第三代半导体材料在LED产业中的发展和应用
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第三代半导体材料
第三代半导体材料指的是新型半导体材料,其在半导体器件中具有更高的性能和更广泛的应用领域。
与传统的硅材料相比,第三代半导体材料具有更高的能隙、更高的电子迁移率和更好的光电特性,因而被广泛用于太阳能电池、发光二极管、激光器等领域。
第三代半导体材料之一是氮化镓(GaN),它具有高的热稳定性、高的饱和电流密度和高的耐压能力。
这使得它可以用于制造高功率的激光器和器件。
另外,GaN还可以用于制造蓝光
和白光LED,其具有较高的光效和长寿命。
另外一种第三代半导体材料是碳化硅(SiC),它具有更高的
能隙和更好的热稳定性。
因此,SiC可以用于制造高频、高温
和高功率应用的器件,比如电力电子器件、射频功率放大器等。
此外,磷化铟(InP)也被广泛用作第三代半导体材料,它具
有较高的电子迁移率和较好的光电特性。
因此,InP可以用于
制造高频、高亮度的LED和激光器。
相比于传统的硅材料,第三代半导体材料具有更高的能效、更高的功率密度和更好的性能稳定性。
例如,第三代太阳能电池可以实现更高的光电转换效率,第三代LED可以实现更高的
亮度和更长的寿命,第三代激光器可以实现更高的输出功率和更窄的光谱。
第三代半导体材料的发展对于推动能源转型和促进科技创新具
有重要意义。
它不仅可以提高电子器件的性能,还可以降低能源消耗。
因此,未来的发展方向应当是进一步研发和应用第三代半导体材料,以满足人们对高效能源和高性能电子器件的需求。
第三代半导体材料的应用
随着科技的飞速发展,半导体材料在电子、通信、光电子等领域中发挥着越来越重要的作用。
目前,第三代半导体材料已经成为了研究的热点之一,其包括氮化镓、碳化硅、氮化铝等,具有高频率、高功率、高温度、高亮度等特性,被广泛应用于光电子、电力电子、微电子等领域。
在光电子领域,第三代半导体材料的应用主要包括LED照明、激光器、太阳能电池等。
其中,氮化镓材料制成的LED照明具有高亮度、节能、长寿命等优点,正在逐步替代传统照明设备;而碳化硅材料制成的激光器则被广泛应用于高功率激光加工、医疗美容等领域。
在电力电子领域,第三代半导体材料的应用主要包括功率器件、电子变压器等。
氮化铝材料制成的功率器件具有高频率、高功率、高可靠性等特点,广泛应用于电力转换、电动汽车等领域;而碳化硅材料制成的电子变压器则被广泛用于高速列车、航空航天等领域。
在微电子领域,第三代半导体材料的应用主要包括射频器件、传感器等。
氮化镓材料制成的射频器件具有高频率、低噪声、低功耗等优点,广泛应用于5G通信、卫星通信等领域;而碳化硅材料制成的传感器则被广泛用于环境监测、智能家居等领域。
总之,第三代半导体材料的应用正在不断扩大,为电子、通信、光电子等领域的发展带来了新的机遇和挑战。
未来,随着技术的不断进步,第三代半导体材料的应用前景将会更加广阔。
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一、行业概况1、定义以碳化硅⑸Q、氮化钱(GaN)、氧化锌亿nO)、金刚石、氮化铝(AIN)为代表的宽禁带半导体材料,被称为第三代半导体材料,目前发展较为成熟的是碳化硅(SiC)和氮化线(GaN)。
与传统材料相比,第三代半导体材料更适合制造耐高温、耐高压、耐大电流的高频大功率器件,因此,其为基础制成的第三代半导体具备更宽的禁带宽度、更高的击穿电场、更高的导热率,以及更强的抗辐射能力等诸多优势,在高温、高频、强辐射等环境下被广泛应用。
第三代半导体主要包括碳化硅⑸C)、氮化铝(A1N)、氮化钱(GaN)、金刚石、氧化锌亿nθ),其中,碳化硅(SiC)和氮化钱(GaN)并称为第三代半导体材料的“双雄”,是第三代半导体材料的典型代表。
奥料来源:前瞻产北研究院@前瞻经济学人APP2、产业链剖析:产业链涉及多个环节第三代半导体产业链分为上游原材料供应,中游第三代半导体制造和下游第三代半导体器件环节。
上游原材料包括衬底和外延片;中游包括第三代半导体设计、晶圆制造和封装测试;下游为第三代半导体器件应用,包括微波射频器件、电力电子器件和光电子器件等。
中国第三代半导体行业产业链如下:第三代半导体产业链各个环节国内均有企业涉足。
从事衬底片的国内厂商主要用露笑科技、三安光电、天科合达、山东天岳、维微科技、科恒晶体、线铝光电等等;从事外延片生产的厂商主要有瀚天天成、东莞天域、晶湛半导体、聚能晶源、英诺赛科等。
苏州能讯、四川益丰电子、中科院苏州纳米所等;从事第三代半导体器件的厂商较多,包括比亚迪半导体、闻泰科技、华润微、士兰微、斯达半导、扬杰科技、泰科天润等。
中游 下游奥料来源:前瞻产北研究院 @前瞻经济学人APP上游 比代1J 体第代I :H 小■H*第三代看体■■■■………奥料来源:前瞻产北研究院 二、行业发展历程:兴起的时间较短中国第三代半导体兴起的时间较短,2013年,科技部863计划首次将第三代半导体产业列为国家战略发展产业。
半导体材料的应用现状及发展趋势摘要:目前,我国经济发展速度逐渐加快,社会各行各业应用电子设备的数量逐渐增加。
作为高科技产业的基石,半导体材料立足自力更生、自主研发,是实现半导体行业可持续发展的基础。
因此,新时代我们需要更好的做好标准化工作,促进行业可持续发展,共建更加美好的世界。
结合半导体材料的发展历程,研究了半导体材料的应用现状,并针对在电子科学技术领域所应用的半导体材料发展趋势进行探索,明确其发展意义与前景,为未来行业建设提供重要参考。
关键词:半导体材料;应用现状;发展趋势引言半导体材料具有非常特殊的物理和化学属性,在现代社会生产和科技发展中发挥了重要作用,促进了现代科技尤其是电子技术的飞速发展。
自20世纪50年代以来,半导体材料在全球得到了广泛的应用,并随着能源技术的变革和产业结构的调整而不断地变化和发展,近年来更是向着高性能、低功耗的目标发展。
我国提出了“双碳”目标后,对半导体材料的应用与发展提出了更高的要求,也为半导体行业的创新突破带来了新的契机。
1半导体材料概念简述半导体材料本质上属于一种特殊应用物质,其导电能力介于导体或绝缘体之间,具有良好的应用价值,在电子设备中可以发挥重要作用。
通过应用半导体材料制作相关零部件,能够为大规模集成电路或器件的应用提供重要支持,有利于设备运行速度或稳定性进一步提升。
通常情况下,半导体电子材料的电导率具有固定化特征,同时导电性能表现良好。
若材料温度不断提升,会使电导率随之增加,进而为实现特殊应用功能提供基础条件。
一部分热敏电阻即采用半导体材料的此类特性,实现了根据温度变化而改变的性能表现。
同时还可加入部分杂质,使半导体的形成PN结,为制作二极、三极元件提供基础条件。
一部分半导体材料可以在光照条件变化的情况下出现电学性能转变,因此能够用于制作光敏电阻,实现特殊功能。
此外,还存在一部分半导体材料可以实现温差变化效应,能够用于制作制冷剂等特殊材料。
可以认为,半导体材料应用范围较为广泛,其在社会层面具有良好的开发价值。
相比于传统的硅材料,第三代半导体材料在当今科技迅速发展的时代,半导体材料作为电子器件的核心组成部分扮演着至关重要的角色。
传统的硅材料作为半导体材料的代表,在电子领域发挥着巨大的作用。
然而,随着科技的不断进步,第三代半导体材料逐渐成为了备受关注的研究热点。
1. 第三代半导体材料的定义第三代半导体材料是指相比于传统的硅材料,在性能和应用方面具有更大优势的一类新型材料。
这些材料通常包括氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)和氮化铝(AlN)等。
与硅材料相比,第三代半导体材料在高温、高频、高功率等方面表现更为出色,因此在功率电子器件、光电器件等领域有着广阔的应用前景。
2. 第三代半导体材料的优势第三代半导体材料相比于传统的硅材料具有多方面的优势。
首先,第三代半导体材料具有较高的载流子迁移率和较高的击穿电场强度,因此在功率器件中能够实现更高的功耗密度和更低的导通电阻。
其次,第三代半导体材料的禁带宽度较宽,使得其在高频器件中具有更好的性能表现。
此外,第三代半导体材料的热导率较高,具有良好的热稳定性,适用于高温环境下的工作。
3. 第三代半导体材料的应用随着对高性能、高效能电子器件需求的不断增加,第三代半导体材料在各个领域的应用也在不断扩展。
在功率电子器件领域,氮化镓(GaN)功率器件具有高开关速度和低导通电阻,可以实现更高效的功率转换,被广泛应用于电力系统、电动汽车等领域。
在光电器件领域,碳化硅(SiC)材料在LED、激光器件等方面具有优越的性能,可实现更高亮度、更高效率的光电转换。
总的来说,第三代半导体材料相比于传统的硅材料在性能和应用方面有着明显优势,具有更广阔的发展前景。
随着相关技术的不断创新和完善,第三代半导体材料有望成为未来电子器件领域的主流材料,推动科技领域的不断发展和进步。
三代半导体特点
第三代半导体通常是指氮化镓和碳化硅、氧化锌、氧化铝、金刚石等宽禁带半导体。
它们通常具有以下特点:
1. 高击穿电场:由于其宽禁带的特点,使得这些半导体的临界击穿电场非常高,能够承受更高的电压和电流。
2. 高饱和电子速度:这使得第三代半导体能够以更高的速度运行电子,从而实现更快的开关速度和更高的频率。
3. 高热导率:这些材料的高导热性使其能够更好地散热,从而在高温和高功率条件下稳定工作。
4. 高电子密度和可承受大功率:第三代半导体在电子密度和功率承受能力方面表现优异,使其在电力电子、光电子和微波射频等领域具有广泛的应用前景。
5. 高效节能:这些半导体材料契合了电力电子、光电子和微波射频等领域的节能需求,可有效降低能源损耗,提升能源转换效率。
在具体应用方面:
1. 在电力电子领域,碳化硅功率器件相比硅器件可降低50%以上的能源损耗,减少75%以上的设备装置,有效提升能源转换率。
2. 在光电子领域,氮化镓具有光电转换效率高、散热能力好的优势,适合制造低能耗、大功率的照明器件。
3. 在射频领域,氮化镓射频器件具有效率高、功率密度高、带宽大的优势,带来高效、节能、更小体积的设备。
综上所述,第三代半导体在电力电子、光电子和微波射频等领域
具有广泛的应用前景和巨大的市场潜力。
半导体材料在 LED产业中的发展和应用摘要:现如今,用半导体材料制成的部件、集成电路等是电子工业的重要基础产品,在电子技术的各个方面已大量使用。
半导体材料的发展水平已成为衡量一个国家综合国力的重要标志之一。
基于半导体在LED产业中的发展和应用分析,半导体材料SiC、半导体材料GaN、半导体材料ZnO、单元素晶体金刚石。
通过这种材料的说明,更好的体现LED产业中,半导体材料的价值,从而提升发光效率。
关键词:半导体材料;LED;应用LED 产业目前发展非常迅速, LED 白光照明和全色显示的前景被普遍看好。
宽禁带半导体在LED 产业中的应用是推动LED 产业向前发展的一个重要动力,并已成为很多国家研究和开发的热点。
在如今的信息时代,半导体产业的重要性愈发凸显。
半导体产业不仅是传统产业智能化升级的基础支撑,同时也是推动新兴技术与产业发展的关键所在。
半导体材料是制作半导体器件和集成电路的电子材料,是半导体工业的基础,在半导体产业中扮演了举足轻重的角色,“半导体材料的水平是衡量一个国家精细化工产业水平的重要标志。
一、概述在以硅(S i)为代表的第1代半导体材料、以砷化镓为代表的第2代半导体材料得到广泛应用之后,当下第3代半导体材料开始活跃在时代的舞台。
第3代半导体材料,主要指以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)、氮化铝(AlN)、氧化锌(Zn O)、氧化镓(Ga2O3)和金刚石为代表的宽禁带半导体材料,是支撑信息、能源、交通、国防等产业发展的重点新材料,被认为是对未来综合国力、国防安全具有重大影响的战略技术。
从第3代半导体材料和器件的研究与应用情况来看,当前材料和应用技术发展最快的是SiC和GaN半导体材料,而目前对ZnO、金刚石和AlN等的研究仅限于对材料的制备技术的研究。
SiC和GaN半导体材料主要应用为半导体照明器件(LED)、电力电子器件、射频功率器件、激光器和探测器等4大器件,其中半导体照明产业发展最为迅速,已形成百亿美元的产业规模。
第三代半导体材料集成电路随着科技的不断进步和应用领域的扩大,半导体材料作为电子工业的基础,被广泛应用于集成电路等领域。
而在半导体材料领域,第三代半导体材料的发展已成为研究的热点之一。
本文将重点介绍第三代半导体材料及其在集成电路领域的应用。
一、第三代半导体材料第三代半导体材料是相对于传统半导体材料而言,替代传统半导体材料的一种新型半导体材料。
第三代半导体材料的出现,一方面是为了解决传统半导体材料在功率、速度等方面的限制,另一方面也为了更好地满足电子器件对绿色环保的要求。
1、化合物半导体材料化合物半导体材料主要包括氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等。
其中,氮化镓主要应用于高电源和高频率,碳化硅主要应用于高温和高功率领域。
在集成电路方面,化合物半导体材料的高硬度和高反应性,使得在芯片电路的制作中具有更好的耐久性和加工性能。
2、有机半导体材料有机半导体材料主要是指具有半导体性质的有机材料。
常见的有机半导体材料包括聚合物、小分子材料等。
相对于传统半导体材料而言,有机半导体材料具有更低的成本、更高的可塑性和宽广的应用领域。
有机半导体材料主要应用于平面显示器、生物传感器等领域。
3、无机非晶材料无机非晶材料主要是指没有晶体结构的半导体材料。
这类材料除具有传统半导体的性质外,还具有更好的冲击耐性和耐化学腐蚀性能。
同时,无机非晶材料具有较高的光学散射能力,是太阳能电池和LED灯等高性能光电器件的理想材料选择。
二、第三代半导体材料在集成电路领域的应用随着集成电路领域的不断发展,第三代半导体材料也被广泛应用于芯片电路的制作中,以满足电子器件对功率、速度、耐久性等不同方面的需求。
1、高耐受性芯片电路第三代半导体材料在制作高耐受性芯片电路方面有着优异的性能表现。
在高温、高性能条件下,采用化合物半导体材料制造的芯片电路具有更好的耐受性和更强的电学特性,可以用于制作高速电子器件和高功率电子器件等。
2、绿色环保芯片电路传统半导体材料的加工过程会产生大量的污染物和废弃物,对环境造成很大的压力。
三代半导体功率器件的特点与应用分析一、概览随着科技的飞速发展,半导体功率器件在各个领域得到了广泛的应用,尤其是三代半导体功率器件。
三代半导体功率器件是指以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等新型半导体材料为主要成分的功率器件。
相较于传统的硅基半导体功率器件,三代半导体功率器件具有更高的性能、更低的功耗和更高的可靠性,因此在新能源、智能电网、电动汽车等领域具有巨大的潜力和市场前景。
自20世纪80年代以来,随着半导体材料和工艺的不断进步,三代半导体功率器件逐渐成为研究热点。
从第一代的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)到第二代的双极型晶体管(BJT),再到第三代的功率半导体器件,如肖特基二极管(SBD)、金属有机半导体场效应晶体管(MOSFET)和碳化硅功率器件等,其性能和应用范围都在不断提高。
高性能:与传统硅基半导体功率器件相比,三代半导体功率器件具有更高的工作电压、更高的电流承载能力和更高的开关速度,能够实现更高的能效转换。
低功耗:由于其较低的导通电阻和较高的载流子迁移率,三代半导体功率器件具有较低的功耗,有利于提高系统的整体能效。
高可靠性:三代半导体功率器件具有较低的温升系数和较好的抗辐射性能,能够在恶劣环境下稳定工作,提高了系统的可靠性。
随着三代半导体功率器件性能的不断提升,其在各个领域的应用也日益广泛。
主要应用于新能源汽车、智能电网、太阳能发电、风力发电、储能系统等领域,为实现能源的高效利用和清洁能源的发展提供了有力支持。
此外随着5G通信技术的普及,三代半导体功率器件在无线充电、数据中心等新兴领域也展现出巨大的潜力。
1. 背景介绍随着科技的飞速发展,半导体技术在各个领域都取得了显著的成果。
特别是三代半导体功率器件,因其高效、节能、环保等特点,已经成为现代电力电子、通信、照明等领域的关键元件。
本文将对三代半导体功率器件的特点与应用进行深入分析,以期为相关领域的技术研究和产业发展提供参考。
第三代半导体材料在L ED 产业中的发展和应用3雷 通,王小平,王丽军,张 雷,吕承瑞,王隆洋(上海理工大学理学院,上海200093)摘要 L ED 产业目前发展非常迅速,L ED 白光照明和全色显示的前景被普遍看好。
宽禁带半导体在L ED 产业中的应用是推动L ED 产业向前发展的一个重要动力,并已成为很多国家研究和开发的热点。
目前宽禁带半导体在L ED 产业中发展很快,其应用越来越广泛,相关技术也日渐成熟。
综述了几种具有代表性的第三代半导体材料在L ED 产业中的发展和应用以及各自面临的问题。
关键词 宽禁带半导体材料 SiC GaN ZnO 金刚石 发光二极管中图分类号:TN312.8;TN304Development and Application of the 3rd 2generation 2semiconductors in L ED IndustryL EI Tong ,WAN G Xiaoping ,WAN G Lijun ,ZHAN G Lei ,L U Chengrui ,WAN G Longyang(College of Science ,University of Shanghai for Science and Technology ,Shanghai 200093)Abstract L ED industry is developing very fast now.It ’s widely thought that the white illumination and f ull color display with L ED have a bright f uture.Wide 2band gap semiconductor is a significant impulse in pushing L ED in 2dustry forward ,which has been a hot spot of research and development in many countries.Now it is developing fast in L ED industry with wilder application and more perfect technology skills concerned.In this paper the development and application of several kinds of representative 3rd 2generation 2semiconductors in L ED industry as well as the respective problems occurred subsequently are reviewed.K ey w ord wide 2band gap semiconductor ,SiC ,G aN ,ZnO ,diamond ,L ED 3上海市教育发展基金资助项目(07ZZ95) 雷通:男,1984年生,硕士研究生,主要从事固体薄膜材料的研究 王小平:通讯作者,男,博士,教授,主要从事固体薄膜材料光电特性的研究 E 2mail :wxpchina64@0 引言半导体材料是电阻率在10-5~107Ω・m 范围内、导电能力介于导体与绝缘体之间的材料,是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要基础材料,支撑着通信、计算机、信息家电与网络技术等电子信息产业的发展[1]。
在半导体产业中,一般将Si 、Ge 称为第一代半导体材料;将GaAs (砷化镓)、InP (磷化铟)、GaP (磷化镓)等称为第二代半导体材料;而将宽禁带(E g >2.3eV )的SiC (碳化硅)、GaN (氮化镓)和金刚石等称为第三代半导体材料。
相比第一代、第二代半导体材料,第三代半导体材料有很多重要的优点,例如:禁带宽度大、击穿电压高、热导率大、电子饱和漂移速度快、介电常数小、抗辐射能力强、化学稳定性良好等。
这些优良的性能使其在光电器件、大功率高温电子器件等方面备受青睐。
在L ED (发光二极管)产业,第三代半导体材料也凭借其诸多特性大显身手[2]。
当前L ED 产业蓬勃发展,在某些领域,如交通信号灯、标志照明和大面积显示屏中,L ED 已经得到广泛应用。
很多专家甚至预言半导体照明的时代即将来临。
正是由于第三代半导体材料在L ED 产业中的应用,才突破了蓝色L ED 的技术瓶颈,使得L ED 白光照明和全色显示成为可能,从而极大地推动了L ED 的发展与普及[3]。
常见的第三代半导体材料有GaN 、SiC 、AlN 、ZnSe 、C 2BN 、CdS 、ZnS 、ZnO 和金刚石等,其中在L ED 产业中比较有代表性的是GaN 、SiC 、ZnO 和金刚石。
虽然主要都被用作短波段L ED 的发光材料,但是其各自的发展历程和所处的境况却不尽相同。
1 Ⅳ2Ⅳ族化合物半导体材料SiCSiC 是开发最早的宽禁带半导体材料,在现今已开发的宽禁带半导体中,SiC 是技术发展最成熟的一种。
SiC 晶体结构具有同质多型的特点,即在化学计量成分相同的情况下具有不同的晶体结构,各同质异型体之间的化学性质相同,但在物理性质,特别是半导体性能方面则表现出各自的特性。
目前已被证实的SiC 多形体就超过200种,最常见的SiC 多型体有立方结构的3C 2SiC 和六方结构的6H 2SiC 、4H 2SiC [4]。
SiC 属间接禁带半导体,导致SiC L ED 的发光效率都较低,但是由于研究得很早,所以制造工艺比较成熟,且SiC 蓝色L ED 有耐高温、抗辐射损伤、耐高电压击穿和高频特性好等优点,因此仍得到广泛使用。
最早的SiC蓝色L ED出现在1977年,由于当时生长的SiC单晶片尺寸小而缺陷密度大,因此SiC L ED的进一步发展受到抑制。
1991年Cree Research Inc用改进的Lely法生产出较高质量的6H2SiC晶片,1994年又获得4H2SiC晶片,使得SiC L ED迈上了高速发展的轨道。
目前6H2SiC蓝色L ED已经逐步实现商品化,Cree公司研制的蓝光L ED已投入批量生产,其典型亮度为10mW。
常规的6H2SiC L ED的开启电压是2.5V,输出上升响应时间为1~2μs,在漏电流4A下的反向击穿电压为20V。
发光亮度随注入电流的增加而提高,超过100mA时,由于p2n结结温的提高,使亮度开始饱和。
但若用大于3A的脉冲电流通过L ED就能获得更高的亮度输出。
由于D2A对的复合是SiC蓝色L ED的主要发光机制,所以外延层中的光输出与掺入的杂质有关,特别是n 型层中的Al起着少数载流子的作用,其含量影响着光输出的效率。
现已证明,随着Al含量的增加,不仅L ED外部的量子效率增大,而且其主发射波长也略有增加。
另外,由于六方SiC与GaN晶格与热膨胀相匹配,它又是制造高亮度GaN发光和激光二极管理想的衬底材料[5]。
立方晶体SiC的带隙较小(2.2eV),可以作为绿光L ED 的芯片材料;4H2SiC有着比6H2SiC更宽的带隙(3.265eV),因此4H2SiC L ED的发光波长短于6H2SiC L ED的发光波长,色彩为蓝2紫色。
其典型的开启电压为3.2V,反向击穿电压为30V,发射波长为420nm,谱线半宽度为47nm[6]。
较高亮度SiC蓝色L ED的出现,使得用红、绿、蓝L ED 芯片发光作为三基色的全色彩输出L ED的实现成为可能,为L ED打开了更为广阔的应用领域。
目前已经能够制造出这样的器件,但是由于SiC蓝色L ED的发光亮度远低于红、绿L ED,其发光效率和亮度还有待提高。
除了发光效率低的问题,SiC L ED还需要在以下两方面进行改进:(1)晶片尺寸和价格。
以Cree公司为代表的SiC单晶的研制已取得突破性进展,5.08cm(2in)的4H2和6H2SiC单晶与外延片,以及7.62cm(3in)的4H2SiC单晶已有商品出售,但目前6H2SiC晶片的尺寸还远小于其它半导体材料(如Si、GaAs),且价格比较昂贵,2006年1片5.08cm(2in)SiC单晶片的售价高达500美元[7]。
因此需要改进SiC的生长工艺,制造出大面积且相对便宜的SiC晶片,才能满足工业上大规模批量生产的要求。
(2)晶体缺陷密度。
目前生产的SiC单晶中还存在有微管缺陷,衡量缺陷数量的腐蚀坑密度也偏高,需要对缺陷的来源做进一步研究,生长出更高质量的单晶片[8]。
2 Ⅲ2Ⅴ族化合物半导体材料GaNⅢ2Ⅴ化合物中的GaN、AlN和立方氮化硼等都是比较常见的宽禁带半导体材料,在L ED领域应用得最多的是GaN。
与SiC相比,GaN具有其独特的优势:①是直接跃迁半导体材料;②电子迁移率是SiC的2倍;③已经可用10.16cm(4in)外延片技术;④无微管缺陷;⑤只有1种多型体[7,9]。
虽然发展相对较晚,但是GaN半导体工艺近20年来发展态势极为迅猛,已成为光电领域应用最广泛的第三代半导体材料。
早期的GaN材料中,由于存在着大量氮空位使得材料中的背景电子浓度很高,GaN表现为n型导电体,而p型GaN材料却无法获得。
所以最早的GaN L ED采用的是MIS 结构[10]。
MIS结构的L ED发光效率比较低,仅有0.03%~0.1%,峰值波长约为485nm,FW HM(光谱半峰宽)为70nm,典型工作电压(当输入电流为20mA时)为7.5V,10 mA下具有2mcd的光输出,使用寿命较长。
1983年Y oshida等在蓝宝石衬底上淀积一层AIN作为缓冲层,使GaN的表面结构和晶体质量有了明显的提高。
随后Amano等发现用L EEBI技术能获得p型GaN。
所谓L EEBI是低能电子辐射(Low energy electron beam irradia2 tion)的英文缩写,即将用Mg掺杂的高阻GaN材料进行L EEBI处理,使材料的电阻率大幅度降低并呈现高的空穴浓度。
这两次重大突破为GaN p2n结L ED的产生奠定了基础。
20世纪80年代末,日本名古屋大学的研究人员制作出第一只GaN p2n结L ED[11]。
他们利用低能电子束辐射法对掺Mg GaN进行处理,使GaN的电阻率从108Ω・cm骤降35Ω・cm,空穴浓度为2×1016cm-3,空穴迁移率为8cm2/(V・s),从而实现p2GaN。
他们还利用MOCVD(金属有机物化学气相淀积)在AlN缓冲层上外延生长GaN薄膜。
实验数据证明,p2n结L ED的I2V特性和DC2EL特性都明显优于MIS L ED,且其光谱输出有2个峰,主峰值对应370nm,次峰值对应430nm。