍可正常出绒，但其绒面相对较小而较其余区域颜色浅而显发白，
仅对B1类有所贡献，不会造成B2片。对该情况，可维持正常生产，同时，做好不良硅片数目的大致统
计及实例照片的拍摄。 脱胶不良在严重时，脱胶不良区将难以出绒而导致该区域明显发白。此时，脱胶不良将对B2片产生贡献。 对该种情况，对制绒后的硅片可按正常返工工艺进行返工处理；对后续待制绒硅片，可以通过适当增 加氢氧化钠浓度的方式来加快硅片的腐蚀速率，从而减小脱胶不良带来的负面影响。对该情况，也同 样需要做好不良硅片数目的大致统计及实例照片的拍摄。
历史黑名单：脱胶不良出现概率极低，但仍需保持警惕，已发生过脱胶不良的厂家有两家：LDK （125M），比例较高，KMDK（156M），比例较小。
片源异常及解决方法
3、切割后未及时清洗，清洗剂残留（清洗不良， 硅片表面油污未得以完全去除）
硅片切割后未及时清洗（图1）；清洗剂残留（或清洗过程未彻底去除硅片表面油污）（图2、3）
以持续。正常解决流程为：先申请停线，同时，开始进行在线调整，制绒：可通过加大氢氧化钠浓
度，提高制绒温度等方法来加快制绒过程的硅片反应速率；预清洗：采取可去有机的溶液配制进行 硅片表面清洗；若上述方向的调整没有明显改善，可直接停线等待，并与供应商进行积极沟通。
历史黑名单：芯能、顺大 当前黑名单：阳光硅谷 (出现比例极少,上面第四幅图)
指纹区
汇总。
片源异常及解决方法
更多照片：
通过问题反馈及供应商自 身改善，指纹及划伤出 现的概率较之前大幅下 降，但仍有部分厂家硅 片存在较多指纹及划伤。
历史黑名单：晶科、天元、
聚能、东泰、芯能、顺 大 当前：合格供应商中，天
元硅片指纹及划伤出现
的概率仍相对较高
片源异常及解决方法
2、脱胶不良
脱胶不良产生原因：硅片厂家在进行硅片脱胶处理时，硅片粘棒一侧的粘胶（一般为AB胶）没有去除完全， 未去除完全的胶带在后续清洗过程中部分溶解并附于硅片表面。 脱胶不良的表现形式：脱胶不良的硅片经制绒后，在硅片有机物残留区，硅片出绒不全或出绒较小导致该 区域较其他区域发白。脱胶不良产生时，位置固定且一般整体连续出现。
工艺异常及常规解决办法
预清洗异常及解决办法：
1、酒精使用时间过长导致硅片制绒后局部白斑： 该案例发生在刚引入酒精进行预清洗的验证阶段。当酒精清洗时间过长，在硅片 与花篮接触区域，硅片的清洁将难以保证。因该处残余油污的存在，硅片经制绒 后，在硅片与花篮接触处会形成月牙状发白。如下图所示：
判定方法：因酒精清洗不良引起的月牙状白 斑与片源脏污引起的白斑并不相同。因片源 自身引起的白斑一般表现为发白严重，并且 区域较大，位置固定性较差。因酒精清洗异 常引起的白斑主要集中在齿位附近，并且相 对轻微。 解决方法：因酒精清洗异常引起清洗不良而
工艺异常及常规解决办法
尽管存在片源异常、设备异常等因素干扰，但 工艺本身才是制绒段异常的最主要因素。
工艺异常可由预清洗及制绒共同引起： 预清洗：预清洗引起的异常主要包括如下几个方面：1、制绒后硅片未及时清洗， 硅片自然风干引起表面出绒不均；2、预清洗酒精使用时间过长，硅片表面有机物 残留；3、初抛槽中IPA不足引起硅片跳动，消泡不良引起局部挂碱；4、初抛后 漂洗槽温度过低引起挂碱印残留；4、初抛后漂洗槽IPA不足引起硅片发生跳动。 制绒异常：制绒异常可直接归总于工艺条件的偏离或与所生产硅片的匹配性存在 较大差异。因制绒条件偏离或与待制绒硅片匹配性差异，制绒后的硅片表面将产 生一系列不良，主要包括局部发亮、整体发亮、整体发白、边角发白、大面积水 纹印、表面白点、小雨点等。
预清洗风干引起的局部白斑
半个小时内。
工艺异常及常规解决办法
预清洗异常及解决办法：
4、硅片预清洗过程挂碱或清洗工艺不匹配导致硅片表面脏污未能去除： 挂碱：挂碱仅在初抛预清洗工艺中出现，产生原因有二：1、初抛液中IPA不足，或者 初抛液使用至后期，初抛液中硅酸钠含量大幅升高导致溶液粘度增大；2、初抛后 的漂洗槽（3#）温度过低，硅片清洗后的表面残留物未完全去除。 挂碱现象：初抛挂碱，将导致硅片经制绒后表面有较明显的挂碱印记，如下图所示：